影響氮化鋁陶瓷熱導率的因素：影響氮化鋁陶瓷熱導率的主要因素有晶格的氧含量、致密度、顯微結構、粉體純度等。氧含量及雜質：對于氮化鋁陶瓷來說，由于它對氧的親和作用強烈，氧雜質易于在燒結過程中擴散進入AlN晶格，與多種缺陷直接相關，是影響氮化鋁熱導率的很主要根源。在聲子-缺陷的散射中，起主要作用的是雜質氧和氧化鋁的存在，由于氮化鋁易于水解和氧化，表面形成一層氧化鋁膜，氧化鋁溶入氮化鋁晶格中產生鋁空位。使得氮化鋁晶格出現非諧性，影響聲子散射，從而使氮化鋁陶瓷熱導率急劇降低。氮化鋁還是由六方氮化硼轉變為立方氮化硼的催化劑。金華多孔氮化鋁銷售公司

氮化鋁粉體的成型工藝有多種，傳統的成型工藝諸如模壓，熱壓，等靜壓等均適用。由于氮化鋁粉體的親水性強，為了減少氮化鋁的氧化，成型過程中應盡量避免與水接觸。另外，據中國粉體網編輯了解，熱壓、等靜壓雖然適用于制備高性能的塊體氮化鋁瓷材料，但成本高、生產效率低，無法滿足電子工業對氮化鋁陶瓷基片用量日益增加的需求。為了解決這一問題，近年來人們研究采用流延法成型氮化鋁陶瓷基片。流延法目前已成為電子工業用氮化鋁陶瓷的主要成型工藝。流延成型制備多層氮化鋁陶瓷的主要工藝是：將氮化鋁粉料、燒結助劑、粘結劑、溶劑混合均勻制成漿料，通過流延制成坯片，采用組合模沖成標準片，然后用程控沖床沖成通孔，用絲網印刷印制金屬圖形，將每一個具有功能圖形的生坯片疊加，層壓成多層陶瓷生坯片，在氮氣中約700℃排除粘結劑，然后在1800℃氮氣中進行共燒，電鍍后即形成多層氮化鋁陶瓷。嘉興電絕緣氮化硼廠家直銷AIN陶瓷的金屬化性能較好，可替代有毒性的氧化鈹瓷在電子工業中較廣應用。

由于AlN基板不具有電導性，因此在用作大功率LED散熱基板之前必須對其表面進行金屬化和圖形化。但AlN與金屬是兩類物理化學性質完全不同的材料，兩者差異表現很為突出的就是形成化合物的成鍵方式不同。AlN是強共價鍵化合物，而金屬一般都表現為金屬鍵化合物，因此與其它化學鍵的化合物相比，在高溫下AlN與金屬的浸潤性較差，實現金屬化難度較高。因此，如何實現AlN基板表面金屬化和圖形化成為大功率LED散熱基板發展的一個至關重要問題。目前使用很較廣的AlN基板金屬化的方法主要有：機械連接法、厚膜法、活性金屬釬焊法、共燒法、薄膜法、直接覆銅法。

氮化鋁的應用：壓電裝置應用：氮化鋁具備高電阻率，高熱導率(為Al2O3的8-10倍)，與硅相近的低膨脹系數，是高溫和高功率的電子器件的理想材料。電子封裝基片材料：常用的陶瓷基片材料有氧化鈹、氧化鋁、氮化鋁等，其中氧化鋁陶瓷基板的熱導率低，熱膨脹系數和硅不太匹配；氧化鈹雖然有優良的性能，但其粉末有劇毒。在現有可作為基板材料使用的陶瓷材料中，氮化硅陶瓷抗彎強度很高，耐磨性好，是綜合機械性能很好的陶瓷材料，同時其熱膨脹系數很小。而氮化鋁陶瓷具有高熱導率、好的抗熱沖擊性、高溫下依然擁有良好的力學性能。氮化鋁，共價鍵化合物，化學式為AIN，是原子晶體，屬類金剛石氮化物、六方晶系。

燒結是指陶瓷粉體經壓力壓制后形成的素坯在高溫下的致密化過程,在燒結溫度下陶瓷粉末顆粒相互鍵聯，晶粒長大，晶界和坯體內空隙逐漸減少，坯體體積收縮，致密度增大，直至形成具有一定強度的多晶燒結體。氮化鋁作為共價鍵化合物，難以進行固相燒結。通常采用液相燒結機制，即向氮化鋁原料粉末中加入能夠生成液相的燒結助劑，并通過溶解產生液相，促進燒結。AlN燒結動力：粉末的比表面能、晶格缺陷、固液相之間的毛細力等。要制備高熱導率的AlN陶瓷，在燒結工藝中必須解決兩個問題：是要提高材料的致密度，第二是在高溫燒結時，要盡量避免氧原子溶入的晶格中。陶瓷注射成型技術在制備復雜小部件方面有著其不可比擬的獨特優勢。嘉興電絕緣氮化硼廠家直銷

制約氮化鋁商品化的主要因素就是價格問題。金華多孔氮化鋁銷售公司

機械連接法的特點是采取合理的結構設計將AlN基板與金屬連接在一起，主要有熱套連接和螺栓連接兩種。機械連接方法具有工藝簡單，可行性好等特點，但它常常會產生應力集中，并且不適用于高溫環境。厚膜法是通過絲網印刷在AlN基板表面涂刷一層導體漿料，經燒結形成引線接點及電路。厚膜導體漿料一般由導電金屬粉末（Au、Ag、Cu等，粒度為1-5μm）、玻璃粘結劑和有機載體（包括表面活性劑、有機溶劑和增稠劑等）經混合球磨而成。其中導電金屬粉末決定了漿料成膜后的電學性能和機械性能，玻璃粘結劑的作用是粘結導電金屬粉末與基體材料并決定了兩者之的粘結強度，有機載體作為溶劑將金屬粉末與粘結劑混合在一起。金華多孔氮化鋁銷售公司

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