本征半導體:不含雜質且無晶格缺陷的半導體稱為本征半導體。在極低溫度下,半導體的價帶是滿帶,受到熱激發后,價帶中的部分電子會越過禁帶進入能量較高的空帶,空帶中存在電子后成為導帶,價帶中缺少一個電子后形成一個帶正電的空位,稱為空穴。空穴導電并不是實際運動,而是一種等效。電子導電時等電量的空穴會沿其反方向運動。它們在外電場作用下產生定向運動而形成宏觀電流,分別稱為電子導電和空穴導電。
這種由于電子-空穴對的產生而形成的混合型導電稱為本征導電。導帶中的電子會落入空穴,電子-空穴對消失,稱為復合。復合時釋放出的能量變成電磁輻射(發光)或晶格的熱振動能量(發熱)。
在一定溫度下,電子-空穴對的產生和復合同時存在并達到動態平衡,此時半導體具有一定的載流子密度,從而具有一定的電阻率。溫度升高時,將產生更多的電子-空穴對,載流子密度增加,電阻率減小。無晶格缺陷的純凈半導體的電阻率較大,實際應用不多。 無錫微原電子科技,半導體器件行業的創新之旅,永無止境!徐匯區推廣半導體器件
載流子的濃度與溫度的關系:溫度一定,本征半導體中載流子的濃度是一定的,并且自由電子與空穴的濃度相等。當溫度升高時,熱運動加劇,掙脫共價鍵束縛的自由電子增多,空穴也隨之增多(即載流子的濃度升高),導電性能增強;當溫度降低,則載流子的濃度降低,導電性能變差。結論:本征半導體的導電性能與溫度有關。半導體材料性能對溫度的敏感性,可制作熱敏和光敏器件,又造成半導體器件溫度穩定性差的原因。雜質半導體:通過擴散工藝,在本征半導體中摻入少量合適的雜質元素,可得到雜質半導體。N型半導體:在純凈的硅晶體中摻入五價元素(如磷),使之取代晶格中硅原子的位置,就形成了N型半導體。多數載流子:N型半導體中,自由電子的濃度大于空穴的濃度,稱為多數載流子,簡稱多子。少數載流子:N型半導體中,空穴為少數載流子,簡稱少子。施子原子:雜質原子可以提供電子,稱施子原子。徐匯區推廣半導體器件探索半導體器件的無限潛力,無錫微原電子科技與你同行!
設備按照終端數量可以分為二端設備、三端設備和多端設備。目前***使用的固態器件包括晶體管、場效應晶體管(FET)、晶閘管(SCR)、二極管(整流器)和發光二極管(LED)。半導體器件可以用作單獨的組件,也可以用作集成多個器件的集成電路,這些器件可以在單個基板上以相同的制造工藝制造。
三端設備:
晶體管結型晶體管達林頓晶體管場效應晶體管 (FET)絕緣柵雙極晶體管 (IGBT)單結晶體管光電晶體管靜態感應晶體管(SI 晶體管)晶閘管(SCR)門極可關斷晶閘管(GTO)雙向可控硅開關集成門極換流晶閘管 (IGCT)光觸發晶閘管(LTT)靜態感應晶閘管(SI晶閘管)。
半導體器件材料和性能?
大多數半導體使用單晶硅,但使用的其他材料包括鍺、砷化鎵(GaAs)、砷化鎵、氮化鎵(GaN)和碳化硅(SiC)。半導體材料的導電率是由晶體結構中引起自由電子過剩和缺乏的雜質決定的,一般是通過多數載流子(N型半導體中的電子,P型半導體中的空穴)來負責的,但是,各種半導體,例如晶體管為了在器件中工作,需要少數載流子(N型半導體中的空穴和P型半導體中的電子)。半導體的整流效應(*在一個方向上通過電流的特性)**初是在方鉛礦晶體中發現的。早期的無線電接收器(礦石無線電)是在方鉛礦晶體的表面上發現的,上面涂有稱為“貓須”的鉛存儲工具。據說,使用了稱為“”的細金屬線的輕微接觸。 探索半導體器件的未知領域,無錫微原電子科技敢于挑戰自我!
半導體的分類,按照其制造技術可以分為:集成電路器件,分立器件、光電半導體、邏輯IC、模擬IC、儲存器等大類,一般來說這些還會被分成小類。此外還有以應用領域、設計方法等進行分類,雖然不常用,但還是按照IC、LSI、VLSI(超大LSI)及其規模進行分類的方法。此外,還有按照其所處理的信號,可以分成模擬、數字、模擬數字混成及功能進行分類的方法。
電阻率介于金屬和絕緣體之間并有負的電阻溫度系數的物質。半導體室溫時電阻率約在10E-5~10E7歐·米之間,溫度升高時電阻率指數則減小。半導體材料很多,按化學成分可分為元素半導體和化合物半導體兩大類。 想知道與貴司進行合作的基本條件。推廣半導體器件是什么
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把晶體二極管、三極管以及電阻電容都制作在同一塊硅芯片上,稱為集成電路。一塊硅芯片上集成的元件數小于 100個的稱為小規模集成電路,從 100個元件到1000 個元件的稱為中規模集成電路,從1000 個元件到100000 個元件的稱為大規模集成電路,100000 個元件以上的稱為超大規模集成電路。集成電路是當前發展計算機所必需的基礎電子器件。許多工業先進國家都十分重視集成電路工業的發展。集成電路的集成度以每年增加一倍的速度在增長。每個芯片上集成256千位的MOS隨機存儲器已研制成功,正在向1兆位 MOS隨機存儲器探索。徐匯區推廣半導體器件
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