平面反射鏡，反射面是一個平面，是一種能夠用于多種應用的反射鏡，包括光束轉折、干涉測量，或在成像系統中用作為光學組件。平面反射鏡重要參數為：面型及反射率。高表面精度能夠降低因色散造成的光線損失量。晶亮光電提供不鍍膜、鍍反射膜的反射鏡，反射膜選項包括普通保護性鋁膜、保護性紫外反射鋁膜、保護性銀膜、保護性金膜。熔融石英基片合用于紫外應用。平凹球面反射鏡，反射面為球面的一部分，平行入射光線經球面反射可以匯聚到一點，具有正的焦距。平凹球面反射鏡的焦距為球面曲率半徑的一半。晶亮光電提供不鍍膜、鍍反射膜的球面反射鏡，反射膜選項包括普通保護性鋁膜、保護性紫外反射鋁膜、保護性銀膜、保護性金膜或介質高反膜。過去在反射鏡制造時，常常在玻璃上鍍銀。安徽反射鏡設計

為應用選擇合適的反射鏡需要考慮許多因素，包括反射率、激光損傷、鍍膜的穩定性、基底的熱膨脹、波前畸變、光的散射和成本。反射鏡的特性取決于光學鍍膜、基底和表面質量。鍍膜決定了鏡子的反射率和穩定性，是反射鏡較關鍵的部件。反射鏡膜通常由金屬材料或者介電材料制成。反射鏡較為常見的應用情況是光從空氣（n1=1）入射到材料膜層上時，由上面公式給出的反射率只取決于材料的折射率（n2）。由于其導電性，金屬材料的折射率為復數，在很寬的波長范圍內虛部很大。這產生了對波長不敏感的高反射率，使得金屬反射鏡具有光澤外觀。金屬膜層通常由銀、金或者鋁制成，得到的反射鏡可以在很寬的光譜范圍內使用。微晶反射鏡現貨平面反射鏡把陽光集中反射在拋物面鏡上，拋物面鏡使其聚焦。

反射鏡金屬膜層通常由銀、金或者鋁制成，得到的反射鏡可以在很寬的光譜范圍內使用）。金屬膜層相對較軟，因而容易損壞，清潔時必須特別小心。電介質膜層的反射鏡更耐用，更易于清潔，且損傷閾值更高。然而，由于其色散作用且折射率主要是實部，電介質反射鏡的反射光譜窄，通常用于VIS和NIR光譜區域。與金屬膜層相比，電介質膜層的設計具有更大的靈活性。與金屬反射鏡相比，電介質反射鏡能夠在某些光譜范圍內提供更高的反射率，并可提供定制的光譜響應。

隨著空間光學的發展，遙感器的口徑越來越大，分辨率越來越高，這就導致遙感器的主反射鏡口徑和質量越來越大。主反射鏡的設計是否合理，將直接影響遙感器的質量和成像質量。因此采用拓撲優化方法與有限元計算方法相結合，以NASTRAN為有限元解算器，以PATRAN為前處理器，在空間光學遙感器主反射鏡外形、載荷、環境工況確定的情況下，對其結構進行拓撲優化，得到較優結構形式。通過對優化前后結構進行有限元分析，結果表明：優化后的反射鏡鏡面面形比傳統的鏡面面形減小或相當，質量減輕32%，動力學性能改善。優化后的主反射鏡結構能夠滿足加工、工藝和裝配的技術要求。這種優化與有限元分析技術的結合將為以后的光學反射鏡的設計提供有效的幫助。反射率是反射光功率所占的百分比，通常它與波長和入射角有關，還與偏振方向有關。

碳化硅反射鏡制備工藝：1、反應燒結法。反應燒結是一種較為常見的反射鏡制備工藝，這種工藝采用具有反應活性的液態硅浸滲含碳的反射鏡預制體，硅與碳反應生成的新碳化硅原位地結合預制體中原有的碳化硅顆粒，并填充預制體中剩余的孔隙，然后得到近乎完全致密的反射鏡毛坯。2、化學氣相沉積法。化學氣相沉積法是在溫度為1275℃～1350℃的反應容器內，通入一種氣體或幾種氣體的混合氣，在石墨或其它物質的基片上得到碳化硅的沉積層。3、熱壓(或熱等靜壓)法。熱壓(或熱等靜壓)燒結的主要工藝步驟：把微米級的碳化硅粉和助燒劑以及阻止晶粒過分長大的添加劑混合后預壓成預制體，然后將這種預制體用合適的封裝材料封裝后放入壓力腔中，在合適的溫度-壓力-時間制度下進行燒結。反射鏡的質量必須符合設計要求或合同要求，并有出廠檢驗報告。激光器反射鏡制作費用

激光反射鏡能起到在激光管內改變光線的作用，起到減少激光管長度的作用。安徽反射鏡設計

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