【光學鍍膜的目的】： &反射率的提高或透射率的降低 &反射率的降低或透射率的提高 &分光作用：中性分光、變se分光、偏極光分光 &光譜帶通、帶止及長波通或短波通之濾光作用 &相位改變 &液晶顯示功能之影顯 &se光顯示、se光反射、偽chao及有價證券之防止 &光波的引導、光開關及集體光路 a. 在膜層中，波的干涉結果，如R%, T%都是與膜質本身和兩邊界邊的折射率率有關系，相位變化也是如此。 b. 由于干涉作用造成的反射率有時升高，有時反而降低，都要視磨蹭的折射率高于或低于基板折射率而定。若Nf>Ns,則反射率會提高（Ns為基底），若Nf

【光學鏡片鍍膜的膜形核過程之三維核生長模式（島狀生長）】三維形核生長模式（島狀生長），三維形核生長模式（Volmec-Weber型），又稱之為沃爾默一韋伯型，是島狀生長模式。光學鏡片鍍膜按這樣方式形成時，首先是吸附于基片表面的一些原子發生遷徙的情況而形成原子團，也就是膜的形核，待至核的尺寸達到某一臨界值，也就是一個穩定的核，而自蒸發源飛向基片的原子就在核上直接凝聚成島狀結構，再將這些小島連接起來而形成連續的一層鍍膜，所以才叫島狀的生長模式。這種膜生長一般是在真空鍍膜的原子間有很大的相互作用力的情況，加上鍍膜原子和基片的原子之間的相互作用力略小時，便會出現這種島狀生長方式而形成鍍膜層。北京集美光學鍍膜設備光學鍍膜設備升級改造。

【光學鍍膜出現劃痕(膜傷)如何處理】劃痕是指膜面內外有道子，膜內的稱劃痕，膜外的稱膜傷。這也是鍍膜品質改善中的一個頑癥，雖然很清楚產生的原因和改善方法但難以根治。 產生原因: 膜內的劃痕: 1.前工程外觀不良殘留，有些劃痕在鍍膜前不容易發現，前工程檢驗和鍍前上傘檢查都不容易發現，而在鍍膜后會將劃痕顯現。 2.各操作過程中的作業過失造成鏡片劃痕。 3.鏡片擺放太密，搬運過程中造成互相磕碰形成劃痕。鏡片的擺放器具、包裝材料造成鏡片表面擦傷。超聲波清洗造成的傷痕。 膜外傷痕(膜傷) 1.鏡片的擺放器具、包裝材料造成的膜傷。 2.鍍后超聲波清洗造成的膜傷。 3.各作業過程作業過失造成的膜傷。 改善思路:檢討個作業過程和相關器具材料，消除劃痕和膜傷。 （一）強化作業員作業規范。 （二）訂立作業過失清單，監督作業員避免作業過失。 （三）改善鏡片擺放間隔。 （四）改善鏡片搬運方法。 （五）改善擺放器具、包裝材料。 （六）改善超聲波清洗工藝參數。 （七）加強前工程檢驗和鍍前檢查

【光學薄膜理論基礎】： 光學薄膜基本上是借由干涉作用而達到效果的。是在光學元件上或獨li的基板上鍍一層或多層的介電質膜或金屬膜或介電質膜或介電質膜與金屬膜組成的膜堆來改變廣播傳到的特性。因此波在薄膜中行進才會發生投射、反射、吸收、散射、相位偏移等變化。 光波經過薄膜后在光譜上會起變化，因此這些變化會使得光學薄膜至少具有下列功能： &反射的提高或穿透的降低 &反射的降低或穿透的提高 &雙se、偏極光的分光作用 &光譜帶通或戒指等濾光作用 &輻射器之光通量調整 &光電資訊的儲存及輸入光學鍍膜設備使用時，需要注意哪些問題?

【光學薄膜的應用前景】光電信息產業中zui有發展前景的通訊、顯示和存儲三大類產品都離不開光學薄膜，如投影機、背投影電視機、數碼照相機、攝像機、DVD，以及光通訊中的DWDM、GFF濾光片等，光學薄膜的性能在很大程度上決定了這些產品的zui終性能。光學薄膜正在突破傳統的范疇，越來越廣fan地滲透到從空間探測器、集成電路、生物芯片、激光器件、液晶顯示到集成光學等各學科領域中，對科學技術的進步和全球經濟的發展都起著重要的作用，研究光學薄膜物理特性及其技術已構成現代科技的一個分支——薄膜光學。光學薄膜技術水平已成為衡量一個國家光電信息等高新技術產業科技發展水平的關鍵技術之一。 增透減反AR膜，主要也是為了應對國內大的風砂。像塵、砂，都會對增透膜產生劃痕方面的影響。這個是增透膜耐濕冷、耐摩擦方面的情況。 光學光學鍍膜設備制造商。湖南高真空光學鍍膜設備

光學鍍膜設備的工作原理。吉林公司 光學鍍膜設備

【柵網型離子源的加速過程】柵網組件通過向每個柵網施加特定電壓以從放電室提取離子。首先，屏柵相對于地為正偏壓(束流電壓)，因此放電室中的等離子體也相對于地為正偏壓。然后，加速柵相對于地為負偏壓(加速電壓)，并沿離子源中心線建立電場，放電室中靠近該電場漂移的正離子被加速。即使不使用減速柵，zui外層的電勢zui終也近似為零。減速柵的電位通常保持在接地電位加速的離子在通過加速柵之后減速并且以近似束流電壓的離子能量從柵網中射出由于已建立的電場，位于放電室或外層的電子被分離開來。吉林公司 光學鍍膜設備

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