多弧離子真空鍍膜機BLL-1350PVD型常規配置；

真空系統真空泵:2X-70SV300E2M275增壓泵:ZJP600WAU2001EH2600高真空泵:分子泵低溫泵擴散泵真空室加熱系統:最高溫度:0到200℃型號:不銹鋼管裝加熱器基片架盤型號:12軸公轉或公自轉，轉速:0到30轉數/分軟啟，軟停，可調速電器控制系統:PC和PLC控制VAC系統:進口復合真空計MFC系統:進口質量流量控制器;進口電磁閥APC系統偏壓電源:直流脈沖電源濺射電源:直流脈沖電源電源;中頻電源弧源:多弧，平面，孿生，柱靶深冷系統:DW-3全程自動控制鍍膜，保障生產產品的一致性，重復性，穩定性。 真空鍍膜機廣泛應用于電子、光學、化工等領域。上海多弧離子真空鍍膜機加工

    風鏡真空鍍膜機是一款高科技產品，它采用先進的真空鍍膜技術，能夠為材質的表面進行高效、均勻的鍍膜處理。作為我們公司的產品，風鏡真空鍍膜機在風鏡、頭盔等領域得到了廣泛的應用。首先，風鏡真空鍍膜機具有高效、穩定的鍍膜效果。它采用先進的真空鍍膜技術，能夠在短時間內完成高質量的鍍膜處理，而且鍍膜效果均勻、穩定，不易出現色差、氣泡等問題。這一特點使得風鏡真空鍍膜機在滑雪鏡、頭盔等產品的生產中得到了廣泛的應用。其次，風鏡真空鍍膜機具有高度的自動化程度。它采用先進的控制系統和自動化設備，能夠實現全自動化的生產過程，提高了生產效率和產品質量。這一特點使得風鏡真空鍍膜機在大規模生產中具有明顯的優勢，能夠滿足客戶的多樣化需求。此外，風鏡真空鍍膜機還具有環保、節能的特點。它采用先進的真空鍍膜技術，不需要使用有害化學物質，對環境沒有污染，同時還能夠節約能源，降低生產成本。這一特點使得風鏡真空鍍膜機在環保、節能意識日益提高的，具有更廣闊的市場前景。總之，風鏡真空鍍膜機是一款高效、穩定、自動化、環保、節能的產品，具有廣泛的應用前景。我們相信，在未來的市場競爭中，風鏡真空鍍膜機將會成為為客戶提供更理想的產品和服務。 江蘇工具刀具鍍膜機供應真空鍍膜機可以鍍制高反射率、高透過率的膜層。

    高真空多層精密光學鍍膜機BLL-1800F型常規配置;

真空系統真空泵:2X-70SV300E2M275增壓泵:ZJP1200WAU2001EH2600高真空泵:分子泵低溫泵擴散泵真空室加熱系統ZUI高溫度:0到400℃型號:不銹鋼管裝加熱器(選擇:紅外線燈管)基片架盤型號:球面型(選擇:平面型，公自轉，多行星型，可調角度行星盤)轉速:0到30轉數/分軟啟，軟停，可調速電器控制系統:PC和PLC控制VAC系統:進口復合真空計MFC系統:進口質量流量控制器;進口電磁閥APC系統鍍膜沉積控制系統:晶控美國產IC-6，XTC-3S/M，INFICON310。石英晶體感應器:1，2，6頭光控控制國產光控(或進口光控)離子源:霍兒源(或考夫曼，RF源)電子束源:10KW180°或270°電子槍深冷系統:真空室麥斯納阱擴散泵冷阱全程自動控制鍍膜以達到產品ZUI終所需要求。

    中頻熱蒸發雙門真空鍍膜機是一種高效、穩定、可靠的鍍膜設備，應用于電子、光學、化工、汽配等領域。該設備采用中頻清洗和鍍制硅油保護膜，硅油控制采用先進技術確保了硅油的穩定性，從而實現高質量的鍍膜效果。中頻熱蒸發雙門真空鍍膜機具有多項優勢。首先，該設備采用雙門結構，可交替裝載工件鍍膜產品，提高了生產效率。其次，該設備采用真空鍍膜技術，能夠在無氧、無塵、無污染的環境下進行鍍膜，保證了產品的質量和穩定性。此外，該設備還具有高度自動化的特點，可實現全自動控制，減少了人工干預，提高了生產效率和產品質量。中頻熱蒸發雙門真空鍍膜機的應用范圍非常多。在電子領域，該設備可用于制造半導體器件、光電器件、顯示器件等；在光學領域，該設備可用于鍍制反射鏡、透鏡、濾光片等；在化工領域，該設備可用于制造防腐蝕涂層、耐磨涂層等；在汽配領域，該設備可用于汽車燈具，飾板等。總之，中頻熱蒸發雙門真空鍍膜機是一種高效、穩定、可靠的鍍膜設備，具有多項優勢和極大的應用范圍。我們相信，該設備將為客戶提供更加穩定的產品和服務。 光學真空鍍膜機是一種高精度的設備，用于在光學元件表面上制備高質量的薄膜。

    高真空多層精密光學鍍膜機BLL-1200F型常規配置;真空系統真空泵:2X-70SV300E2M275增壓泵:ZJP300WAU1001/2001EH1200/EH2600高真空泵:分子泵低溫泵擴散泵真空室加熱系統ZUI高溫度:0到400℃型號:不銹鋼管裝加熱器(選擇:紅外線燈管)基片架盤型號:球面型(選擇:平面型，公自轉，多行星型，可調角度行星盤)轉速:0到30轉數/分軟啟，軟停，可調速電器控制系統:PC和PLC控制VAC系統:進口復合真空計MFC系統:進口質量流量控制器;進口電磁閥APC系統鍍膜沉積控制系統:晶控美國產IC-6，XTC-3S/M，INFICON310.石英晶體感應器:1，2，6頭光控控制國產光控(或進口光控)離子源:霍兒源(或考夫曼，RF源)電子束源:10KW180°或270°電子槍深冷系統:真空室麥斯納阱擴散泵冷阱全程自動控制鍍膜以達到產品ZUI終所需要求。 真空鍍膜機可以實現自動化生產，提高生產效率。江西磁控濺射真空鍍膜機現貨直發

光學真空鍍膜機可以在不同波長范圍內進行鍍膜，如紫外、可見、紅外等。上海多弧離子真空鍍膜機加工

真空鍍膜技術在不斷發展，未來的發展趨勢主要包括以下幾個方面：1.智能化和自動化：隨著工業，真空鍍膜機將更加智能化和自動化。采用先進的控制系統、傳感器技術和數據分析，實現自動監測、調整和優化，提高生產效率和一致性。2.高效能源利用：未來的真空鍍膜機將更注重能源效率。通過優化加熱系統、真空泵系統和其他關鍵組件，以減少能源浪費，降低生產成本，并減少對環境的影響。3.多功能涂層：隨著對功能性涂層需求的增加，未來的真空鍍膜技術將更加注重實現多功能性。例如，兼具抗腐蝕、導電、光學和生物相容性的涂層。4.納米涂層技術：隨著納米技術的不斷發展，真空鍍膜機將更多地應用于制備納米涂層。這些涂層具有特殊的物理和化學性質，可用于生物醫學、電子器件等領域。5.環保技術：未來真空鍍膜技術將更注重環保。采用綠色涂層材料、低污染工藝和環保設備，以滿足對環保和可持續發展的要求。6.新型涂層材料：不斷有新型的涂層材料涌現，例如二維材料、新型金屬合金等，這將推動真空鍍膜技術的創新和應用。7.定制化和柔性生產：隨著定制化需求的增加，未來的真空鍍膜機將更具柔性，能夠適應不同規格和形狀的工件，實現更靈活的生產。 上海多弧離子真空鍍膜機加工