等離子清洗機(jī)(plasma cleaner)是高科技的一款表面處理設(shè)備，通過等離子體來達(dá)到表面處理的作用；獲得清洗、活化、刻蝕、涂層等多方向的應(yīng)用，解決各種行業(yè)的表面處理難題。1、等離子清洗機(jī)原理密閉的反應(yīng)腔體（真空室、真空腔體）被真空泵不斷抽氣，從1個(gè)標(biāo)準(zhǔn)大氣壓下降到設(shè)定的壓力值并維持真空度；通入氬、氫、氮?dú)獾裙に嚉怏w，啟動(dòng)等離子發(fā)生器，讓反應(yīng)腔體內(nèi)電極之間產(chǎn)生高壓交變電場(chǎng)，使得自由電子能量加速，去激發(fā)工藝氣體分子形成等離子體，具有高反應(yīng)活性或高能量的等離子體，會(huì)與有機(jī)污染物及微顆粒污染物反應(yīng)、碰撞形成各種揮發(fā)性物質(zhì)，這些揮發(fā)性物質(zhì)伴隨工藝氣流由真空泵抽取出去，從而達(dá)到被處理對(duì)象表面清潔、活化等目的。等離子體（plasma）是由自由電子和帶電離子為主要成分的物資狀態(tài)，被稱為物資的第四態(tài)。遼寧半導(dǎo)體封裝等離子清洗機(jī)作用

低溫等離子表面處理機(jī)的原理以及作用是什么呢，等離子在氣流的推動(dòng)下到達(dá)被處理物體的表面，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)物體的表面進(jìn)行活化改性。低溫等離子處理機(jī)具有高效、環(huán)保、節(jié)能、節(jié)約空間并降低運(yùn)行成本的優(yōu)勢(shì)，能夠很好的配合產(chǎn)線使用，并且。，等離子火焰能夠深入凹槽和狹小區(qū)域，加強(qiáng)角落處的處理效果，因而，既可以方便您處理平面表面，也可以用來處理復(fù)雜外形。低溫等離子處理機(jī)通常適用于個(gè)行業(yè)中各種各樣的工序中，具體有以下行業(yè)，等離子處理器主要應(yīng)用于印刷包裝行業(yè)、電子行業(yè)、塑膠行業(yè)、家電行業(yè)、汽車工業(yè)、印刷及噴碼行業(yè)，在印刷包裝行業(yè)可直接與全自動(dòng)糊盒機(jī)聯(lián)機(jī)使用。江西大氣等離子清洗機(jī)量大從優(yōu)等離子清洗機(jī)可以用于活化不銹鋼片表面，提高材料表面活性，提高潤(rùn)濕性和表面附著力，解決粘接不良的問題。

汽車儲(chǔ)物盒在做靜電植絨時(shí)，通常會(huì)在基材上膠前加上一層底涂，以使膠水與儲(chǔ)物盒的粘接性更好。采用等離子體表面處理技術(shù)來替代上膠前的上底涂工藝，不僅可以活化表面提高粘接力，而且還能降低成本，工藝更加環(huán)保。為確保汽車車燈的長(zhǎng)期使用壽命，必須對(duì)它們進(jìn)行有效保護(hù)，防止水分進(jìn)入。所以在車燈內(nèi)膠條（凹槽深20mm）粘接工藝前可使用大氣射流等離子進(jìn)行表面活化，提高膠水的黏附性能，從而確保車燈的可靠粘接和長(zhǎng)期密封。在汽車擋風(fēng)玻璃上面印刷油墨或粘接物件，為取得必要的粘結(jié)力，通常會(huì)用化學(xué)底涂方式來處理表面，這些底涂層含有易揮發(fā)的溶劑，一定程度上在以后車輛的使用中會(huì)散發(fā)出來。使用等離子處理可以對(duì)玻璃表面進(jìn)行活化處理，提高粘接性和可靠性，而且更加環(huán)保。

在電子電路行業(yè)中，PCB作為電子產(chǎn)品的主要部件，其表面粘附性對(duì)產(chǎn)品的性能有著直接影響。通過等離子處理，可以提高錫膏與PCB之間的粘附力。有助于確保錫膏印刷的均勻性和穩(wěn)定性，提高電子產(chǎn)品的可靠性和穩(wěn)定性。在PCBA涂敷三防漆前處理中，等離子技術(shù)也發(fā)揮著關(guān)鍵作用。三防漆是一種具有防潮、防塵和防霉功能的涂料，廣泛應(yīng)用于電子設(shè)備的保護(hù)。通過真空等離子處理，可以提高線路板表面潤(rùn)濕性能，有效去除表面有機(jī)污染物，增強(qiáng)線路板表面貼合力，提升三防漆涂覆質(zhì)量。等離子清洗機(jī)屬于干式工藝，無需添加化學(xué)藥劑，無廢水排放，對(duì)環(huán)境無污染，完全符合節(jié)能和環(huán)保的需求。

光刻膠的去除在IC制造工藝流程中占非常重要的地位，其成本約占IC制造工藝的20-30%，光刻膠去膠效果太弱影響生產(chǎn)效率，去膠效果太強(qiáng)容易造成基底損傷，影響整個(gè)產(chǎn)品的成品率。傳統(tǒng)主流去膠方法采用濕法去膠，成本低效率高，但隨著技術(shù)不斷選代更新，越來越多IC制造商開始采用干法式去膠，干法式去膠工藝不同于傳統(tǒng)的濕法式去膠工藝，它不需要浸泡化學(xué)溶劑，也不用烘干，去膠過程更容易控制，避免過多算上基底，提高產(chǎn)品成品率。干法式去膠又被稱為等離子去膠，其原理同等離子清洗類似，主要通過氧原子核和光刻膠在等離子體環(huán)境中發(fā)生反應(yīng)來去除光刻膠，由于光刻膠的基本成分是碳?xì)溆袡C(jī)物，在射頻或微波作用下，氧氣電離成氧原子并與光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成一氧化碳，二氧化碳和水等，再通過泵被真空抽走，完成光刻膠的去除。等離子物理去膠過程:主要是物理作用對(duì)清洗物件進(jìn)行轟擊達(dá)到去膠的目的，主要的氣體為氧氣、氬氣等，通過射頻產(chǎn)生氧離子，轟擊清洗物件，以獲得表面光滑的較大化，并且結(jié)果是親水性增大。等離子清洗機(jī)表面預(yù)處理和等離子清洗為塑料、金屬、鋁或玻璃的后續(xù)涂層提供了先決條件。重慶真空等離子清洗機(jī)技術(shù)參數(shù)

大氣等離子清洗機(jī)：大氣壓環(huán)境下進(jìn)行表面處理，解決產(chǎn)品表面污染物，使用方便，還能搭配流水線進(jìn)行工作。遼寧半導(dǎo)體封裝等離子清洗機(jī)作用

在半導(dǎo)體微芯片封裝中，微波等離子體清洗和活化技術(shù)被應(yīng)用于提高封裝模料的附著力。這包括“頂部”和“倒裝芯片底部填充”過程。高活性微波等離子體利用氧自由基的化學(xué)功率來修飾各種基底表面：焊料掩模材料、模具鈍化層、焊盤以及引線框架表面。這樣就消除了模具分層問題，并且通過使用聚乙烯醇的等離子體，不存在靜電放電或其他潛在有害副作用的風(fēng)險(xiǎn)。封裝器件（如集成電路（ic）和印刷電路板（pcb））的去封裝暴露了封裝的內(nèi)部組件。通過解封裝打開設(shè)備，可以檢查模具、互連和其他通常在故障分析期間檢查的特征。器件失效分析通常依賴于聚合物封裝材料的選擇性腐蝕，而不損害金屬絲和器件層的完整性。這是通過使用微波等離子體清潔去除封裝材料實(shí)現(xiàn)的。等離子體的刻蝕性能是高選擇性的，不受等離子體刻蝕工藝的影響。遼寧半導(dǎo)體封裝等離子清洗機(jī)作用