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亞皮克級數字ELISA微量試劑

來源: 發布時間:2025-06-08

    創新性的解決方案:芯棄疾JX-8B數字ELISA應用范圍:各種高靈敏多重免疫檢測,可替代各種ELISA試劑盒,及其他免疫檢測產品。蛋白質生物標志物在區分健康和疾病狀態方面的臨床應用,而監測疾病進展則需要測量復雜樣品中的低濃度蛋白質。目前的免疫測定方法測量的是蛋白質的濃度高于10?12M,6而大多數在病癥7、神經疾病8,9和接觸早期階段10中重要的蛋白質的濃度被認為在10?16到10?12M之間。需要提高靈敏度的例子包括:一個由一百萬個細胞組成的1毫米3疾病,每個細胞分泌5000種蛋白質到5升液體中。Simoa®由現任于哈佛大學醫學院的DavidWalt教授作為科學創始人于2007年創立。DavidWalt是美國的工程院,藝術院和醫學院三院院士。2010年,DavidWalt將Simoa®技術以封面文章的形式發表在《NatureBiotechnology》上,此技術開始為大眾所知并引起業界轟動。Simoa技術(Single-moleculeArray,Quanterix公司)特點是通用陣列化檢測,實現超高的靈敏度,較傳統ELISA方法能夠高出3個數量級,達到飛克級別(fg/ml)甚至更低。已拿阿茲海默癥的兩個FDAbreakthroughdevice;通常用于各種科研方向:神經因子、蛋白組學、細胞因子等。 芯棄疾芯片可檢測血清中 NfL 等較低豐度神經因子,助力阿爾茨海默癥早期篩查。亞皮克級數字ELISA微量試劑

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芯棄疾JX-8B數字化高靈敏ELISA芯片檢測產品,與sioma產品的區別:

simoa產品為什么很難普及:主要問題:效果好、但成本高、平臺龐大、不靈活、不開放;大部分實驗室買不起設備!即使公用平臺上了設備,大部分課題組也用不起耗材試劑!儀器:巨大,價格>300萬;芯片+試劑:每套1萬元以上;

Simoa的技術方案很難小型化,大部分反應流程都在芯片外進行,必須依賴大型自動化設備,與大部分生物實驗室、醫學實驗室的靈活、低成本使用場景不符。 單分子檢測數字ELISA準確寬芯棄疾JX-8B數字ELISA,每個醫學實驗室都能用的單分子檢測;

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自動化檢測與數據算法的深度融合:芯棄疾芯片搭載四參數Logistic曲線擬合(方程:y=(A-D)/[1+(x/C)^B]+D)與二次回歸算法(y=a+bx+cx2),確保熒光信號與濃度的高度線性關聯(r2≥0.999)。以IL-6檢測為例,自動版設備通過AI驅動圖像分析(CNN網絡),識別磁珠熒光強度(CV<3%),比較低檢測限達0.5pg/mL,較手動操作靈敏度提升2倍。在質量控制中,芯片內置內參校準通道(如β-actin),自動校正批次間差異,使檢測重復性(CV<5%)達到ISO15189標準。此外,數據平臺支持云端存儲與多中心結果比對,為大規模流行病學研究(如10萬人隊列)提供標準化數據支持。

芯棄疾JX-8B數字ELISA產品

每個生物實驗室都用得起的單分子免疫檢測

由于活性珠子的百分比接近50%(酶與微球的比例大于~1:1.5),然而,使用圖像分析軟件區分“開啟”和“關閉”孔變得具有挑戰性,我們達到了數字動態范圍的實際上限。例如,圖2中7fM(~45%活性)的信號偏離了線性。因此,這里使用50,000個孔展示的數字線性動態范圍是從3.5fM到350zM,即大約四個對數單位。前提是蛋白質使用適當的酶濃度進行標記,這種動態范圍對于許多臨床應用來說是足夠的 數字 ELISA 芯片標準化生產流程嚴格,成品質檢全檢,良品率穩定在 98% 以上。

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芯棄疾JX-8B數字化高靈敏ELISA芯片檢測產品為什么能做到?

先進新型的單分子檢測方法的普及版;每個生物/醫學實驗室都用得起的單分子免疫檢測;使用現有平臺就能做的單分子免疫檢測且具有以下特點:多重、超敏微量、極速靈活、開放;

我們的芯棄疾.單分子ELISA產品:同樣的單分子技術方案,但創新性芯片方案,主要過程均芯片上完成,只有需搭配簡單小型實驗室設備,或實驗室常見已有設備;實現單分子檢測方案的小型化、靈活使用、低成本。更符合國內實驗室的各種科研使用場景 微量樣本超多重檢測芯片兼容血清、血漿、房水等多種樣本類型,應用場景廣。芯棄疾-勃望初芯數字ELISA準確寬

芯棄疾JX-8B數字ELISA,極速檢測,檢測步驟只需要3次操作,遠遠快于常規ELISA;亞皮克級數字ELISA微量試劑

創新性的解決方案:芯棄疾JX-8B數字ELISA

我公司推出的數字化高靈敏ELISA芯片檢測產品應用場景:適合生物實驗室、醫學實驗室、科研市場、產品預研、產品開發、ELISA檢測、動物病情檢測等各種應用場景應用范圍:各種高靈敏多重免疫檢測,可替代各種ELISA試劑盒,及其他免疫檢測產品。

將約5cm長的光纖束依次拋光使用30微米、9微米和1微米尺寸的金剛石研磨膜的機器。拋光光纖在0.025M鹽酸溶液中化學蝕刻130秒,然后立即浸入水中以抑制反應。蝕刻后的光纖在水中復溶5秒,在水中洗滌5分鐘,然后在真空下干燥。光纖束陣列的中心玻璃和包層玻璃的蝕刻速率差異caused4.5-μmdiameter孔在中心光纖中形成30。更初研究了不同蝕刻時間對孔深的影響。如果孔太深,則每個孔中沉積多個微珠。井口密封性被破壞;如果井口太淺,則無法將微球保留在井內,且觀察到加載效率較差。對于單個微球而言,井口深度of3.25±0.5μm是比較好的,同時保持良好的密封性。 亞皮克級數字ELISA微量試劑

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