微針電極與組織液提取芯片的創(chuàng)新加工技術(shù)：微針電極作為生物檢測(cè)與給藥的前沿器件，需兼顧機(jī)械強(qiáng)度與生物相容性。公司采用干濕結(jié)合刻蝕工藝，在硅或硬質(zhì)塑料基板上制備直徑10-100μm、高度500-1000μm的微針陣列，針尖曲率半徑控制在5μm以內(nèi)，確保穿刺過程的低創(chuàng)傷性。針對(duì)類***電生理記錄需求，開發(fā)了“觸凸”電極結(jié)構(gòu)，在微針頂端集成納米級(jí)金屬電極（如金/鉑薄膜），實(shí)現(xiàn)對(duì)單個(gè)細(xì)胞電信號(hào)的高靈敏度捕獲。同時(shí)，微針陣列可用于組織液提取，通過中空結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)與毛細(xì)作用，在30秒內(nèi)完成微升量級(jí)體液采集，避免傳統(tǒng)**的痛苦與***風(fēng)險(xiǎn)。該技術(shù)結(jié)合表面親疏水修飾，解決了微針堵塞與生物污染問題，已應(yīng)用于連續(xù)血糖監(jiān)測(cè)芯片與藥物透皮遞送系統(tǒng)，為可穿戴醫(yī)療設(shè)備提供**組件支持。多材料鍵合技術(shù)解決 PDMS 與硬質(zhì)基板密封問題，推動(dòng)復(fù)合芯片應(yīng)用。四川微流控芯片按需定制

硅片微流道加工在微納器件中的應(yīng)用拓展：硅片作為MEMS工藝的主流材料，在微流控芯片中兼具機(jī)械強(qiáng)度與加工精度優(yōu)勢(shì)。公司利用深硅刻蝕（DRIE）技術(shù)實(shí)現(xiàn)高深寬比（>20:1）微流道加工，深度可達(dá)500μm以上，適用于高壓流體控制、微反應(yīng)器等場(chǎng)景。硅片表面通過熱氧化或氮化處理形成絕緣層，可集成微電極、壓力傳感器等功能單元，構(gòu)建“芯片實(shí)驗(yàn)室”（Lab-on-a-Chip）系統(tǒng)。例如，在腦機(jī)接口柔性電極芯片中，硅基微流道與鉑銥電極的集成設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)了神經(jīng)信號(hào)記錄與藥物微灌注的同步功能，其生物相容性通過表面PEG涂層優(yōu)化，可長(zhǎng)期植入體內(nèi)穩(wěn)定工作。公司還開發(fā)了硅片與PDMS、玻璃的異質(zhì)鍵合技術(shù)，解決了不同材料熱膨脹系數(shù)差異導(dǎo)致的應(yīng)力問題，推動(dòng)硅基微流控芯片在生物醫(yī)學(xué)、環(huán)境監(jiān)測(cè)等領(lǐng)域的跨學(xué)科應(yīng)用。廣東微流控芯片圖片單分子級(jí) PDMS 芯片產(chǎn)線通過超凈加工，提升檢測(cè)靈敏度至單分子級(jí)別。

深硅刻蝕工藝在高深寬比結(jié)構(gòu)中的技術(shù)突破：深硅刻蝕（DRIE）是制備高深寬比微流道的主要工藝，公司通過優(yōu)化Bosch工藝參數(shù)，實(shí)現(xiàn)了深度100-500μm、寬深比1:10至1:20的微結(jié)構(gòu)加工。刻蝕過程中采用電感耦合等離子體（ICP）源，結(jié)合氟基氣體（如SF6）與碳基氣體（如C4F8）的交替刻蝕與鈍化，確保側(cè)壁垂直度>89°，表面粗糙度<50nm。該技術(shù)應(yīng)用于地質(zhì)勘探模擬芯片時(shí)，可精確復(fù)制地下巖層的微孔結(jié)構(gòu)，用于油氣滲流特性研究；在生化試劑反應(yīng)腔中，高深寬比流道增加了反應(yīng)物接觸面積，使酶促反應(yīng)速率提升40%。公司還開發(fā)了雙面刻蝕與通孔對(duì)齊技術(shù)，實(shí)現(xiàn)三維立體流道網(wǎng)絡(luò)加工，為微反應(yīng)器、微換熱器等復(fù)雜器件提供了關(guān)鍵制造能力，推動(dòng)MEMS技術(shù)在能源、環(huán)境等領(lǐng)域的跨學(xué)科應(yīng)用。

Cascade 有兩個(gè)測(cè)試用戶：馬里蘭大學(xué)Don DeVoe教授的微流體實(shí)驗(yàn)室和加州大學(xué)Carl Meinhart教授的微流體實(shí)驗(yàn)室。德國(guó)thinXXS公司開發(fā)了另一套微流控分析設(shè)備。該設(shè)備提供了一個(gè)由微反應(yīng)板裝配平臺(tái)、模塊載片以及連接器和管道所組成的結(jié)構(gòu)工具包。可單獨(dú)購(gòu)買模塊載片。 ThinXXS還制造獨(dú)有芯片，生產(chǎn)微流體和微光學(xué)設(shè)備和部件并提供相應(yīng)的服務(wù)。將微流控技術(shù)應(yīng)用于光學(xué)檢測(cè)已經(jīng)計(jì)劃很多年了，thinXXS一直都在進(jìn)行這方面的綜合研究，但未提供詳細(xì)資料。但是，據(jù)了解，該技術(shù)采用了先進(jìn)的MEMS傳感器的微納米制造工藝，所以芯片得到了非常好的測(cè)試效果。支持 0.5-5μm 微米級(jí)尺度微流控芯片加工，滿足單分子檢測(cè)等高精需求。

標(biāo)準(zhǔn)化PDMS芯片產(chǎn)線：公司自建的PDMS芯片產(chǎn)線采用全自動(dòng)化模塑工藝，涵蓋原料混煉、真空脫泡、高溫固化（80℃/2 h）及等離子親水化處理等關(guān)鍵環(huán)節(jié)。產(chǎn)線配備高精度模具（公差±2 μm）與光學(xué)檢測(cè)系統(tǒng)，可批量生產(chǎn)單分子檢測(cè)芯片、液滴生成芯片等產(chǎn)品。例如，液滴芯片通過流聚焦結(jié)構(gòu)生成單分散乳液（CV<3%），通量達(dá)10,000滴/秒，用于單細(xì)胞RNA測(cè)序時(shí)，細(xì)胞捕獲效率超過95%。此外，PDMS芯片的表面改性技術(shù)（如二氧化硅涂層）可降低生物污染，在長(zhǎng)期細(xì)胞培養(yǎng)中保持表面親水性超過30天。該產(chǎn)線已為多家IVD企業(yè)提供定制化服務(wù)，例如開發(fā)的核酸快檢芯片，將樣本到結(jié)果的時(shí)間縮短至30分鐘，靈敏度達(dá)98%，成為基層醫(yī)療機(jī)構(gòu)的主要檢測(cè)工具。利用微流控芯片做抗體檢測(cè)。重慶微流控芯片的制作

微流控芯片的基本實(shí)現(xiàn)方式有：MEMS微納米加工技術(shù)、光刻、飛秒激光直寫、LIGA、注塑、刻蝕等等；四川微流控芯片按需定制

通過微流控芯片檢測(cè)，有助于改進(jìn)診斷性能、發(fā)現(xiàn)尚未被識(shí)別的致病性自身抗體。隨著微流控免疫芯片的推廣，自身抗體檢測(cè)成為微流控免疫芯片的重要研究方向之一。此類芯片的設(shè)計(jì)不同于其他免疫芯片，用于自身抗體檢測(cè)的微流控芯片須將自身抗原固定在芯片表面。Matsudaira等人通過光活性劑將自身抗原共價(jià)固定在聚酯平板上，利用光照射誘導(dǎo)自由基反應(yīng)實(shí)現(xiàn)固定，不需要自身抗原的特定官能團(tuán)。Ortiz等人將3種自身抗體通過羧基端硫醇化而固定在聚酯表面，用于檢測(cè)乳糜瀉特異性自身抗體，該微流控芯片的敏感性接近商品化酶聯(lián)免疫吸附試驗(yàn)試劑盒。四川微流控芯片按需定制