EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

 ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

 ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

 注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進行。

 ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

 ?步驟 2.

 a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

 b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

 c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

 ?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學品規(guī)范要求）。總體來說，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過。

 ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

 ?步驟 4.水沖洗: 將RO產水水質的水引入濃水管線環(huán)中直到產水電導率>0.02 MO或等 同于進水(至少為 2 L (0.5 gal))

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清洗

隨著工作時間的累積，需要對美國IonpureEDI模塊進行清洗及消毒，這是因為：

-硬度或金屬結垢，主要產生在濃水室內；

-在離子交換樹脂或膜形成無機物污垢（例如，硅）；

-在離子交換樹脂或膜形成有機物污垢；

- EDI模塊和系統(tǒng)管道及其它部件的生物污垢；

-以上所有情況一起出現(xiàn)在某些情況下，需要使用一種以上的清洗方法。

高溫消毒

 美國IonpureEDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進行消毒，消毒說明將同時提供給用戶。

例行的消毒比較好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用于例行的消毒，只適用于嚴重的生物污堵的消毒,消毒時先進行低濃度氧化劑消毒，再用高PH清洗。 江蘇銷售模塊廠家報價模塊上海純超環(huán)保貨源充足。

(1)進水電導率的影響。

  在相同的操作電流下，隨著原水電導率的增加IONPUREEDI模塊對弱電解質的去除率減小，出水的電導率也增加。如果原水電導率低則離子的含量也低，而低濃度離子使得在淡室中樹脂和膜的表面上形成的電動勢梯度也大，導致水的解離程度增強，極限電流增大，產生的H+和OH-的數(shù)量較多，使填充在淡室中的陰、陽離子交換樹脂的再生效果良好。

(2)工作電壓-電流的影響。

 工作電流增大，產水水質不斷變好。但如果在增至比較高點后再增加電流，由于水電離產生的H+和OH-離子量過多，除用于再生樹脂外，大量富余離子充當載流離子導電，同時由于大量載流離子移動過程中發(fā)生積累和堵塞，甚至發(fā)生反擴散，結果使產水水質下降。

2.美國ionpureIP-LXM45Z模塊在食品領域工業(yè)的應用    

  利用超濾膜技術把發(fā)酵液中產品和菌體分離，再采用其它方法精制流程。其優(yōu)點是：生產效率和產品質量提高；簡化了工藝流程;菌體蛋白不含外加雜質,利用價值高，達到資源綜合利用。醬油、醋的澄清、果汁澄清和濃縮、乳制品生產、制糖工業(yè)都采用了膜技術。

3.美國ionpureIP-LXM45Z模塊在各種工業(yè)生產中的應用

  凡是涉及分子級的濃縮和分離的過程，都有膜技術應用的機會。汽車電泳漆的在線純化采用超濾膜除去雜質，持續(xù)保證涂漆質量;燃料工業(yè)泳超濾膜技術分離和濃縮中間體。在環(huán)境保護和水資源化的應用。

  膜技術在廢水處理、污染防治和水資源綜合利用方面得到廣泛應用。在許多情況下，不僅處理了廢水，還能回收有用物質和能量。 模塊上海純超環(huán)保滿足客戶的不同需求。

如果電壓降低或是進水的總離子水平提高的話,那么系統(tǒng)中的樹脂會更多的和離子發(fā)生交換,相應的工作區(qū)間就往出水側移動,直至達到新的平衡,或是穿透,這一過程中,出水電導會發(fā)生一定的變化,出水的弱電離子增加是**明顯的表現(xiàn)。如果電壓上升或是進水離子減少,則系統(tǒng)的工作區(qū)間會向進水側發(fā)生移動,表現(xiàn)為出水水質變好,弱電離子的含量減少。所以判斷系統(tǒng)的平衡狀態(tài)可以通過出水水質變化,弱電離子的漏出多少來實現(xiàn),并可以通過工作區(qū)間的移動來解釋。

    濃水流量的變化是另一個調節(jié)系統(tǒng)平衡的要素,特別是對于系統(tǒng)中的電流有直接影響。濃水的流量對去除弱電離子Ｓｉ也有一定關系。由于Ｓｉ在２５℃,ｐＨ值是６～８的水體中的溶解度是１２０ｍｇ／Ｌ。所以進水的濃縮倍率達到一定程度后,Ｓｉ在濃水中就會飽和,導致不能進行更深度的除硅,這也是確定濃水流量下限的條件之一。 模塊上海純超環(huán)保值得信賴。江蘇銷售模塊廠家報價

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西門子LX-Z系列EDI模塊是專門為工作應用而設計的。西門子LX-Z系列EDI模塊可以極其可靠地生產出質量穩(wěn)定的高純水，而不會由于再生而中斷運行。膜堆可以應用于電力、HP/CPI、電子、食品和飲料行業(yè)以及實驗室中。

  西門子LX-Z系列EDI模塊運行環(huán)境：應安裝在室內，避免陽光直射，室內比較高環(huán)境溫度是45℃（95oF）。

                            典型膜堆性能

                             操作參數(shù)

回收率

90-95%

比較大允許進水壓力

7bar(100psi)

比較高允許進水溫度

45℃(113?F)

名義流量時的壓降范圍

1.4-2.1bar(20-30psi)

                              產水水質

產水電阻率

>16M?.cm (見下面說明)

說明:實際性能可以用Ionpure的IP-Pro設計軟件確定

硅(SiO2)去除率

90-99%，取決于進水條件 江蘇銷售模塊廠家報價

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