主營產品: 微納加工技術服務|真空鍍膜技術服務|紫外光刻技術服務|材料刻蝕技術服務
LPCVD設備中較少用的是旋轉式LPCVD設備和行星式LPCVD設備,因為其具有結構復雜、操作困難、沉積速率低、產能小等缺點。旋轉式LPCV...
ICP材料刻蝕技術以其獨特的工藝特點,在半導體制造、微納加工等多個領域得到普遍應用。該技術通過精確調控等離子體的能量分布和化學活性,實現了對...
LPCVD設備中的工藝參數之間是相互影響和相互制約的,不能單獨考慮或調節。例如,反應溫度、壓力、流量、種類和比例都會影響反應速率和沉積速率,...
LPCVD技術在光電子領域也有著廣泛的應用,主要用于沉積硅基光波導、光諧振器、光調制器等器件所需的高折射率和低損耗的材料。由于光電子器件對薄...
廣東省科學院半導體研究所微納加工平臺,面向半導體光電子器件、功率電子器件、MEMS、生物芯片等前沿領域,致力于打造公益性、開放性、支撐性樞紐中心。平臺擁有半導體制備工藝所需的整套儀器設備,建立了一條實驗室研發線和一條中試線,加工尺寸覆蓋2-6英寸(部分8英寸),同時形成了一支與硬件有機結合的專業人才隊伍。平臺當前緊抓技術創新和公共服務,面向國內外高校、科研院所以及企業提供開放共享,為技術咨詢、創新研發、技術驗證以及產品中試提供技術支持。