主營產品: 微納加工技術服務|真空鍍膜技術服務|紫外光刻技術服務|材料刻蝕技術服務
材料刻蝕是一種常見的制造工藝,用于制造微電子器件、光學元件等。然而,在刻蝕過程中,可能會出現一些缺陷,如表面不平整、邊緣不清晰、殘留物等,這...
光刻工藝參數的選擇對圖形精度有著重要影響。通過優化曝光時間、光線強度、顯影液濃度等參數,可以實現對光刻圖形精度的精確控制。例如,通過調整曝光...
掩模是光刻過程中的另一個關鍵因素。掩模上的電路圖案將直接決定硅片上形成的圖形。因此,掩模的設計和制造精度對光刻圖案的分辨率有著重要影響。為了...
在選擇靶材時,需要綜合考慮多種因素,以確保鍍膜的質量和性能。純度:高純度靶材在鍍膜過程中可以顯著提高膜層的均勻性和光學性能,減少雜質引起的光...
廣東省科學院半導體研究所微納加工平臺,面向半導體光電子器件、功率電子器件、MEMS、生物芯片等前沿領域,致力于打造***的公益性、開放性、支撐性樞紐中心。平臺擁有半導體制備工藝所需的整套儀器設備,建立了一條實驗室研發線和一條中試線,加工尺寸覆蓋2-6英寸(部分8英寸),同時形成了一支與硬件有機結合的專業人才隊伍。平臺當前緊抓技術創新和公共服務,面向國內外高校、科研院所以及企業提供開放共享,為技術咨詢、創新研發、技術驗證以及產品中試提供技術支持。