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**普通的正膠顯影液是四甲基氫氧化銨（TMAH）（標準當量濃度為0.26，溫度15～25C）。在I線光刻膠曝光中會生成羧酸，TMAH顯影液中的堿與酸中和使曝光的光刻膠溶解于顯影液，而未曝光的光刻膠沒有影響；在化學放大光刻膠（CAR，Chemical Ampli...

2019年荷蘭阿斯麥公司推出新一代極紫外光刻系統，**了當今**的第五代光刻系統，可望將摩爾定律物理極限推向新的高度 [5]。中國工程院《Engineering》期刊于2021年組建跨學科評選委員會，通過全球**提名、公眾問卷等多階段評審，選定近五年內完成且具...

對于新影像的進一步研究促使萊特提出新看法。首先他將普萊斯的模式進一步發展，認為該儀器相當于一個天象儀。萊特的天象儀不只可模擬日月運動，還可顯示內側行星（水星和金星）和外側行星（火星、木星和土星）的運動。萊特提出該機械的日月運動是基于喜帕恰斯的理論，五顆古典行星...

介紹04:54新型DUV光刻機公布，套刻精度達8納米！與全球前列設備差多少？直接分步重復曝光系統 (DSW) 超大規模集成電路需要有高分辨率、高套刻精度和大直徑晶片加工。直接分步重復曝光系統是為適應這些相互制約的要求而發展起來的光學曝光系統。主要技術特點是：...

世界上***部糾偏裝置,英文：Deviation rectifying device，是美塞斯的FIFE糾發明的，是糾偏裝置是電子糾偏系統的心臟。糾偏裝置是一種修正卷材在向前運動中出現的側邊誤差的機械裝置，位移式糾偏是通過更改卷材在進口和出口跨度來實現卷材側邊...

2006年時，萊特完成了他相信幾乎正確的復制品。萊特和安提基特拉機械研究計劃成員仍同時進行安提基特拉機械的研究。萊特稍微修改他的模型，引進了計劃團隊建議的針狀和槽狀嚙合齒輪，這更精確模擬了月球的角速度異常變化。2007年3月6日他在希臘的雅典國家考古博物館展示...

EUV光刻系統的發展歷經應用基礎研究至量產四個階段，其突破得益于多元主體協同創新和全產業鏈資源整合 [3]。截至2024年12月，EUV技術已應用于2nm芯片量產，但仍需優化光源和光刻膠性能。下一代技術如納米壓印和定向自組裝正在研發中 [6]。**光刻系統主要...

廣角鏡頭又分為普通廣角鏡頭和超廣角鏡頭兩種。135照相機普通廣角鏡頭的焦距一般為38－24毫米，視角為60－84度；超廣角鏡頭的焦距為20－13毫米，視角為94-118度。由于廣角鏡頭的焦距短，視角大，在較短的拍攝距離范圍內，能拍攝到較大面積的景物。所以，**...

此前人們認為該裝置是古希臘人使用的一種計算器，用來描繪天空中行星的運行軌跡，以幫助當時的人識別方向。然而，科學家們現在**了這部裝置表面破損的銘文后發現，它實際上是用來研究**的。安提基特拉機械裝置是其同時代的一個孤例。它憑一己之力改寫了我們對古希臘技術的認知...

魚眼鏡頭的體積較大。以適用于35毫米單鏡頭反光照相機的魚眼鏡頭為例，當將這種魚眼鏡頭安裝在體積較小的35毫米單鏡頭反光照相機機身上時，有一種“頭（鏡頭）大身體（機身）小”的感覺，且由于魚眼鏡頭重量不輕（如尼柯爾6毫米/F2.8手動對焦魚眼鏡頭重達5200克），...

使用長焦距鏡頭拍攝具有以下幾個方面的特點：一是視角小。所以，拍攝的景物空間范圍也小，在相同的拍攝距離處，所拍攝的影像大于標準鏡頭，適用于拍攝遠處景物的細部和拍攝不易接近的被攝體。二是景深短。所以，能使處于雜亂環境中的被攝主體得到突出。但給精確調焦帶來了一定的困...

能強調前景和突出遠近對比。這是廣角鏡頭的另一個重要性能。所謂強調前景和突出遠近對比，是指廣角鏡頭能比其他鏡頭更加強調近大遠小的對比度。也就是說，用廣角鏡頭拍出來的照片，近的東西更大，遠的東西更小，從而讓人感到拉開了距離，在縱深方向上產生強烈的******效果。...

光刻系統SUSS是一種應用于半導體制造領域的工藝試驗儀器，其比較大基片尺寸為6英寸，可實現0.5μm的分辨率和1μm的**小線寬 [1]。該系統通過精密光學曝光技術完成微電子器件的圖形轉移，為集成電路研發和生產提供關鍵工藝支持。比較大基片處理能力：支持直徑6英...

2006年時，萊特完成了他相信幾乎正確的復制品。萊特和安提基特拉機械研究計劃成員仍同時進行安提基特拉機械的研究。萊特稍微修改他的模型，引進了計劃團隊建議的針狀和槽狀嚙合齒輪，這更精確模擬了月球的角速度異常變化。2007年3月6日他在希臘的雅典國家考古博物館展示...

EUV光刻系統的發展歷經應用基礎研究至量產四個階段，其突破得益于多元主體協同創新和全產業鏈資源整合 [3]。截至2024年12月，EUV技術已應用于2nm芯片量產，但仍需優化光源和光刻膠性能。下一代技術如納米壓印和定向自組裝正在研發中 [6]。**光刻系統主要...

**普通的正膠顯影液是四甲基氫氧化銨（TMAH）（標準當量濃度為0.26，溫度15～25C）。在I線光刻膠曝光中會生成羧酸，TMAH顯影液中的堿與酸中和使曝光的光刻膠溶解于顯影液，而未曝光的光刻膠沒有影響；在化學放大光刻膠（CAR，Chemical Ampli...

四是，鏡頭的焦距越長，相機就必須把握得越穩定，以避免影像模糊。經驗準則是只有當快門速度至少等于鏡頭焦距毫米數的倒數時才能夠手持鏡頭進行拍攝，也稱為“安全快門”。也就是說，當快門速度低于1/100秒時就不能手持100mm鏡頭拍攝，低于1/500秒時就不能手持50...

光刻系統SUSS是一種應用于半導體制造領域的工藝試驗儀器，其比較大基片尺寸為6英寸，可實現0.5μm的分辨率和1μm的**小線寬 [1]。該系統通過精密光學曝光技術完成微電子器件的圖形轉移，為集成電路研發和生產提供關鍵工藝支持。比較大基片處理能力：支持直徑6英...

廣角鏡頭又分為普通廣角鏡頭和超廣角鏡頭兩種。135照相機普通廣角鏡頭的焦距一般為38－24毫米，視角為60－84度；超廣角鏡頭的焦距為20－13毫米，視角為94-118度。由于廣角鏡頭的焦距短，視角大，在較短的拍攝距離范圍內，能拍攝到較大面積的景物。所以，**...

目前，安提基特拉機械已被基本復原。 [5]以下是托尼·弗里思研究團隊的***復原成果。安提基特拉裝置的制作者無論使用什么周期數據，都需要遵循三個標準：精確性、可分解性與經濟性。簡省且高效，是安提基特拉裝置齒輪傳動系統的一個關鍵特征。新的行星周期數據可以納入齒輪...

兩種工藝常規光刻技術是采用波長為2000～4500埃的紫外光作為圖像信息載體，以光致抗蝕劑為中間（圖像記錄）媒介實現圖形的變換、轉移和處理，**終把圖像信息傳遞到晶片(主要指硅片)或介質層上的一種工藝。在廣義上，它包括光復印和刻蝕工藝兩個主要方面。①光復印工藝...

5、刃壁刃壁是沖裁凹模孔刃口的側壁。6、刃口斜度刃口斜度是沖裁凹模孔刃壁的每側斜度。7、氣墊氣墊是以壓縮空氣為原動力的彈頂器。參閱“彈頂器”。8、反側壓塊反側壓塊是從工作面的另一側支持單向受力凸模的零件。9、導套導套是為上、下模座相對運動提供精密導向的管狀零件...

德瑞克·約翰·德索拉·普萊斯提出該裝置可能是公開展示，地點或許是羅德島上的博物館或公共會堂。羅德島在當時是以機械工程聞名，尤其是羅德島人擅長的自動機械。古希臘九大抒情詩人中的品達在他的第七首奧林匹克頌中提及：The animated figures stand...

f/光圈數和光圈大小調定在某一f/光圈數時的任何種類的鏡頭能夠透射過幾乎相同 光量的影象，因為光闌直徑直接與焦距相關，例如，一只80毫米的鏡頭在使用5毫米的光闌直徑時，光圈必定調節在f/16上。因此鏡頭的焦距在除以光闌直徑后，就得到相應的f/光圈數。焦距標記調...

現代學者的共識是該機械是在希臘語使用區域制造，所有機械上組件的文字都是通用希臘語。一種假說認為，該機械是在希臘當時的天文和機械工程中心羅德島上的斯多亞學派學者波希多尼制造，而天文學家喜帕恰斯參與了設計，因為該機械采用了喜帕恰斯的月球運動理論。但由安提基特拉機械...

攝影者也許會有這樣的體會：在照相機上裝上一個遠攝鏡頭并從單鏡頭反光照相機取景器中觀察，竟一時無法想象充盈于取景器畫面的景象在何方位，不得已，只好將眼睛離開照相機取景目鏡眺望實景，方搞清楚原來是鏡頭視野太窄，它所“見”到的只是人眼通常所見到的畫面中相當小的一部分...

6.齒輪傳動箱上蓋拆卸,內部機件磨損及鍵位松動狀況之檢查并進行油槽清洗,潤滑油換新及運轉狀況,噪音,振動測試檢查.7.傳動系統各部位注油點之吐出油量及壓力測試與調整.8.離剎機構之活塞動作,剎車角度,離剎間隙及來令片磨耗量之測試點檢與必要調整.9.滑快導軌與導...

01:50光刻機為什么難造？看看他的黑科技！提高光刻技術分辨率的傳統方法是增大鏡頭的NA或縮 短 波 長，通 常 首 先 采 用 的 方 法 是 縮 短 波長。早在80年代，極紫外光刻技術就已經開始理論的研究和初步的實 驗，該技術 的光源是波 長 為11～14...

其主要成像原理是光波波長為10～14nm的極端遠紫外光波經過周期性多層膜反射鏡投射到反射式掩模版上，通過反射式掩模版反射出的極紫外光波再通過由多面反射鏡組成的縮小投影系統，將反射式掩模版上的集成電路幾何圖形投影成像到硅片表面的光刻膠中，形成集成電路制造所需要的...

景深范圍隨著鏡頭對被攝體聚焦，可在固定參看符號兩邊尋找對應于（或接近）己調定的光圈f/數，辨認焦距標記下相對的數值，便可決定有效景深。景深的作用光圈大小的改變：通過相同焦距的鏡頭對相同距離的被攝體聚焦，該示說明光圈大小的調整是如何改變景深的。一般來說，被攝體的...