在半導體芯片制造這一復雜且精細的領域，從芯片光刻、蝕刻到沉積、封裝等每一步，都對環境條件有著近乎嚴苛的要求，而精密環控柜憑借其性能成為保障生產的關鍵要素。芯片光刻環節，光刻機對環境穩定性要求極高。哪怕 0.002℃的溫度波動，都可能使光刻機內部的精密光學元件因熱脹冷縮產生細微形變，導致光路偏差，使光刻圖案精度受損。精密環控柜憑借超高精度溫度控制，將溫度波動控制在極小范圍，確保光刻機高精度運行，讓芯片光刻圖案正常呈現。精密環境控制設備內部溫度規格設定為 22.0 °C 且可靈活調節，以滿足不同控溫需求。光學顯微鏡溫濕度模擬柜

在現代精密制造領域，三坐標測量儀是無可替代的關鍵設備，廣泛應用于模具、汽車零部件等復雜形狀工件的精密測量工作中。它憑借高精度的測量能力，為工業生產的質量把控提供了支撐。然而，環境因素對其測量精度影響巨大。當溫度不穩定時，測量儀的花崗巖工作臺、坐標軸導軌等關鍵部件會因熱脹冷縮產生熱變形。這種變形看似微小，卻足以導致測量空間的坐標原點發生漂移，使得測量點的三維坐標值出現不可忽視的誤差。而在濕度波動時，潮濕空氣宛如無孔不入的 “幽靈”，悄然侵蝕儀器的電子線路板。這極易造成短路、信號干擾等嚴重問題，進而致使測量數據出現跳變、丟失等異常情況。此類狀況不僅嚴重影響測量的準確性與連續性，還會對整個生產流程造成連鎖反應，阻礙相關產業的高質量發展。激光干涉儀高精度溫濕度實驗箱設備內部濕度穩定性極強，8 小時內可達±0.5%。

我司自主研發的高精密控溫技術，控制輸出精度達 0.1%，能精細掌控溫度變化。溫度波動控制可選 ±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.005℃、±0.002℃等多檔，滿足嚴苛溫度需求。該系統潔凈度表現優異，可達百級、十級、一級。關鍵區域靜態溫度穩定性 ±5mK，內部溫度均勻性小于 16mK/m，為芯片研發等敏感項目營造理想溫場，保障實驗數據不受溫度干擾。濕度方面，8 小時內穩定性可達 ±0.5%；壓力穩定性為 +/-3Pa，設備還能連續穩定工作 144 小時，助力長時間實驗與制造。在潔凈度上，工作區潔凈度優于 ISO class3，既確保實驗結果準確可靠，又保障精密儀器正常工作與使用壽命，推動科研與生產進步。

激光干涉儀以其納米級別的測量精度，在半導體制造、精密機械加工等領域發揮著關鍵作用。然而，它對環境變化極為敏感，溫度、濕度的微小波動以及空氣潔凈度的差異，都可能干擾激光的傳播路徑與干涉效果，致使測量結果出現偏差。精密環控柜的超高精度溫度控制，能將溫度波動控制在極小區間，如關鍵區域 ±2mK（靜態），同時確保濕度穩定性可達 ±0.5%@8h，并且實現百級以上潔凈度控制，為激光干涉儀提供穩定、潔凈的測量環境，保障其測量精度不受外界因素干擾。光譜分析儀用于分析物質的光譜特性，廣泛應用于半導體材料檢測、化學分析等領域。在工作時，外界環境的不穩定可能導致儀器內部光學元件的性能變化，影響光譜的采集與分析精度。精密環控柜通過調控溫濕度，避免因溫度變化使光學元件熱脹冷縮產生變形，以及因濕度異常造成的鏡片霉變、光路散射等問題。其穩定的環境控制能力，保證光譜分析儀能夠準確、可靠地分析物質光譜，為科研與生產提供數據支持。關于防微振，除了控制風速降低振動外，在地面增加隔振基礎，可有效降低外部微振動的傳遞。

電子設備制造，如智能手機、平板電腦、高性能計算機等的生產過程，對生產環境的要求日益嚴苛。精密環控柜在其中發揮著至關重要的作用，確保產品質量和性能達到標準。以智能手機芯片的封裝環節為例，芯片封裝需要將微小的芯片與基板精確連接，并封裝在保護外殼內。這一過程中，溫度的精確控制對芯片與基板之間的焊接質量至關重要。溫度過高或過低都可能導致焊接點虛焊、短路等問題，影響芯片的電氣性能和可靠性。精密環控柜能夠將溫度波動控制在極小范圍內，保證焊接過程的穩定性，提高芯片封裝的良品率。這時候就不得不在生產過程中配置環境控制設備，控制溫度波動。設備采用EC 風機，運行時更加靜音，高效。重慶溫濕度均勻性

電子顯微鏡觀測時，設備營造的穩定環境，確保成像清晰，助力科研突破。光學顯微鏡溫濕度模擬柜

電子萬能試驗機，作為材料力學性能測試設備，在金屬材料研發、塑料制品質量檢測等眾多領域廣泛應用。它能夠開展材料拉伸、壓縮、彎曲等力學性能測試，為產品質量把控與材料特性研究提供關鍵數據支撐。然而，環境溫濕度的波動對其影響極大。溫度波動時，試驗機力傳感器的精度首先受到沖擊，測量的力值出現偏差，同時還會改變材料自身的力學性能，例如金屬在高溫下屈服強度降低，導致測試結果無法真實反映材料特性。濕度波動時，試驗機的夾具、傳動部件極易生銹腐蝕，致使對試樣的夾持穩定性大打折扣，加載均勻性也難以保證，進一步降低測試精度。光學顯微鏡溫濕度模擬柜