光學儀器的生產對環境的潔凈度、溫濕度有著極其嚴格的要求，精密環控柜成為保障光學儀器高質量生產設備。在鏡頭研磨和鍍膜工藝中，微小的塵埃顆粒都可能在鏡頭表面留下劃痕或瑕疵，影響光線的透過和成像質量。精密環控柜配備的高效潔凈過濾器，能夠將空氣中的塵埃顆粒過濾至近乎零的水平，為鏡頭加工提供超潔凈的環境。同時，溫度的精確控制對于保證研磨盤和鏡頭材料的熱膨脹系數穩定一致至關重要。溫度波動可能導致研磨盤與鏡頭之間的相對尺寸發生變化，使研磨精度受到影響，導致鏡頭的曲率精度和光學性能不達標。關于防微振，除了控制風速降低振動外，在地面增加隔振基礎，可有效降低外部微振動的傳遞。精密加工溫濕度實驗室

在現代精密制造領域，三坐標測量儀是無可替代的關鍵設備，廣泛應用于模具、汽車零部件等復雜形狀工件的精密測量工作中。它憑借高精度的測量能力，為工業生產的質量把控提供了支撐。然而，環境因素對其測量精度影響巨大。當溫度不穩定時，測量儀的花崗巖工作臺、坐標軸導軌等關鍵部件會因熱脹冷縮產生熱變形。這種變形看似微小，卻足以導致測量空間的坐標原點發生漂移，使得測量點的三維坐標值出現不可忽視的誤差。而在濕度波動時，潮濕空氣宛如無孔不入的 “幽靈”，悄然侵蝕儀器的電子線路板。這極易造成短路、信號干擾等嚴重問題，進而致使測量數據出現跳變、丟失等異常情況。此類狀況不僅嚴重影響測量的準確性與連續性，還會對整個生產流程造成連鎖反應，阻礙相關產業的高質量發展。細胞溫濕度波動度設備大小可定制，能匹配各種高精密設備型號，及操作空間要求，構建完整環境體系，保障高精密設備正常運行。

數據可視化與便捷管理是設備亮點。設備自動生成數據曲線，如同設備運行 “心電圖”，便于客戶隨時查看設備運行狀態。數據自動保存，可隨時以表格的形式導出，方便客戶進行數據分析和處理。運行狀態、故障狀態等事件同步記錄，查詢一目了然，讓客戶對設備狀態了如指掌。設備采用可拆卸鋁合金框架，大型設備可現場組裝，靈活便捷，減少運輸壓力，方便不同環境使用運行。箱體采用高質量鈑金材質，美觀大方，可根據客戶需求定制外觀顏色，滿足客戶的個性化需求。

光刻設備對溫濕度的要求也極高，光源發出的光線需經過一系列復雜的光學系統聚焦到硅片表面特定區域，以實現對光刻膠的曝光，將設計好的電路圖案印制上去。當環境溫度出現極其微小的波動，哪怕只是零點幾攝氏度的變化，光刻機內部的精密光學元件就會因熱脹冷縮特性而產生細微的尺寸改變。這些光學元件包括鏡片、反射鏡等，它們的微小位移或形狀變化，會使得光路發生偏差。原本校準、聚焦于硅片特定坐標的光線，就可能因為光路的改變而偏離預定的曝光位置，出現曝光位置的漂移。可實現潔凈度百級、十級，溫度波動值±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.005℃、±0.002℃等精密環境控制。

超精密激光外徑測量儀，在精密制造領域里，是線纜、管材等產品外徑測量環節中不可或缺的存在。其測量精度直接關乎產品質量。然而，環境因素對它的干擾不容小覷。一旦溫度產生波動，儀器的光學系統便會因熱脹冷縮發生熱變形，致使原本激光聚焦出現偏差，光斑尺寸也隨之改變，如此一來，根本無法精確測量產品外徑。像在高精度線纜生產中，哪怕只是極其微小的溫度變化，都可能致使產品外徑公差超出標準范圍。而在高濕度環境下，水汽對激光的散射作用大幅增強，返回的激光信號強度減弱，噪聲卻不斷增大，測量系統難以準確識別產品邊界，造成測量數據的重復性和準確性都嚴重變差 。在生物制藥研發中，該設備能準確調控環境，助力藥物成分穩定，保障實驗結果可靠。芯片封裝溫濕度實驗環境

采用節能技術，在保障高性能的同時降低能耗，為企業節省運營成本。精密加工溫濕度實驗室

刻蝕的目的在于去除硅片上不需要的材料，從而雕琢出精細的電路結構。在這一精細操作過程中，溫度的波動都會如同“蝴蝶效應”般，干擾刻蝕速率的均勻性。當溫度不穩定時，硅片不同部位在相同時間內所經歷的刻蝕程度將參差不齊，有的地方刻蝕過度，有的地方刻蝕不足，直接破壞芯片的電路完整性，嚴重影響芯片性能。濕度方面，一旦出現不穩定狀況，刻蝕環境中的水汽會與刻蝕氣體發生復雜的化學反應，生成一些難以預料的雜質。這些雜質可能會附著在芯片表面，或是嵌入剛剛刻蝕形成的微觀電路結構中，給芯片質量埋下深深的隱患，后續即便經過多道清洗工序，也難以徹底根除這些隱患帶來的負面影響。精密加工溫濕度實驗室