而CMP工藝離不開研磨料的發展，那么對于磨料的顆粒粒度表征就顯得尤為重要了。CMP就是用化學腐蝕和機械力對加工過程中的硅晶圓或其它襯底材料進行平滑處理。將硅片固定在拋光頭的較下面，將拋光墊放置在研磨盤上，拋光時，旋轉的拋光頭以一定的壓力壓在旋轉的拋光墊上，由亞微米或納米磨粒和化學溶液組成的研磨液在硅片表面和拋光墊之間流動，然后研磨液在拋光墊的傳輸和離心力的作用下，均勻分布其上，在硅片和拋光墊之間形成一層研磨液液體薄膜。馳光機電具有一支經驗豐富、技術力量過硬的專業技術人才管理團隊。江蘇CPS高精度納米粒度分析儀哪家好

被測物料不溶于水，就用自來水作為試劑，以節約成本；被測物料在水中懸浮，可用乙醇將粉末濕潤后放入樣品槽；超聲分散的時間為15-60秒，測試結果一直穩定，不可再變化，說明樣粉已被充分分散。有些試樣由于強度低，超聲分散太長，有可能產生粉碎，使測試結果越來越細。有些試樣不易分散，也可加長分散時間。激光粒度儀的相關知識點就先說到這里了，這款產品還有很多的常識等著各位來發現與了解，如果您還想要了解更多內容，還請先關注好我們，華致林小編會不定期在此跟大家分享更多的信息。湖北高純度氧化鋁粉粒度在線分析儀馳光機電科技不斷提高產品的質量。

CPS納米粒度分析儀樣本分散系統：自動液體循環、干粉分散器、粉料送樣器、溫度控制器、氣溶膠控制器。粒度儀的較佳選擇：EyeTech可以提供顆粒系統粒徑、形狀和濃度等方面的總體信息。具有多樣化的功能，可以：監測動力學過程；提供標準的體積和數量分布的結果。激光和圖像通道的結合：對球形、非球形及細長顆粒的精確定性分析；可同時測量粒徑、粒形和濃度；多種模塊配置可滿足不同類型的干法及濕法檢測需求；測量過程中可實時觀察樣品顆粒。

磨料的粒度測量：以上我們了解到磨料在CMP工藝中起到了關鍵性的作用，CMP磨料顆粒的典型尺寸范圍是50-250納米，典型的過大聚集體為1-10微米，并出現在ppm范圍內。顆粒表征的挑戰來自于精確確定納米級顆粒尺寸，同時還識別出相對較少的微米級聚集體。CPS納米粒度分析儀表征磨料顆粒粒度的有力工具。它可以分析任何粒度分布介于0.005和75微米的顆粒，提供比其他粒度分析方法好2到10倍的分辨率。較小峰值寬度可小至峰值直徑的2%，粒徑差別在大于3%的窄峰可以被完全分辨出來。馳光機電科技一切從實際出發、注重實質內容。

系統配有沖洗系統，減少了由于系統污染引起的計劃外停機維護時間。樣品預處理系統：正確設計和操作樣品調節系統是分析儀成功運行的關鍵。該系統基于現場經驗針對這種復雜的工藝樣品，專門為低維護操作而設計。低維護的固體顆粒分離器。不帶過濾元件可將顆粒去除達到2-3微米，減少了維護量。先進的安全系統，保護分析儀免受高壓影響和防止產品泄漏。簡單校準。標準的引入是一種手工操作，只需使用注射器即可，不需要定期重新校準，無樣本回收系統。不斷開發新的產品，并建立了完善的服務體系。安徽CPS高精度納米粒度分析儀報價

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CMP(化學機械拋光)工藝中磨料顆粒的高精度粒徑表征隨著半導體工業飛速發展，電子器件尺寸縮小，要求晶片表面平整度達到納米級。CMP工藝作為芯片制造業不可或缺的一個部分，其對于磨料的顆粒粒度表征要求十分重要。CMP過程中使用的磨料顆粒典型尺寸范圍是10-200nm，其顆粒表征要求精確地確定納米級顆粒的尺寸，因此高分辨率納米粒度分析儀是磨料顆粒表征的完美解決方案。磨料對CMP工藝起著至關重要的作用！歡迎選用CPS納米粒度分析儀為您完美解決磨料顆粒問題！江蘇CPS高精度納米粒度分析儀哪家好

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