為了實(shí)現(xiàn)較佳過程控制，樣品測量時間為5分鐘左右。催化劑濃度通常在40至1000ppm范圍內(nèi)。C-Quand在線XRF分析儀是一款真正的過程分析儀，專為化工廠的惡劣環(huán)境而設(shè)計(jì)。分析儀配置和操作簡單。它配有模擬和串行數(shù)據(jù)傳輸協(xié)議。C-Quand在線 XRF分析儀可以連續(xù)測量多達(dá)四個流路，每個流都有自己的校準(zhǔn)曲線。此外，C-Quand在線XRF分析儀有各種方法來檢查和確保可靠的數(shù)據(jù)。每小時分析一次內(nèi)置的固體參考。有了這個內(nèi)置的自動參考，您將能夠在一年內(nèi)實(shí)現(xiàn)無漂移過程測量。馳光機(jī)電科技有限公司重信譽(yù)、守合同，嚴(yán)把產(chǎn)品質(zhì)量關(guān)，熱誠歡迎廣大用戶前來咨詢考察，洽談業(yè)務(wù)！福建高靈敏度納米粒度分析儀報價

CPS納米粒度分析儀測量參數(shù)：粒徑、粒形和濃度；粒徑范圍：0.1-3600μm；濃度范圍：高達(dá)109顆粒/cm3(對1μm顆粒)；供樣方式：液體、干粉、表面；系統(tǒng)規(guī)格/重量電源：665L×280W×183H(mm)；14Kg；100-130V，205-240V，50/60Hz，100VA；2mW He-Ne，632.8nm，硅PIN二極管檢測器；全量程的0.3%，小可達(dá)0.2μm；同步頻閃光源，亮度和持續(xù)時間可調(diào)；頻閃率；可達(dá)30次/秒。分辨率B&W CCD攝像機(jī)。NTSC 840×640像素；PAL768×572像素。Windows XP操作系統(tǒng)，檢測報告自動生成，符合FDA 21 CFRPART11標(biāo)準(zhǔn)。ISO標(biāo)準(zhǔn)；符合多項(xiàng)ISO方法標(biāo)準(zhǔn)；測量池模塊：液體、乳液/不透明液體、干粉、纖維、磁性顆粒、加熱液體及氣溶膠。福建高靈敏度納米粒度分析儀報價馳光機(jī)電科技有限公司品牌價值不斷提升。

高靈敏度：即使只有1微克樣品，CPS也能得到一個準(zhǔn)確的粒度分布結(jié)果。快速、高精度數(shù)模(A/D)轉(zhuǎn)換：可用信號分辨率(即軟件操作的數(shù)據(jù)對象)決定于數(shù)模轉(zhuǎn)換(A/D)過程。CPS系統(tǒng)使用的數(shù)模轉(zhuǎn)換可以實(shí)現(xiàn)在每秒31次取樣時保持20位以上的精度，即百萬分之一的誤差。快速檢測頭響應(yīng)：CPS系統(tǒng)的檢測頭和電路設(shè)計(jì)允許在95%精度下0.1秒的響應(yīng)速度，而同類產(chǎn)品的響應(yīng)時間為1-4秒。這一出眾的快速移動峰值檢測能力較大地?cái)U(kuò)展了測量的動態(tài)范圍，比同類型產(chǎn)品提供高出4倍多的分析速度。

CPS納米粒度儀測量金剛石的粒徑：金剛石微粉是指顆粒度細(xì)于36/54微米的金剛石顆粒，金剛石微粉硬度高、耐磨性好。大量用于機(jī)械、航天、光學(xué)儀器、玻璃、陶瓷、電子、石油、地質(zhì)、工業(yè)部門，用于制作PCD(聚晶金剛石)、 PDC(金剛石復(fù)合片)、陶瓷結(jié)合劑、金屬結(jié)合劑、電鍍產(chǎn)品；制作拉絲模、電鍍磨具，陶瓷、金屬結(jié)合劑磨具等；制造金剛石樹脂結(jié)合劑彈性磨塊等；用于精密機(jī)械、光學(xué)玻璃、精細(xì)陶瓷、寶石及半導(dǎo)體等產(chǎn)品的研磨拋光。CPS納米粒度分析儀測量金剛石微粉的粒徑。馳光機(jī)電科技有限公司創(chuàng)新發(fā)展，努力拼搏。

EyeTec濃度測量：除了顆粒大小，激光和顆粒交互產(chǎn)生的信號可以提供非常有用的顆粒濃度信息。EyeTech記錄全部的交互信號。因?yàn)樾D(zhuǎn)的激光的檢測范圍是一定的，所以顆粒濃度可以計(jì)算出來。了解顆粒數(shù)據(jù)庫系統(tǒng)：可通過鼠標(biāo)點(diǎn)擊調(diào)出每個已檢測顆粒的詳細(xì)數(shù)據(jù)信息，包括圖像、圖形和參數(shù)；顆粒數(shù)量無限制；顆粒信息易于輸出至Excel進(jìn)行進(jìn)一步處理；提供顆粒信息數(shù)據(jù)庫，數(shù)據(jù)挖掘便于分析對比和統(tǒng)計(jì)。動態(tài)粒形分析的形狀和粒徑相關(guān)數(shù)據(jù)可提供關(guān)于單個顆粒豐富的信息。選擇馳光，就是選擇質(zhì)量、真誠和未來。CPS高精度納米粒度分析儀價格

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激光檢測器同時檢測顆粒對光的散射程度，根據(jù)米氏散射理論，得出不同尺寸顆粒的相對含量，從而得到顆粒粒徑的分布曲線。主要參數(shù)：測量范圍：0.005-75μm，光源：405nmLED，旋轉(zhuǎn)速度：12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM，標(biāo)準(zhǔn)分析圓盤：CR-39聚合物（耐有機(jī)溶劑和水溶液），可選 配：低密度樣品分析擴(kuò)展、變速圓盤；自動密度梯度液生成器（型號AG300）；自動進(jìn)樣器（型號AS200）；標(biāo)定用標(biāo)準(zhǔn)顆粒。半導(dǎo)體CMP用拋光墊、清洗液、修整盤、拋光液、納米研磨粒子以及OLED顯示光敏聚酰亞胺、封裝墨水、低溫光阻材料等20余款“卡脖子”材料。福建高靈敏度納米粒度分析儀報價