CMP(化學機械拋光)工藝中磨料顆粒的高精度粒徑表征隨著半導體工業(yè)飛速發(fā)展，電子器件尺寸縮小，要求晶片表面平整度達到納米級。CMP工藝作為芯片制造業(yè)不可或缺的一個部分，其對于磨料的顆粒粒度表征要求十分重要。CMP過程中使用的磨料顆粒典型尺寸范圍是10-200nm，其顆粒表征要求精確地確定納米級顆粒的尺寸，因此高分辨率納米粒度分析儀是磨料顆粒表征的完美解決方案。磨料對CMP工藝起著至關重要的作用！歡迎選用CPS納米粒度分析儀為您完美解決磨料顆粒問題！馳光機電科技提供周到的解決方案，滿足客戶不同的服務需要。天津高純度氧化鋁粉粒度在線分析儀價格

據統(tǒng)計，2021年我國PTA將迎來投產前端期，基本都是行業(yè)前端企業(yè)配套上下游的規(guī)劃項目，其中恒力石化2021年在廣東惠州設計產能達到500萬噸，預計2021年我國PTA計劃投產PTA產能1650萬噸（保底1160萬噸），預計2022年我國PTA計劃投產PTA產能570萬噸。CPS高精度納米粒度分析儀CPS高精度納米粒度分析儀有三種型號：DC12000型、 DC18000型 和 DC24000UHR型。CPS納米粒度分析儀是目前世界上分析速度快、分辨率較高以及靈敏度較好的離心沉降式納米粒度分析儀，它可以分析任何粒度分布介于0.005微米和75微米之間的顆粒。天津高純度氧化鋁粉粒度在線分析儀價格馳光機電科技誠信、盡責、堅韌。

云計算和大數據整合，隨著云計算和大數據技術的發(fā)展，實驗室分析儀可能會與云端服務進行整合。這樣不只可以方便數據的存儲、分析和共享，還可以通過大數據技術提高實驗結果的可信度和可靠性。環(huán)保和可持續(xù)發(fā)展，隨著對環(huán)保意識的提高，未來的實驗室分析儀可能會更加注重環(huán)保和可持續(xù)發(fā)展。例如，使用更少的樣品和試劑、降低能源消耗、減少廢棄物產生等。遠程監(jiān)控和維護，借助物聯(lián)網和遠程通信技術，未來的實驗室分析儀可能實現遠程監(jiān)控和維護。這樣可以在線診斷問題、遠程升級軟件和硬件，甚至可能實現遠程控制。

磨料的粒度測量：以上我們了解到磨料在CMP工藝中起到了關鍵性的作用，CMP磨料顆粒的典型尺寸范圍是50-250納米，典型的過大聚集體為1-10微米，并出現在ppm范圍內。顆粒表征的挑戰(zhàn)來自于精確確定納米級顆粒尺寸，同時還識別出相對較少的微米級聚集體。CPS納米粒度分析儀表征磨料顆粒粒度的有力工具。它可以分析任何粒度分布介于0.005和75微米的顆粒，提供比其他粒度分析方法好2到10倍的分辨率。較小峰值寬度可小至峰值直徑的2%，粒徑差別在大于3%的窄峰可以被完全分辨出來。馳光機電具有一支經驗豐富、技術力量過硬的專業(yè)技術人才管理團隊。

應用實例：測量高純氧化鋁粉。一般來說，含量大于99%的氧化鋁稱為高純氧化鋁，其特性有耐化學腐蝕、耐高溫(正常使用在1600℃，短期1800℃)、耐驟冷驟熱、密度高等。99.995%高純氧化鋁粉主要用于LED人造藍寶石晶體、高級陶瓷、PDP熒光粉及其他高性能材料；99.99%高純氧化鋁粉用于高壓鈉燈、新型發(fā)光材料、特殊陶瓷、高級涂層、三基色、催化劑及其他高性能材料。粒度是高純氧化鋁粉產品的重要指標，CPS納米粒度分析儀能給您帶來確切穩(wěn)定的測量結果。使用CPS分析儀平行測定3次高純氧化鋁粉得到的疊加圖。馳光機電是多層次的團體與管理模式。安徽CPS高精度納米粒度分析儀價格

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CPS分析儀基本原理：CPS納米粒度分析儀依據Stokes定律，V=D2(ρP-ρF)G/18η，即顆粒沉降的速度與顆粒的尺寸平方成正比來進行粒度的測量。待測樣品從圓盤中心進入高速旋轉的圓盤，在離心力的作用下發(fā)生沉降，沉降的速度遵循Stokes公式，在距離圓盤的邊緣固定位置設有激光檢測器，顆粒按尺寸大小依次通過探測器，儀器記錄顆粒通過探測器的時間，由于所有顆粒走過的路程都一樣，因此，顆粒運動所需的時間與顆粒本身尺寸的平方成反比，激光檢測器同時檢測顆粒對光的散射程度。天津高純度氧化鋁粉粒度在線分析儀價格