Newport SmartTable® 系列光學平臺采用先進的阻尼技術，適用于多種高精度實驗，包括光譜學實驗。以下是SmartTable® 系列光學平臺在光譜學實驗中的具體應用和優(yōu)勢：1. 高分辨率光譜學實驗SmartTable® 系列光學平臺采用混合阻尼技術，結合了主動阻尼和被動調諧阻尼器，能夠有效消除振動，為高分辨率光譜學實驗提供穩(wěn)定的環(huán)境。這種平臺特別適用于需要極高振動控制的應用，例如：高分辨率光譜測量：通過減少振動，SmartTable® 系列能夠顯著提高光譜測量的精度和重復性。超精密納米結構研究：在光譜學實驗中，平臺的高穩(wěn)定性和低振動特性能夠確保納米級操作的精確性。ST-UT2平臺配備了兩個精密調諧的被動阻尼器，用于消除平臺的基本結構振動模式及其諧波。江西Newport

RPRReliance?平臺適用于以下光學實驗和應用場景：基礎光學實驗適合高校和教育機構的基礎光學實驗，幫助學生進行光學元件的安裝和測試。光學元件測試適用于光學元件的對準和測試，如透鏡、反射鏡、光學系統(tǒng)的性能測試。光譜學研究提供穩(wěn)定的支撐環(huán)境，減少振動對光譜測量的影響。工業(yè)級應用適用于工業(yè)環(huán)境中的光學元件制造和測試，如光模塊性能測試、光學鏈路損耗測試。材料研究支撐大型真空室或其他重型儀器，適用于光電材料的綜合測試。非磁性版本RPR-N系列采用非磁性316不銹鋼，適用于需要去除所有磁性材料的實驗，如材料研究中的極端應用。貴州水平隔振器Newport供應商RS4000平臺是為干涉測量研究設計的，能夠有效消除振動，確保干涉儀的測量精度。

Newport 提供多種光學平臺，適用于光譜學實驗，能夠滿足不同精度和預算需求。以下是幾種適用于光譜學實驗的 Newport 光學平臺：1. RS2000 系列光學平臺RS2000 系列光學平臺配備兩個精密可調阻尼器，能夠有效消除平臺共振，提供良好的振動控制。其特點包括：調諧質量阻尼（TMD）：集中阻尼力，有效消除共振頻率。高平整度工作表面：4.8 毫米厚的表層，每 2 平方英尺表面平整度為 ±0.004 英寸。兼容多種支撐方式：可升級至氣動隔離的剛性支撐腿。應用：適用于生物醫(yī)學成像、光譜學、電生理學等。

電生理學在電生理學研究中，RS2000系列光學平臺為高精度實驗提供了穩(wěn)定的環(huán)境，確保實驗數據的準確性和可靠性。5. 工業(yè)制造RS2000系列光學平臺在工業(yè)制造中也有廣泛應用，例如在半導體制造和精密機械加工領域，能夠減少振動對生產過程的影響，提高生產效率和產品質量。6. 教育與科研RS2000系列光學平臺適用于高校和科研機構的基礎光學實驗和高精度研究，為學生和研究人員提供了穩(wěn)定的實驗環(huán)境。總結Newport RS2000系列光學平臺憑借其兩個精密可調阻尼器、桁架式蜂窩芯結構和調諧質量阻尼技術，為多種高精度實驗和工業(yè)制造應用提供了***的振動控制和穩(wěn)定性。這些特點使其成為生物醫(yī)學成像、掃描顯微鏡、光譜學、電生理學和工業(yè)制造等領域的理想選擇。SL系列氣動隔振器：適用于中等隔振需求，價格較為經濟。

. Integrity VCS 系列光學平臺Integrity VCS 系列光學平臺提供不同級別的阻尼和隔離選項，適用于光譜學等應用：Integrity 4 VCS：帶有兩個可調阻尼器和氣動隔離器的 4.8 毫米表層平臺系統(tǒng)，適用于苛刻的應用。Integrity 3 VCS：帶有單個可調阻尼器和氣動隔離器的 4.8 毫米表層平臺系統(tǒng)，適合需要適度阻尼的光電實驗。Integrity 2 VCS：帶有氣動隔離器的 4.8 毫米表層平臺系統(tǒng)，適合基本光譜和其他非干涉測量應用。3. RPR 系列光學平臺RPR 系列光學平臺具有寬帶阻尼，適用于一般應用，包括光譜學實驗：特點：與調諧阻尼 RS 系列光學平臺具有相同的寬帶阻尼、靜態(tài)剛度和熱穩(wěn)定性，但價格更為適中。應用：適合預算有限但需要一定振動控制的光譜學實驗。采用TMD技術，將阻尼力集中在主共振模式的頻率上，相比寬帶阻尼方法，能夠更有效地消除振動。青海光學平臺Newport廠商

支持S-2000A隔振器、SL系列氣動隔振器和RL系列剛性支撐腿，滿足不同應用需求。江西Newport

在選擇Newport光學平臺用于工業(yè)制造時，RS4000系列和RS2000系列各有其特點和優(yōu)勢，具體選擇取決于實驗的具體需求和預算。RS4000系列阻尼性能：RS4000系列擁有6個精密可調阻尼器，能夠有效消除平臺的大部分共振，提供***的被動阻尼性能。這種高性能的阻尼系統(tǒng)使其成為對振動控制要求極高的工業(yè)制造應用的理想選擇，例如高精度的半導體制造、納米材料加工等。適用場景：特別適用于需要嚴格水平阻尼的高精度工業(yè)制造過程，如活細胞成像、高分辨率成像、干涉測量、長曝光時間的實驗等。江西Newport