電池濕法去PSG設備主要是對太陽能電池用硅片進行清洗處理，2022年成功研發雙六道大產能去PSG清洗設備，并實現量產，結構穩定性、產能、安全性升級。去PSG工藝首先將繞擴層PSG進行去除，利用背面PSG保護，在槽式清洗中完成去繞度工藝。為尋求更為穩定的硅片傳輸，整機設計為雙五道/雙六道分布結構，料臺歸正寬度可調，兼容更多規格的硅片，并為后續18X硅片更大產能改造提供了預留窗口；去PSG設備布局前后通透，給設備使用者提供了便捷性；上料臺搭配了大流量全新滴液泵；太陽能光伏電池濕法制絨設備使用強堿腐蝕晶體硅表面形成規則金字塔狀絨面，增加硅片對太陽光的吸收。無錫硅片濕法堿拋設備

電池濕法設備Topcon工藝，拋清洗設備，功能是去除背面BSG和拋光處理。l閉環運動控制系統，保證輸送機構運動平穩性。l拋光槽：上表面采用水膜保護及輥輪帶液方式，完整的保護正面的同時，對背面作拋光處理。l烘干槽：采用高壓風機+高效過濾器的方式，l鏈式去BSG+槽式堿拋設備，設備產能大，穩定性好。l進口PLC控制，穩步提升設備的產能。l慢提拉采用機械臂慢提方式，設備滿足干濕分離，匹配高效電池發展趨勢。l可配套無金屬化制程設備，提高設備潔凈度。l工藝槽采用經典的內外槽的循環模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分攪拌均勻，槽內控溫精度誤差＜±1℃。無錫硅片濕法堿拋設備濕法刻蝕設備（Perc 工藝）工藝槽采用經典的內外槽的循環模式。

電池濕法去PSG設備主要是對太陽能電池用硅片進行清洗處理，雙六道大產能去PSG清洗設備，結構穩定性、產能、安全性升級。去PSG工藝首先將繞擴層PSG進行去除，利用背面PSG保護，在槽式清洗中完成去繞度工藝。為尋求更為穩定的硅片傳輸，整機設計為雙五道/雙六道分布結構，料臺歸正寬度可調，兼容更多規格的硅片，并為后續18X硅片更大產能改造提供了預留窗口；去PSG設備布局前后通透，給設備使用者提供了便捷性；上料臺搭配了大流量全新滴液泵；

專業濕法設備HJT工藝功能是去除切割損傷層和表面臟污l使用強堿腐蝕晶體硅表面形成規則金字塔狀絨面，增加硅片對太陽光的吸收，降低反射率l增加硅片表面積，進而PN結面積也相應增加。設備優勢是進口PLC控制，兼容MES，UPS和RFID功能。機械手分配合理，有效避免藥液交叉污染和槽體反應超時。工藝槽采用經典的內外槽的循環模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分攪拌均勻，槽內控溫精度誤差＜±1℃。所有與液體接觸的材料均采用進口材質，避免材料雜質析出；引進半導體清洗工藝，保證硅片表面的潔凈度。斜拉式慢提拉結構，有效提升脫水能力，匹配高效電池發展趨勢。采用低溫烘干技術，保證槽內的潔凈度和溫度均勻性。太陽能光伏電池濕法制絨設備（Topcon工藝）使用強堿腐蝕在硅片背面拋光形成近似鏡面的絨面結構。

濕法工藝是一種化學反應過程，其中使用的催化劑是用于促進反應速率的物質。在濕法工藝中，催化劑的作用是加速化學反應的速率，從而提高生產效率和降低生產成本。在濕法工藝中，常用的催化劑包括酸、堿、氧化劑、還原劑等。其中，酸催化劑是常用的一種，它可以促進酸堿中和反應、酯化反應、酰胺化反應、烷基化反應等。常用的酸催化劑包括硫酸、鹽酸、磷酸等。堿催化劑也是濕法工藝中常用的一種催化劑，它可以促進酯化反應、酰胺化反應、?；磻取３Ｓ玫膲A催化劑包括氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉等。氧化劑和還原劑也是濕法工藝中常用的催化劑，它們可以促進氧化反應、還原反應等。常用的氧化劑包括過氧化氫、高錳酸鉀等，常用的還原劑包括亞硫酸鈉、硫酸亞鐵等?？傊?，濕法工藝中使用的催化劑種類繁多，不同的反應需要不同的催化劑來促進反應速率。在實際應用中，需要根據具體的反應條件和要求選擇合適的催化劑。光伏電池濕法背拋清洗設備（XBC工藝）慢提拉采用機械臂慢提方式，設備滿足干濕分離。鄭州HJT濕法哪家好

電池濕法制絨清洗設備（XBC工藝）工藝槽采用經典的內外槽的循環模式，槽內控溫精度誤差＜±1℃。無錫硅片濕法堿拋設備

濕法設備包括濕法制絨設備（Perc 工藝）、制絨設備（Topcon工藝）、濕法刻蝕設備（Perc 工藝）、RCA槽式清洗設備（Topcon工藝）、電池濕法背拋清洗設備（Topcon工藝）、濕法制絨設備（HJT工藝）、電池濕法背拋清洗設備（XBC工藝）、制絨清洗設備（XBC工藝）等設備；釜川生產制造的濕法設備能與多種主流工藝如PERC、TOPCON、HPBC等相匹配，在設備結構、功能、產能和安全性等方面進行了升級。其作用是對太陽能電池用硅片進行清洗制絨處理，從而提升電池的質量和效率。無錫硅片濕法堿拋設備