全新的NanoscribeQuantumX系統適用于工業生產中所需手板和模具的定制化精細加工。該無掩模光刻系統顛覆了自由形狀的微透鏡、微透鏡陣列和多級衍射光學元件的傳統制作工藝。全球較早雙光子灰度光刻(2GL®)系統將具有出色性能的灰度光刻與Nanoscribe精確靈動的雙光子聚合技術結合起來。QuantumX提供了完全的設計自由度、高速的打印效率、以及增材制造復雜結構超光滑表面所需的高精度。快速、準確的增材制造工藝極大地縮短了設計迭代周期，實現了低成本的微納加工。憑借著獨有的產品優勢Nanoscribe新發布的QuantumX在2019慕尼黑光博會展（LASERWorldofPhotonics2019）榮獲創新獎。采用先進技術，實現高精度無掩膜光刻寫，滿足您的精細加工需求。廣東進口無掩膜光刻微納加工系統

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業系統，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。該系統配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉換，物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監控打印作業，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目，打印隊列支持連續執行一系列打印作業。德國進口無掩膜光刻微納加工系統無掩膜光刻技術具有高精度和高分辨率的特點。

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實現通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX的同系列產品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造，以達到高水平的生產力和打印質量。總而言之，工業級QuantumX打印系統系列提供了從納米到中觀尺寸結構的非常先進的微制造工藝，適用于晶圓級批量加工。高速3D微納加工系統QuantumXshape可實現出色形狀精度和高精度制作。這種高質量的打印效果是結合了特別先進的振鏡系統和智能電子系統控制單元的結果，同時還離不開工業級飛秒脈沖激光器以及平穩堅固的花崗巖操作平臺。QuantumXshape具有先進的激光焦點軌跡控制，可操控振鏡加速和減速至特別快的掃描速度，并以1MHz調制速率動態調整激光功率。

售后支持和服務擁有超過14年的微加工技術經驗，我們的技術支持團隊努力在短的時間內為客戶提供好的支持。在德國總部，中國分公司和美國分公司，以及通過Nanoscribe認證的經銷商提供的銷售服務和技術支持。我們的跨學科和多語言技術支持團隊為客戶提供各方面的支持:裝機、維護和維修現場和線上的培訓課程通過NanoGuide綜合自助服務平臺自助查詢電話、電子郵件和設備自帶遠程支持功能基礎操作技巧之外的高階技術和應用支持延長維修保修合同、升級服務、移機服務德國Nanoscribe雙光子無掩模光刻微納技術你想了解嗎？歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維。

基于低成本和小型化特點的集成光子芯片技術，該項目有望將光學相干斷層掃描（OCT）從局限的眼科臨床應用帶入更廣的眼科護理移動應用中來。由維也納醫科大學牽頭的HandheldOCT研究項目旨在運用成熟的光學相干斷層掃描成像技術（OCT），來實現便攜式現場即時眼科護理檢查。預計此款正在開發的具備先進技術和成本效應的便攜式集成光子芯片技術OCT成像設備將用于診斷和監測多種眼部疾病，例如，老年性黃斑病變、糖尿病性視網膜病變以及青光眼，這些疾病在世界范圍內都是導致失明的主要因素。該便攜式設備將會在維也納總醫院進行測試以驗證其在眼科診斷的效果。無掩膜光刻機具有無掩模光刻技術的便利，很大程度提高了無掩膜影印和新產品研發的效率。重慶進口無掩膜光刻技術3D打印

無掩膜光刻技術的更多信息，請致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。廣東進口無掩膜光刻微納加工系統

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及比較廣的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經分布在30多個國家的前沿研究中，超過1,000個開創性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力特別好的證明。廣東進口無掩膜光刻微納加工系統