專為8"-12"晶圓設(shè)計(jì)，主軸采用PIN升降氣缸結(jié)構(gòu)，避免旋轉(zhuǎn)精度損失。兩路供膠系統(tǒng)（高/低粘度）結(jié)合EBR、BSR、RRC清洗功能，液路通斷回吸防滴漏。Windows系統(tǒng)+觸摸屏人機(jī)界面，三級(jí)權(quán)限管理，實(shí)時(shí)監(jiān)控與數(shù)據(jù)導(dǎo)出。FFU系統(tǒng)提供100級(jí)潔凈環(huán)境（0.1μm過(guò)濾），腔體多層氣液分離設(shè)計(jì)提升工藝穩(wěn)定性4。7. 鑫有研B型升級(jí)勻膠顯影機(jī)CKF-121的進(jìn)階版本，預(yù)存參數(shù)擴(kuò)容至20組時(shí)間+80組轉(zhuǎn)速參數(shù)。128級(jí)高精度D/A轉(zhuǎn)換調(diào)速，***顯示與實(shí)時(shí)轉(zhuǎn)速監(jiān)測(cè)雙系統(tǒng)。吸盤電機(jī)停穩(wěn)后自動(dòng)關(guān)閉，降低機(jī)械損耗。外形緊湊（650×750×1620mm），適用于實(shí)驗(yàn)室與小批量生產(chǎn)16。8. 芯源微KS-C300高溫烘焙勻膠顯影一體機(jī)集成漸近式熱盤（250℃）與電子冷盤，顯影單元配置恒溫液路。支持SMIF/THC接口，自動(dòng)化晶圓傳輸減少人工污染。動(dòng)態(tài)故障診斷系統(tǒng)實(shí)時(shí)預(yù)警，維護(hù)周期延長(zhǎng)30%。適用于化合物半導(dǎo)體及光通訊器件制造
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針對(duì)GaAs、InP材料優(yōu)化，勻膠厚度波動(dòng)＜±1.5%。伺服電機(jī)閉環(huán)控制，抗干擾性強(qiáng)。可選配惰性氣體腔體，防止材料氧化34。14.芯源微12英寸全自動(dòng)勻膠顯影機(jī)適配300mm晶圓，配備機(jī)械手傳輸系統(tǒng)。顯影液恒溫裝置±0.1℃精度，霧化噴嘴減少液體消耗30%。支持SMIF/FOUP標(biāo)準(zhǔn)，滿足28nm制程要求2。15.POLOS400多材料勻膠顯影機(jī)拓展兼容光掩膜版與陶瓷基板，轉(zhuǎn)速0-10,000rpm。腔體尺寸定制化，可選徑向/線性滴膠模式。德國(guó)TüV安全認(rèn)證，適用于多行業(yè)研發(fā)中心5。16.LaurellEDC-850高通量顯影機(jī)雙腔體并行處理，日產(chǎn)能達(dá)2000片（6英寸）。配備壓力罐與膠泵雙供液系統(tǒng)，溫控范圍5-40℃。SPIN5000軟件支持遠(yuǎn)程監(jiān)控，適合IDM大廠無(wú)錫國(guó)產(chǎn)顯影機(jī)成本價(jià)顯影數(shù)據(jù)=黃金！云端分析平臺(tái)如何創(chuàng)造新盈利點(diǎn)。

高頻超聲輔助顯影機(jī)-SonicDevS4集成1MHz高頻超聲發(fā)生器，空化效應(yīng)提升顯影液活性。可精細(xì)控制作用深度，選擇性***殘留物而不損傷精細(xì)圖形，特別適用于EUV隨機(jī)缺陷修復(fù)，良率提升15%。15.量子芯片**低溫顯影機(jī)-QuantumDevQ1-50℃低溫工藝艙滿足超導(dǎo)材料要求，防電磁干擾設(shè)計(jì)保護(hù)量子比特。納米級(jí)靜電噴霧技術(shù)實(shí)現(xiàn)微米區(qū)域選擇性顯影，為量子比特陣列制備提供顛覆性工具。多材料兼容顯影機(jī)|17.卷對(duì)片（R2S）混合系統(tǒng)|18.太空輻射加固顯影設(shè)備19.數(shù)字微流體芯片顯影平臺(tái)|20.光刻膠回收再生系統(tǒng)|21.晶圓級(jí)微鏡頭陣列顯影方案22.神經(jīng)形態(tài)芯片**機(jī)|23.超快脈沖激光輔助系統(tǒng)|24.生物芯片低溫顯影單元25.自組裝材料定向顯影|26.磁控旋涂顯影一體機(jī)|27.亞秒級(jí)快速停機(jī)安全系統(tǒng)28.納米線陣列顯影優(yōu)化平臺(tái)|29.元宇宙虛擬調(diào)試系統(tǒng)|30.月球基地原位制造微型顯影機(jī)）

愛(ài)姆加6/8英寸全自動(dòng)勻膠顯影機(jī)：工業(yè)級(jí)高效生產(chǎn)陜西愛(ài)姆加的6/8英寸全自動(dòng)勻膠顯影機(jī)支持Φ2"-8"晶圓，涂膠與顯影模塊具備暫停/恢復(fù)功能，允許同片盒內(nèi)各硅片**定制工藝。設(shè)備采用干濕分離與電液分隔設(shè)計(jì)，配備層流罩提升潔凈度。關(guān)鍵參數(shù)包括主軸轉(zhuǎn)速0-8000rpm（±1rpm）、膜厚均勻性＜1%、溫度控制±0.5℃，MTBF（平均無(wú)故障時(shí)間）達(dá)1500小時(shí)，適用于IC、LED、MEMS等**制造3。4.POLOS300勻膠顯影機(jī)：德國(guó)精密技術(shù)的典范德國(guó)SPS的POLOS300適配360mm晶圓及8×8英寸方片，轉(zhuǎn)速0-12,000rpm（誤差<±1%），工藝時(shí)間精度0.1秒。其可編程閥支持順序化蝕刻、顯影及氮?dú)飧稍锪鞒蹋郾┎馁|(zhì)非真空托盤兼容2-3英寸晶圓。透明ECTFE蓋板實(shí)現(xiàn)操作可視化，PLC控制器確保程序存儲(chǔ)（20組程序×51步），滿足半導(dǎo)體和光刻膠工藝的高穩(wěn)定性需求6。恒溫循環(huán)顯影系統(tǒng)，確保成像質(zhì)量穩(wěn)定。

多功能顯影機(jī)：顯影、水洗、上膠、烘干一體化**多功能一體化顯影機(jī)是現(xiàn)代制版車間的效率擔(dān)當(dāng)。它將印版顯影后必不可少的多個(gè)后處理步驟——徹底水洗以去除殘留藥液、均勻涂布保護(hù)膠（Gum）以保護(hù)印版圖文和非圖文區(qū)域并增強(qiáng)親水性、以及快速烘干——集成在一條緊湊的生產(chǎn)線內(nèi)。印版在設(shè)備中一次性順序完成全部處理流程，無(wú)需在不同設(shè)備間周轉(zhuǎn)。這不僅極大簡(jiǎn)化了操作步驟，節(jié)省了車間空間，更重要的是避免了印版在工序轉(zhuǎn)換過(guò)程中可能受到的物理?yè)p傷（如劃傷）或環(huán)境因素（如灰塵污染）影響，確保了印版處理的一致性和**終品質(zhì)，同時(shí)***提升了整體處理速度。顯影機(jī)堵噴嘴成歷史？自清潔技術(shù)震撼來(lái)襲。杭州雙擺臂勻膠顯影機(jī)銷售價(jià)格

桌面式顯影機(jī)：小型工作室的得力助手。無(wú)錫雙擺臂勻膠顯影機(jī)推薦貨源

源呈科技顯影盒**：電荷攜帶能力突破珠海源呈科技的顯影盒**（）通過(guò)電力接收件與顯影劑直接接觸，增強(qiáng)攪拌摩擦中的電荷攜帶量。送粉輥與顯影輥協(xié)同提升顯影劑輸送穩(wěn)定性，改善打印圖像色彩層次。可拆卸設(shè)計(jì)簡(jiǎn)化維護(hù)，適配**打印設(shè)備，推動(dòng)圖像處理行業(yè)革新4。10.CKF-121勻膠顯影機(jī)：凈化環(huán)境下的精密涂覆浙江茂盛標(biāo)牌的CKF-121提供美國(guó)聯(lián)邦標(biāo)準(zhǔn)100級(jí)凈化環(huán)境，垂直層流風(fēng)速0.3-0.5m/s。支持Φ30-75mm硅片，轉(zhuǎn)速500-8000rpm（±3%），內(nèi)置E2PRAM存儲(chǔ)器預(yù)存40組工藝參數(shù)。全自動(dòng)模式下吸盤智能啟停，減少人為失誤，適用于光刻膠涂覆及集成電路抗蝕劑制無(wú)錫雙擺臂勻膠顯影機(jī)推薦貨源