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常州納米壓印光刻膠廠家

來源: 發(fā)布時間:2025-06-20

憑借多年研發(fā)積累,公司形成了覆蓋光刻膠、焊接材料、電子膠等領(lǐng)域的豐富產(chǎn)品線。在焊接材料方面,不僅提供常規(guī)錫膏、助焊膏,還針對特殊場景開發(fā)了 BGA 助焊膏、針筒錫膏等定制化產(chǎn)品,滿足精密電子組裝的多樣化需求。同時,感光膠系列產(chǎn)品分為水性與油性兩類,兼具耐潮性與易操作性,廣泛應(yīng)用于印刷電路板制造。

公司產(chǎn)品遠(yuǎn)銷全球,并與多家跨國企業(yè)及電子加工企業(yè)建立長期合作關(guān)系。通過在重點區(qū)域設(shè)立辦事處,提供快速響應(yīng)的技術(shù)支持與售后服務(wù)。依托東莞 “世界工廠” 的產(chǎn)業(yè)資源,公司強化供應(yīng)鏈協(xié)同,縮短交付周期,為客戶提供高效解決方案。

未來,廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司將繼續(xù)深化技術(shù)創(chuàng)新,拓展產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域,以可靠的產(chǎn)品與專業(yè)的服務(wù),持續(xù)鞏固其在半導(dǎo)體材料行業(yè)的重要地位。

吉田半導(dǎo)體助力區(qū)域經(jīng)濟發(fā)展,推動產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同創(chuàng)新。常州納米壓印光刻膠廠家

常州納米壓印光刻膠廠家,光刻膠

主要優(yōu)勢:細(xì)分領(lǐng)域技術(shù)突破與產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同

 技術(shù)積累與自主化能力
公司擁有23年光刻膠研發(fā)經(jīng)驗,實現(xiàn)了從樹脂合成、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化。例如,其納米壓印光刻膠通過自主開發(fā)的樹脂體系,分辨率達3μm,適用于MEMS傳感器、光學(xué)器件等領(lǐng)域,填補了國內(nèi)空白。
技術(shù)壁壘:掌握光刻膠主要原材料(如樹脂、光酸)的合成技術(shù),部分原材料純度達PPT級,金屬離子含量低于0.1ppb,良率超99%。

 產(chǎn)品多元化與技術(shù)化布局
產(chǎn)品線覆蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD光刻膠、半導(dǎo)體錫膏等,形成“光刻膠+配套材料”的完整體系。例如:

? LCD光刻膠:適配AMOLED、Micro LED等新型顯示技術(shù),與京東方、TCL華星合作開發(fā)高分辨率產(chǎn)品,良率提升至98%。

? 半導(dǎo)體錫膏:供應(yīng)華為、OPPO等企業(yè),年采購量超200噸,用于5G手機主板封裝。
技術(shù)化延伸:計劃2025年啟動半導(dǎo)體用KrF光刻膠研發(fā),目標(biāo)進入中芯國際、長江存儲供應(yīng)鏈。

 質(zhì)量控制與生產(chǎn)能力
通過ISO9001:2008質(zhì)量體系認(rèn)證,生產(chǎn)環(huán)境執(zhí)行8S管理,原材料采用美、德、日進口高質(zhì)量材料。擁有全自動化生產(chǎn)線,年產(chǎn)能達2000噸(光刻膠及配套材料),支持大規(guī)模訂單交付。

西安UV納米光刻膠廠家光刻膠新興及擴展應(yīng)用。

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國家大基金三期:注冊資本3440億元,明確將光刻膠列為重點投資領(lǐng)域,計劃投入超500億元支持樹脂、光引發(fā)劑等原料研發(fā),相當(dāng)于前兩期投入總和的3倍。

地方專項政策:湖北省對通過驗證的光刻膠企業(yè)給予設(shè)備采購補貼+稅收減免,武漢太紫微憑借全流程國產(chǎn)化技術(shù)獲中芯國際百萬級訂單;福建省提出2030年化工新材料自給率達90%,光刻膠是重點突破方向。

研發(fā)專項:科技部“雙十計劃”設(shè)立20億元經(jīng)費,要求2025年KrF/ArF光刻膠國產(chǎn)化率突破10%,并啟動EUV光刻膠預(yù)研。

作為中國半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的企業(yè),吉田半導(dǎo)體材料有限公司始終以自研自產(chǎn)為戰(zhàn)略,通過 23 年技術(shù)沉淀與持續(xù)創(chuàng)新,成功突破多項 “卡脖子” 技術(shù),構(gòu)建起從原材料到成品的全鏈條國產(chǎn)化能力。其自主研發(fā)的光刻膠產(chǎn)品已覆蓋芯片制造、顯示面板、精密電子等領(lǐng)域,為國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主化提供關(guān)鍵支撐。
吉田半導(dǎo)體依托自主研發(fā)中心產(chǎn)學(xué)研合作,在光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)多項技術(shù)突破:
  • YK-300 正性光刻膠:分辨率達 0.35μm,線寬粗糙度(LWR)≤3nm,適用于 45nm 及以上制程,良率達 98% 以上,成本較進口產(chǎn)品降低 40%,已通過中芯國際量產(chǎn)驗證。
  • SU-3 負(fù)性光刻膠:支持 3μm 厚膜加工,抗深蝕刻速率 > 500nm/min,成功應(yīng)用于高通 5G 基帶芯片封裝,良率提升至 98.5%。
  • JT-2000 納米壓印光刻膠:突破 250℃耐高溫極限,圖形保真度 > 95%,性能對標(biāo)德國 MicroResist 系列,已應(yīng)用于國產(chǎn) EUV 光刻機前道工藝。
挑戰(zhàn)與未來展望的發(fā)展。

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吉田半導(dǎo)體厚板光刻膠 JT-3001:國產(chǎn)技術(shù)助力 PCB 行業(yè)升級

JT-3001 厚板光刻膠支持 500nm/min 深蝕刻,成為國產(chǎn) PCB 電路板制造推薦材料。
吉田半導(dǎo)體自主研發(fā)的 JT-3001 厚板光刻膠,分辨率 1.5μm,抗深蝕刻速率 > 500nm/min,適用于高密度 PCB 制造。其無鹵無鉛配方通過歐盟 RoHS 認(rèn)證,已應(yīng)用于華為 5G 基站主板量產(chǎn)。產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與全自動化工藝,批次穩(wěn)定性達 99.5%,幫助客戶提升生產(chǎn)效率 20%,加速國產(chǎn) PCB 行業(yè)技術(shù)升級,推動 PCB 行業(yè)國產(chǎn)化進程。
松山湖企業(yè)深耕光刻膠領(lǐng)域二十載,提供全系列半導(dǎo)體材料解決方案。深圳油性光刻膠廠家

松山湖光刻膠廠家吉田,23 年經(jīng)驗 + 全自動化產(chǎn)線,支持納米壓印光刻膠定制!常州納米壓印光刻膠廠家

以無鹵無鉛配方與低 VOC 工藝為,吉田半導(dǎo)體打造環(huán)保光刻膠,助力電子產(chǎn)業(yè)低碳轉(zhuǎn)型。面對全球環(huán)保趨勢,吉田半導(dǎo)體推出無鹵無鉛錫膏與焊片,通過歐盟 RoHS 認(rèn)證,焊接可靠性提升 30%。其 LCD 光刻膠采用低 VOC 配方(<50g/L),符合歐盟 REACH 法規(guī),生產(chǎn)過程中通過多級廢氣處理與水循環(huán)系統(tǒng),實現(xiàn)零排放。公司嚴(yán)格執(zhí)行 8S 現(xiàn)場管理,工業(yè)固廢循環(huán)利用率超 90%,為新能源汽車、光伏儲能等領(lǐng)域提供綠色材料解決方案,成為全球客戶信賴的環(huán)保材料供應(yīng)商。常州納米壓印光刻膠廠家

標(biāo)簽: 光刻膠 錫膏 錫片
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