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RPS遠程等離子源-用于半導體設備工藝腔體原子級別的清潔
RPS遠程等離子源-用于半導體設備工藝腔體原子級別的清潔
薄膜沉積技術通過在基底上沉積特定材料形成薄膜，以實現表面功能化與性能優化。
在半導體制造中，用于沉積絕緣層、導電層及介質層，構成集成電路結構；在光伏產業中，通過制備透明導電層與光吸收層，優化太陽能電池的轉化效率與穩定性。
然而，薄膜沉積后的腔室、石墨舟及石英管等組件容易因殘留膜層導致工藝異常與安全隱患，直接影響薄膜均勻性、設備穩定性及產品良率。
RPS遠程等離子源解決方案
RPS遠程等離子源是基于電感耦合等離子體技術的自成一體的原子發生器，利用原子的高活性強氧化特性，達到清洗CVD或其他腔室后生產工藝的目的。
產品優勢
1.自研PEO表面處理工藝，可提升腔體內部潔凈度，增加PEO膜層使用壽命，降低維護成本
2.晟鼎P L A SMA BLOCK更耐腐蝕，可提高使用壽命
3.高可靠點火方式，確保點火能量穩定
4.氣體解離率高，效果可媲美進口設備
應用案例
1.薄膜設備腔室清洗
薄膜設備腔室通常材質包括不銹鋼、鋁合金、鈦合金等金屬材料，以及石英等非金屬材料。在薄膜沉積過程中，腔室內壁易附著殘留膜層，引發顆粒污染或膜層不均勻，需通過定期清洗以維護工藝穩定性。
腔體處理效果
RPS通過高活性的自由基和粒子轟擊，處理腔室內壁表面膜層，且不損傷內壁鍍層，可延長設備壽命、降低維護頻率，保障穩定性。
*石英腔體處理效果對比
2.石墨舟膜層處理
石墨舟在LPCVD、擴散工藝中作為承載晶圓的工具，其表面覆蓋的膜層會隨著工藝次數的增加逐漸增厚，導致熱導率降低，影響溫度均勻性，造成薄膜厚度不均勻。
處理效果
RPS遠程等離子可去除膜層，同時避免高溫氧化腐蝕石墨材料，確保舟體結構完整，減少批次間交叉污染，提升承載重復性。
*石墨舟處理效果對比
3.光伏石英管膜層處理
石英管在長期沉積工藝中會持續附著薄膜。隨著膜層增厚，易引發以下問題：
①應力導致硅裂產生顆粒污染
②引發石英管端部下垂，影響膜厚均勻性
處理效果
RPS遠程等離子源可剝離石英管孔隙內的膜層，恢復其光學和熱穩定性，保障工藝穩定性并提高使用壽命，降低維護成本。
*光伏石英管膜層處理效果對比
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