網站導航
原子層沉積突破1nm線寬！量子計算PCB實現單電子操控
ASML與IMEC聯合開發的原子層沉積技術（ALD）已實現1nm線寬的電路制造，這一突破使量子計算PCB能精細控制單電子隧穿效應，量子比特相干時間從100μs提升至1.2ms。某量子計算初創公司采用該技術制造的72比特處理器，錯誤率從0.05降至0.002。
一、工藝：從“微米級刻蝕”到“原子級生長”
ALD技術通過交替通入反應氣體（如四甲基環戊二烯鉑與氧氣），在基板表面逐層沉積原子，其重要優勢：
1. 厚度控制精度：單層原子厚度達0.3nm，實現量子點電極的原子級平滑表面（粗糙度＜0.1nm）；
2. 三維共形沉積：在高深寬比（20:1）的通孔內壁均勻鍍膜，解決傳統PVD技術的階梯覆蓋問題；
3. 雜質控制：真空環境下雜質含量＜1ppm，滿足量子比特對環境噪聲的嚴苛要求。
二、量子PCB制造流程
1. 基底預處理：采用Ar等離子體清洗，使SiO?表面羥基密度達5個/nm2；
2. 電極沉積：通過200次ALD循環形成5nm厚的Pt電極，方塊電阻＜1Ω/□；
3. 約瑟夫森結制備：利用電子束光刻定義100nm×100nm結區，再通過ALD沉積2nm厚的Al?O?絕緣層；
4. 封裝保護：采用CVD生長的200nm金剛石涂層，隔絕外界磁干擾。
三、技術落地挑戰與對策
|
挑戰點 |
影響 |
解決方案 |
|
產能低下 |
每爐只有處理4片晶圓 |
開發300mm晶圓ALD設備（ASML已投產） |
|
成本高昂 |
設備投資超1億美元 |
采用ALD+傳統工藝混合路線（前道ALD，后道PVD） |
|
良率控制 |
量子比特一致性差 |
引入AI缺陷檢測系統（檢測精度0.1nm） |
四、量子計算企業可構建“設備商-材料商-封裝廠”三位一體的合作模式：
1.設備端：與ASML簽訂ALD工藝開發協議，獲取定制化腔體設計支持；
2.材料端：聯合信越化學開發低缺陷密度的藍寶石基板（位錯密度＜103cm?2）；
3.封裝端：與日月光合作開發極低溫（4K）下的信號傳輸解決方案，重點關注金絲鍵合的熱膨脹匹配問題。
公司信息
我要咨詢
每日熱詞
