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常州華源微弧氧化工藝及設(shè)備介紹

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-06-11

  微弧氧化(微弧氧化,MAO)又稱微等離子體氧化(微等離子體氧化,MPO),是經(jīng)過(guò)電解液和對(duì)應(yīng)電參數(shù)組合,在鋁、鎂、鈦及其合金表面依靠弧光放電產(chǎn)生瞬時(shí)高溫高壓作用,生長(zhǎng)出以基體金屬氧化物為主陶瓷膜層。在微弧氧化過(guò)程中,化學(xué)氧化、電化學(xué)氧化、等離子體氧化同時(shí)存在,所以陶瓷層形成過(guò)程很復(fù)雜,至今還沒(méi)有一個(gè)合理模型能全方面描述陶瓷層形成。

  微弧氧化膜層和基體結(jié)合牢靠,結(jié)構(gòu)致密,韌性高,含有良好耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特征。該技術(shù)含有操作簡(jiǎn)單和易于實(shí)現(xiàn)膜層功效調(diào)整特點(diǎn),而且工藝不復(fù)雜,不造成環(huán)境污染,是一項(xiàng)全新綠色環(huán)境保護(hù)型材料表面處理技術(shù),在航空航天、機(jī)械、電子、裝飾等領(lǐng)域含有寬廣應(yīng)用前景。

  微弧氧化或微等離子體表面陶瓷化技術(shù),是指在一般陽(yáng)極氧化基礎(chǔ)上,利用弧光放電增強(qiáng)并***在陽(yáng)極上發(fā)生反應(yīng),從而在以鋁、鈦、鎂金屬及其合金為材料工件表面形成質(zhì)量強(qiáng)化陶瓷膜方法,是經(jīng)過(guò)用**微弧氧化電源在工件上施加電壓,使工件表面金屬和電解質(zhì)溶液相互作用,在工件表面形成微弧放電,在高溫、電場(chǎng)等原因作用下,金屬表面形成陶瓷膜,達(dá)成工件表面強(qiáng)化目標(biāo)。

  微弧氧化技術(shù)突出特點(diǎn)是:(1)大幅度地提升了材料表面硬度,顯微硬度在1000至20XXHV,比較高可達(dá)3000HV,可和硬質(zhì)合金相美,**超出熱處理后高碳鋼、高合金鋼和高速工具鋼硬度;(2)良好耐磨損性能(3)良好耐熱性及抗腐蝕性。這從根本上克服了鋁鎂、鈦合金材料在應(yīng)用中缺點(diǎn),所以該技術(shù)有寬廣應(yīng)用前景;(4)有良好絕緣性能,絕緣電阻可達(dá)100MQ。(5)溶液為環(huán)境保護(hù)型,符合環(huán)境保護(hù)排放要求。(6)工藝穩(wěn)定可靠,設(shè)備簡(jiǎn)單.(7)反應(yīng)在常溫下進(jìn)行,操作方便,易于掌握。(8)基體原位生長(zhǎng)陶瓷膜,結(jié)合牢靠陶瓷膜致密均勻。

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