下面為大家介紹一下石墨盤真空烤盤爐的用途和設計。一、產品介紹真空烤盤爐是與MOCVD設備配套使用的爐體，爐內抽真空，被處理工件放置在爐膛內，采用清洗氣體加熱反應方式進行干式清洗（清洗氣體：N2，H2）。主要用于有效清洗除MOCVD承受器（SiC涂層石墨盤或石英盤）上的氮化鎵和氮化鋁等，可達到有效清潔處理，提高制品質量的目的。二、設計特點1.后門設計熱風電機2.降溫時風機開啟，同時兩端降溫封頭開啟，爐膛內產生如圖所示的氣體流向3.通過氣體介質將隔熱層內與水冷壁之間進行熱交換，達到快速降溫的目的存儲柜在社會上的重要性。生產存儲柜市場價格

一種存儲柜，包括：一在其一前部２Ａ上有一窗口２Ｂ的箱體２；一關閉和打開窗口２Ｂ的門３；一鎖住關閉了的門３的銷柱５；以及一在門鎖住的鎖住位置與門３解鎖的非鎖住位置之間移動銷柱５的銷柱移動件１０。銷柱５與箱體２配合的前部２Ａ的一寬度Ｌ３比從前壁伸出的一側壁的一寬度Ｌ５大。存儲柜一種存儲柜，包括：一在其一前部有一窗口的箱體；一關閉和打開窗口的門；至少一個鎖住關閉的門的銷柱；以及一個在門鎖住的鎖住位置和門解鎖的非鎖住位置之間移動銷柱的銷柱移動件，其特征在于：在其上銷柱與箱體配合的前部的一寬度比從此前部延伸出的一側壁的一寬度大。生產存儲柜有哪些品牌合肥真萍科技簡述存儲柜規范標準。

本篇介紹專業全自動HMDS真空烤箱，首先簡單介紹一下HMDS預處理系統的必要性：在半導體生產工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時濕法腐蝕容易發生側向腐蝕。增黏劑HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯劑的作用。

精密鼓風烘箱適用于電子元器件、橡膠、塑料、裝飾材料等行業對溫度均勻性要求比較嚴格的實驗檢測。真萍科技精密鼓風烤箱采用進口液晶顯示控制器，產品采用綜合的電磁兼容設計和人性化的菜單設計，使得設備操作完全傻瓜化，控溫效果較好。高亮度寬視窗液晶顯示，示值清晰、直觀。微電腦智能控制。設定溫度和時間后，儀表自行控制加熱功率，并顯示加熱狀態，控溫精確而穩定。超溫報警并自動切斷加熱電源。電器控制系統：1.電氣控制元器件均采用國內品牌“正泰”2.電氣線路設計新穎，合理布線，安全可靠3.箱體頂部為電氣控制柜，方便于集中檢查維修安全保護系統：1.超溫報警2.欠相缺相保護3.過電流保護4.快速熔斷器5.接地保護為什么大家都選擇合肥真萍科技的存儲柜，原因真萍告訴您。

下面為大家介紹一下全自動HMDS真空烤箱的整機尺寸、真空腔體尺寸。1.內膽尺寸：650*650*650;450*450*450mm;300*300*300mm;2.載物托架：2塊3.室溫+10℃-250℃控溫范圍：溫度分辨率：0.1℃溫度波動度：0.5℃4.真空泵：油泵或無油真空泵。真空度：133pa，5.加熱方式：腔體下部及兩側加溫。加熱器為外置加熱板（防止一側加熱使的HMDS液進入箱體內不能完本轉成氣態）6.可放2寸晶圓片或4寸晶圓片；6寸晶圓片；8寸晶圓片等。7.開箱溫度可以由user自行設定來降低process時間（正常工藝在50分鐘-120分鐘（按產品所需而定烘烤時間），為正常工作周期不含降溫時間（因降溫時間為常規降溫）。真萍科技為您提供定制各種尺寸存儲柜。合肥化學品存儲柜

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真萍科技電腦式潔凈節能氮氣柜主要應用于解決晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(ex阿摩利亞氣體)破壞，解決探針卡潮濕及氧化問題解決光罩的受潮問題---黃光部封裝的金線，解決液晶的受潮問題，解決線路板受潮問題。下面為大家簡單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節能氮氣柜的柜體規格、配備。1.左右雙開門，3mm鋼化玻璃，1mm厚不銹鋼板，氣密式隱藏鎖把手。2.柜體密封高吸附力磁性膠條與柜體密閉，腳墊采高承載車輪及調整高低腳墊。3.附高載重不銹鋼隔板，柜體加裝高載重煞車輪。4.上掀式氣密蓋，方便FFU保養及維修。5.回風循環設計，單向氮氣循環不產生紊流。6.背面氣密開門式設計，方便潔凈清理與保養。生產存儲柜市場價格