8英寸MEMS研發中試ODM產線，配套激光隱切機、光刻機、深硅刻蝕機等一整套前沿技術設備，由此，啟樸芯微具備為客戶提供質量產品服務的能力，百級/萬級室內MEMS加工無菌車間和微納加工實驗室，賦予啟樸芯微強大的**加工與測試能力，兼容8/6/4英寸晶圓級微納加工，更充分支持實現國內MEMS技術企業、科研院所和高校的結構設計、工藝開發、流片代工和測試應用需求。寧波啟樸芯微系統技術有限公司專注于像元級光譜和偏振超維光學芯片及光學系統解決方案，擁有自主可控的寧波i首條8英寸MEMS研發中試ODM產線，兼容8/6/4英寸晶圓級微納加工。以“斫雕為樸，芯程再啟”為創立宗旨，啟樸芯微持續精進，為您帶來更精湛的技術水平。安徽模塊化MEMS工藝檢測配套服務

秉承“斫雕為樸，芯程再啟”的企業宗旨，啟樸芯微致力于將先進的光刻、深硅刻蝕、鍵合等技術服務方案應用于實際生產中，不斷提升產品的性能和品質，以滿足客戶日益增長的多樣化需求。啟樸芯微自主研發的小型高光譜相機產品，以光功能芯片為，通過對連續的物體光譜進行高精度采集和分析，能夠獲取豐富的反射和輻射光譜信息，為科研、醫療、環境監測等領域提供了強有力的技術支持。啟樸芯微團隊充分發揮自身技術優勢，利用MEMS芯片結構輕便、精細度高、材料強度高等特點，研制具有自主知識產權的光譜濾波芯片及其成像系統，其通過像素級定標技術實現圖像精細分析，比較大限度避免強光干擾問題，極大提升了工業制造品檢測效率，為光學傳感技術的發展注入了新的活力，同時，啟樸芯微力求提高產品定制化設計服務質量，持續開展特種光學產品應用與推廣，圍繞MEMS產品可行性方案積極參與行業交流。遼寧傳感器MEMS工藝檢測項目咨詢光刻、刻蝕、氧化退火、激光隱切、濕法腐蝕清洗、拋光、濺射鍍膜，啟樸芯微MEMS微納加工服務值得信賴。

啟樸芯微始終保持對光學傳感技術的熱情和專注，不斷追求技術的突破和升級，提升產品質量和服務水平，以質量的產品和服務贏得客戶的信任和支持。同時以更加開放的姿態和更加務實的行動，加強與高校、科研院所和企業的合作與交流，攜手合作伙伴共同推動光學傳感技術的研發和應用，為推動國內光學傳感產業的自主可控和持續發展貢獻力量。在產品方面，啟樸芯微專注于自主研發像元級光譜和偏振超維光學濾波芯片及光學系統，通過定制開發、項目互補與公司直營相結合的方式，打造小型化、集成化的高分辨率特種光學相機模組和光學檢測解決方案，切實滿足客戶對于高性能、高精度產品服務的需求，在工業視覺檢測、影像醫學器械、汽車超維視覺、環境與食品安全檢測等領域具有廣泛應用前景。

啟樸芯微團隊研發的微小型光譜成像系統，在科技領域具有重要的意義。它的出現，為光譜分析技術帶來了新的發展機遇。在食品、藥品、精細零部件等加工環境中的應用，不僅提高了檢測的準確性和效率，還為產品的質量控制提供了科學依據。同時，它的技術特點也為未來的科技研究提供了新的方向。隨著科技的不斷進步，相信這一系統將在更多的領域得到應用和發展，為人類社會的進步做出更大的貢獻。啟樸芯微團隊自主研發的消高反光特種視覺檢測系統，是科技創新的典范。它的研發過程充滿了挑戰和機遇，團隊成員們憑借著堅定的信念和不懈的努力，成功突破了技術瓶頸。這一系統的應用，不僅提高了工業制造品的檢測效率，還推動了我國在工業檢測領域的技術進步。同時，它也為其他領域的技術創新提供了有益的借鑒。在未來，相信這一系統將在更多的領域得到應用，為我國科技發展做出更大的貢獻。啟樸芯微始終堅持以客戶為中心的服務理念，遵循定制開發、項目互補、公司直營的運營模式。

寧波啟樸芯微系統技術有限公司成立于2022年9月，是一家專注于像元級光譜和偏振超維光學芯片及光學系統解決方案的科技研發型企業，自主可控國內首條8英寸MEMS研發中試ODM產線，具備光刻、深硅刻蝕、鍵合、PVD、ALD、濕法腐蝕與清洗、氧化退火、CMP、激光隱形切割、SEM、FIB等加工與測試能力，兼容8/6/4英寸晶圓級微納加工。作為一個兼具產品開發能力和技術加工能力的科技型企業，本著“斫雕為樸，芯程再啟”的企業宗旨，啟樸芯微將展示在MEMS產品設計、晶圓加工、工藝檢驗等不同環節的技術服務能力，包括但不限于既往的光刻、深硅刻蝕、鍵合、濕法腐蝕與清洗、氧化退火、激光隱形切割、光譜橢偏測試、傅里葉紅外光譜測試、探針臺階測試等服務方案和應用成果。啟樸芯微，由市場人員負責對接客戶方前后需求，建立生產人員直接溝通渠道，保障客戶項目安全！重慶高精度MEMS工藝檢測項目咨詢

啟樸芯微專業MEMS實驗加工產線，兼容8/6/4英寸晶圓級微納加工，服務范圍廣。安徽模塊化MEMS工藝檢測配套服務

響應國家發展高性能、規模化制造技術的號召，啟樸芯微團隊以敏銳的洞察力和強烈的使命感，瞄準國家在關鍵基礎零部件、**裝備、集成電路等領域的重要需求。他們面向更***的工業檢測應用前景，自主研發了消高反光特種視覺檢測系統。這一系統猶如一位“精細的守護者”，通過像素級定標技術實現圖像精細分析，比較大限度避免強光干擾問題。在實際應用中，過殺率和誤判率分別低于2.0%、0.3%，極大提升了工業制造品檢測效率。在研發過程中，團隊成功突破光功能**芯片定制化設計門檻，融合了當今世界先進的微米級、納米級半導體加工工藝，有效解決了產品模塊化、高精度定位組裝難題。這一系列的技術突破，展現了啟樸芯微團隊的技術前沿性和創新能力，為國家科技發展做出了重要貢獻。安徽模塊化MEMS工藝檢測配套服務