Dimension-Labs 正式發(fā)布符合 ISO11146 標(biāo)準(zhǔn)的 Beamhere 光斑分析解決方案。該系統(tǒng)通過硬件與軟件協(xié)同工作,可測量光斑能量分布、發(fā)散角及 M2 因子等參數(shù)。產(chǎn)品內(nèi)置光束整形評估模塊,可對聚焦光斑形態(tài)、準(zhǔn)直系統(tǒng)性能進(jìn)行量化檢驗。用戶可根據(jù)需求擴(kuò)展 M2 測試功能,實現(xiàn)光束傳播方向上的束腰位置定位與發(fā)散角動態(tài)分析。所有檢測數(shù)據(jù)均通過軟件進(jìn)行智能處理,一鍵生成包含 20 + 參數(shù)的標(biāo)準(zhǔn)化測試報告。 產(chǎn)品優(yōu)勢: 滿足測試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設(shè)計的分析軟件 軟件真正做到交互友好,簡單易用,一鍵輸出測試報告。光斑分析儀以舊換新?維度光電推出設(shè)備升級計劃。Dimension光斑分析儀怎么用
Dimension-Labs 突破性推出 Beamhere 智能光斑分析平臺,通過模塊化設(shè)計實現(xiàn)光束質(zhì)量全參數(shù)檢測。該系統(tǒng)采用高靈敏度傳感器陣列,可實時測繪光斑能量分布,同步計算發(fā)散角及 M2 因子等指標(biāo)。針對光束整形、聚焦優(yōu)化等場景,系統(tǒng)提供專業(yè)分析模板,支持 ISO11146 標(biāo)準(zhǔn)參數(shù)輸出。可選配的 M2 測試模塊通過滑軌式掃描技術(shù),實現(xiàn)光束傳播特性的三維重建,終由 AI 算法自動生成包含能量集中度、橢圓率等 20 + 參數(shù)的測試報告。 產(chǎn)品優(yōu)勢: 滿足測試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設(shè)計的分析軟件。 軟件真正做到交互友好,簡單易用,一鍵輸出測試報告。無干涉光斑分析儀廠家光束質(zhì)量分析儀推薦?維度光電 M2 因子測量模塊;
如何使用光斑分析儀 Step 1 準(zhǔn)備設(shè)備 將 BeamHere 光斑分析儀固定在光具座上,調(diào)整高度使激光束中心與 sensor 靶面重合。用 Type-C 線連接分析儀與電腦,打開 BeamHere 軟件等待設(shè)備識別。 Step 2 采集數(shù)據(jù) 開啟激光器預(yù)熱 10 分鐘,點擊軟件 "開始采集" 按鈕。實時觀察 2D 成像界面,確保光斑無過曝或欠曝,可通過轉(zhuǎn)輪調(diào)節(jié)衰減片至合適狀態(tài)。 Step 3 分析參數(shù) 在 "高級分析" 模塊勾選所需參數(shù),軟件自動計算光斑尺寸(±0.5μm 精度)、能量均勻性(CV 值)及光束質(zhì)量因子。3D 視圖支持手勢縮放,便于觀察高階橫模分布。 Step 4 驗證結(jié)果 切換至 "歷史記錄" 對比多次測量數(shù)據(jù),使用 "統(tǒng)計分析" 功能生成標(biāo)準(zhǔn)差曲線。若發(fā)現(xiàn)異常,可調(diào)用 "單點測量" 工具檢查特定位置能量值。 Step 5 導(dǎo)出報告 在 "報告模板" 中選擇 "科研版" 或 "工業(yè)版",自動生成帶水印的 PDF 報告,包含光斑圖像、參數(shù)表格、趨勢圖表及 QC 判定結(jié)果。
維度光電國產(chǎn)光束質(zhì)量分析解決方案破局之路 國內(nèi)激光光束質(zhì)量分析市場長期被歐美品牌壟斷,存在三大痛點:產(chǎn)品型號單一(無法兼顧亞微米光斑與高功率檢測)、定制周期漫長(3-6 個月周期)、服務(wù)響應(yīng)滯后(返廠維修影響生產(chǎn) 35 天 / 次)。 全場景產(chǎn)品矩陣 狹縫式:0.1μm 分辨率,直接測 10W 激光,支持 ±90° 任意角度掃描,滿足半導(dǎo)體加工等亞微米級需求 相機式:5.5μm 像元精度,6 片濾光片轉(zhuǎn)輪實現(xiàn) 1μW-1W 寬功率檢測,擅長復(fù)雜光斑分析 定制化服務(wù):12 項定制選項(波長擴(kuò)展、自動化接口等),短交付周期 5 天 未來將聚焦多模態(tài)光束分析與智能化診斷,為智能制造、醫(yī)療科技等提供技術(shù)支撐。激光光束質(zhì)量評判標(biāo)準(zhǔn),測量儀器都有哪些。
選擇適合特定應(yīng)用的 BeamHere 光斑分析儀需綜合考量光束特性、應(yīng)用場景及功能需求: 1. 光束特性分析 光斑尺寸:亞微米級光斑(如半導(dǎo)體加工)優(yōu)先選擇狹縫式(支持 2.5μm 精度),毫米級光斑(如激光焊接)推薦相機式(覆蓋 10mm 量程)。 功率等級:高功率激光(如工業(yè)切割)應(yīng)選狹縫式(直接測量近 10W),微瓦級弱光(如科研實驗)可采用相機式(通過 6 片衰減片適配)。 光束形態(tài):高斯或規(guī)則光斑兩者均可(狹縫式更經(jīng)濟(jì)),非高斯光束(如貝塞爾光束)需相機式保留細(xì)節(jié)。 脈沖特性:單脈沖分析選相機式(觸發(fā)同步),連續(xù)或高頻脈沖適配狹縫式(需匹配掃描頻率)。 2. 應(yīng)用場景適配 工業(yè)制造:高功率加工(>1W)選狹縫式,動態(tài)監(jiān)測與大光斑校準(zhǔn)選相機式,組合方案可覆蓋全流程需求。 醫(yī)療設(shè)備:眼科準(zhǔn)分子激光需相機式實時監(jiān)測能量分布,脈沖激光適配觸發(fā)模式,確保手術(shù)精度。 :超短脈沖測量、復(fù)雜光束分析(如 M2 因子)依賴相機式,材料加工優(yōu)化可結(jié)合狹縫式高精度掃描。 光通信:光纖端面檢測選相機式分析光斑形態(tài),激光器表征適配狹縫式高靈敏度測量。用于千瓦光斑測量的大功率配件。遠(yuǎn)紅外光斑分析儀廠家
復(fù)雜或高階橫模的光斑測試系統(tǒng)怎么搭建?Dimension光斑分析儀怎么用
Dimension-Labs 掃描狹縫式光斑分析儀系列以國內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù)為,覆蓋 190-2700nm 全光譜,可測 2.5μm 至 10mm 光束直徑。其 0.1μm 超高分辨率突破傳統(tǒng)設(shè)備極限,捕捉亞微米級光斑細(xì)節(jié)。 技術(shù)優(yōu)勢: 雙模式智能適配:軟件自主切換刀口 / 狹縫模式,解決 < 20μm 極小光斑與 10mm 大光斑的測量難題 高功率安全檢測:創(chuàng)新狹縫物理衰減機制,無需外置衰減片即可直接測量近 10W 激光 超分辨率成像:基于狹縫掃描原理,完整還原光斑能量分布,避免特征丟失 設(shè)備內(nèi)置正交狹縫轉(zhuǎn)動輪,通過旋轉(zhuǎn)掃描同步采集 XY 軸數(shù)據(jù),經(jīng)算法處理輸出 20 + 光束參數(shù)。緊湊模塊化設(shè)計適配工業(yè)與實驗室場景,通過 CE/FCC 認(rèn)證,在 - 40℃至 85℃環(huán)境穩(wěn)定工作,應(yīng)用于激光加工、醫(yī)療設(shè)備及科研領(lǐng)域,助力客戶提升檢測精度與效率。Dimension光斑分析儀怎么用