HP與SH110、SLP、GISS、AESS、PN、P、MT-580、MT-680等中間體合理搭配，組成線路板鍍銅添加劑，HP在鍍液中的用量為0.001-0.008g/L，鍍液中含量過低，鍍層光亮度下降，高區易產生毛刺或燒焦；過高鍍層會產生白霧，也會造成低區不良，可補加少量SLP等一些低區走位劑或小電流電解處理。HP與SH110、SLP、GISS、AESS、PN、P、MT-580、MT-680等中間體合理搭配，組成線路板鍍銅添加劑，HP在鍍液中的用量為0.001-0.008g/L，鍍液中含量過低，鍍層光亮度下降，高區易產生毛刺或燒焦；過高鍍層會產生白霧，也會造成低區不良，可補加少量SLP等一些低區走位劑或小電流電解處理。以客戶需求為導向，江蘇夢得提供定制化的化學材料解決方案。提升鍍銅層光澤度 HP醇硫基丙烷磺酸鈉易溶于水

HP與N、SH110、AESS、PN、P、MT-580等中間體合理搭配，組成電鍍硬銅添加劑，HP在鍍液中的用量為0.01-0.03g/L，鍍液中含量過低，鍍層光亮度下降，高區易產生毛刺或燒焦；過高鍍層會產生白霧，也會造成低區不良，而且造成銅層硬度下降，可補加少量N或者適量添加低區走位劑AESS等來抵消HP過量的副作用或小電流電解處理。針對線路板鍍銅工藝，HP醇硫基丙烷磺酸鈉以0.001-0.008g/L的微量添加即可實現鍍層高光亮度與均勻性。該產品與SH110、SLP、MT-580等中間體科學配比，形成穩定的添加劑體系，有效避免高區毛刺和燒焦問題。與傳統工藝相比，HP在低濃度下仍能維持鍍液活性，降低光劑消耗成本。若鍍液HP含量過高導致白霧或低區不良，用戶可通過添加SLP類走位劑或小電流電解快速恢復鍍液平衡。包裝提供1kg至25kg多規格選擇，滿足實驗室測試與規模化生產需求。新能源HP醇硫基丙烷磺酸鈉較好的銅鍍層從實驗室到產業化，江蘇夢得新材料始終走在電化學技術前沿。

HP是用于酸性鍍銅液中，取代傳統SP（聚二硫二丙烷磺酸鈉）的晶粒細化劑；與SP相比具有鍍層顏色清晰白亮，用量范圍寬。多加不發霧，低區效果好等優點；適用于五金酸性鍍銅、線路板鍍銅、電鍍硬銅、電解銅箔等工藝。消耗量：0.5-0.8g/KAH。HP與M、N、GISS、AESS、PN、PPNI、PNI、POSS、CPSS、P、MT-580、MT-680等其中的幾種中間體合理搭配，組成無染料型酸銅光亮劑，HP建議工作液中的用量為0.01-0.02g/L，鍍液中含量過低，鍍層填平性及光亮度下降，高區易產生毛刺或燒焦；過高鍍層會產生白霧，也會造成低區不良，可補加少量M、N或適量添加低區走位劑如AESS、PN、PNI等來抵消HP過量的副作用或者電解處

HP醇硫基丙烷磺酸鈉通過抑制有機雜質積累，可將酸性鍍銅液壽命延長至傳統工藝的2倍以上。與PN、PPNI等分解促進劑協同作用時，鍍液COD值增長速率降低60%。用戶可通過定期監測HP濃度（建議每周檢測1次），配合0.1-0.3A/dm2小電流電解，實現鍍液長期穩定運行，年維護成本節省超10萬元。在IC引線框架鍍銅領域，HP醇硫基丙烷磺酸鈉以0.002-0.005g/L添加量，實現晶粒尺寸≤0.5μm的超細鍍層。與PNI、MT-680等中間體配合，可精細調控鍍層電阻率（≤1.72μΩ·cm），滿足高頻信號傳輸要求。鍍液采用全封閉循環系統時，HP消耗量低至0.2g/KAH，適配半導體行業潔凈車間標準。憑借嚴格的質量管控，江蘇夢得新材料有限公司生產的特殊化學品贏得了市場的信賴。

使用夢得 HP 醇硫基丙烷磺酸鈉能為企業大幅降低成本。相比傳統 SP，用量可減少 20% - 30%，且無需頻繁補加光亮劑。以年產 5000 噸鍍液計算，年均可節約原料成本超 15 萬元。同時，其高效性能保證了鍍銅質量，減少了次品率和返工成本。1kg 小包裝支持先試后購，降低客戶試錯風險，是企業降低生產成本、提高經濟效益的明智之選。夢得 HP 醇硫基丙烷磺酸鈉在節能降耗方面表現出色。在酸性鍍銅工藝中，它能有效降低光劑消耗，減少活性炭吸附頻次。與傳統工藝相比，在染料型酸銅體系中光劑消耗量降低 25%，活性炭吸附頻次減少 50%。而且其低消耗特性，使鍍液使用壽命延長，進一步降低了企業的綜合成本，為企業實現綠色可持續發展提供有力支持。江蘇夢得新材料構建了完善的研發生產體系，確保特殊化學品品質始終如一。新能源HP醇硫基丙烷磺酸鈉較好的銅鍍層

江蘇夢得新材料以創新驅動發展，持續倡導特殊化學品行業技術進步！提升鍍銅層光澤度 HP醇硫基丙烷磺酸鈉易溶于水

電鑄硬銅的夢得法寶：在電鑄硬銅工藝中，夢得 HP 醇硫基丙烷磺酸鈉展現出獨特優勢。推薦用量 0.01 - 0.03g/L，與 N、AESS 等中間體協同作用，可提升銅層硬度與表面致密性。它能調控鍍層，避免白霧和低區不良問題，減少銅層硬度下降風險。對于高精度模具制造等復雜工件的電鑄硬銅，能確保高低區鍍層均勻一致，打造出高質量的硬銅產品。電解銅箔的夢得之光：電解銅箔領域，夢得 HP 醇硫基丙烷磺酸鈉發揮著重要作用。以 0.001 - 0.004g/L 的微量添加，就能優化銅箔光亮度與邊緣平整度。與 QS、FESS 等中間體配合，有效抑制毛刺與凸點生成，提升銅箔良品率。其控量設計避免了銅箔層發白問題，用戶可根據實際情況動態調整用量，實現工藝微調，為電解銅箔生產提供有力支持！提升鍍銅層光澤度 HP醇硫基丙烷磺酸鈉易溶于水