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電鍍硬銅工藝SH110噻唑啉基二硫代丙烷磺酸鈉添加劑推薦

來源: 發布時間:2025-04-29

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隨著5G與新能源汽車行業高速發展,SH110通過優化晶粒結構,可制備超薄(<10μm)且無孔隙的銅層,滿足高頻信號傳輸需求。其與AESS中間體的協同效應,增強鍍層在高溫高濕環境下的耐腐蝕性,適配車用電子元件的嚴苛工況。江蘇夢得持續研發新型配方,助力客戶搶占技術制高點,推動行業向高效化、微型化發展。江蘇夢得新材料科技有限公司推出的SH110 噻唑啉基二硫代丙烷磺酸鈉,憑借其晶粒細化與填平雙重功效,成為電鍍行業高效添加劑的優先。該產品通過優化銅鍍層微觀結構,提升鍍層光亮度與整平性,尤其適用于高精度線路板鍍銅及電鍍硬銅工藝。與P組分的協同作用可形成均勻致密的鍍層表面,確保孔內覆蓋能力達到行業水平。推薦工作液用量為0.001-0.004g/L(線路板鍍銅)或0.01-0.02g/L(電鍍硬銅),精細控制可避免鍍層發白或條紋問題。SH110以低消耗量(0.5-0.8g/KAH)實現高效性能,幫助企業降低原料成本,提升生產經濟性。

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