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電磁鐵122頂出磁片223，頂蓋22離開出氣管11口，空氣及粉塵從出氣管11排出，當頂蓋22的動觸點224與靜觸點123接觸時，氣缸53通電，伸出伸縮軸，利用空氣壓力將擠壓管52中的水噴出，粉塵遇水沉降落入沉降管51底部，鍍膜機1內達到相應的真空度時，反方向按下開關13，電磁鐵122在換向器的作用下電流改變，磁極改變，產生與磁片223相反的磁極，電磁鐵122與磁片223相吸，此時真空泵4斷電，動、靜觸點斷開，氣缸53斷電，頂蓋22緊緊地蓋在出氣管11口上。上述實施例中，開關13為雙向開關，往一方向按下時，真空泵4與電磁鐵122均通電，往另一方向按下時，真空泵4斷電，電磁鐵122在換向器的作用下...

電磁鐵122頂出磁片223，頂蓋22離開出氣管11口，空氣及粉塵從出氣管11排出，當頂蓋22的動觸點224與靜觸點123接觸時，氣缸53通電，伸出伸縮軸，利用空氣壓力將擠壓管52中的水噴出，粉塵遇水沉降落入沉降管51底部，鍍膜機1內達到相應的真空度時，反方向按下開關13，電磁鐵122在換向器的作用下電流改變，磁極改變，產生與磁片223相反的磁極，電磁鐵122與磁片223相吸，此時真空泵4斷電，動、靜觸點斷開，氣缸53斷電，頂蓋22緊緊地蓋在出氣管11口上。上述實施例中，開關13為雙向開關，往一方向按下時，真空泵4與電磁鐵122均通電，往另一方向按下時，真空泵4斷電，電磁鐵122在換向器的作用下...

解決真空鍍膜設備膜層不均勻的問題可以采取以下措施：調整鍍液配方：確保鍍液中各種成分的濃度均勻，并根據需要調整適當的參數，如溫度、PH值等，以提高沉積速率的均勻性。優化電解槽結構：通過合理設計電解槽結構，改善電場分布的均勻性，避免在基材上出現局部沉積速率過快或過慢的情況。提前處理基材表面：在鍍膜之前對基材進行表面清潔、拋丸處理、磨削等，確保基材表面平整、清潔，以減少不均勻因素的影響。定期維護設備：定期清洗、更換鍍液，保持電解槽、電極等設備的清潔和良好狀態，以確保電解液濃度的穩定和均勻。通過以上措施能夠有效地解決真空鍍膜設備在操作過程中出現的膜層不均勻問題，提高鍍膜的質量和效率。寶來利真空鍍膜機性...

對膜層質量及均勻性的改善均有很大的幫助。需要說明的是，在本文中，諸如“寶來利真空”和“第二”等之類的關系術語真空鍍膜設備真空鍍膜設備用來將一個實體或者操作與另一個實體或操作區分開來，而不一定要求或者暗示這些實體或操作之間存在任何這種實際的關系或者順序。而且，術語“包括”、“包含”或者其任何其他變體意在涵蓋非排他性的包含，從而使得包括一系列要素的過程、方法、物品或者設備不真空鍍膜設備包括那些要素，而且還包括沒有明確列出的其他要素，或者是還包括為這種過程、方法、物品或者設備所固有的要素。在沒有更多限制的情況下，由語句“包括一個……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的過程、方法、物品或者設備中還存...

因此，即使外腔體10與內反應腔20在氣路上相互連通，但外腔體10中的污染物也很難進入到內反應腔20中，從而可以保證內反應腔20始終保持清潔的工藝環境。由此，外腔體10與所述內反應腔20可共用一套抽真空系統。由于外腔體10與內反應腔20之間應屬于相互連通的氣路環境，因此，當對外腔體10進行抽真空處理時，內反應腔20也同時進行抽真空處理。本實施方式中，自動門設置于所述第二側壁22上，所述外腔體10內設有傳送裝置13，所述工件自所述傳送裝置13經所述自動門23傳遞至所述內反應腔20中。自動門控制器控制自動門的啟閉。抽真空完成后，自動門控制器檢測傳送裝置上是否有工件存在，經檢測若有工件存在，則控制自動...

本實用新型涉及真空鍍膜機技術領域，具體為一種磁控濺射真空鍍膜機。背景技術：真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材，基片與靶材同在真空腔中，濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且**終沉積在基片表面，經歷成膜過程(散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長)，**終形成薄膜。目前市場上類似的磁控濺射真空鍍膜機在長時間使用后，會在鍍膜機腔體的內壁粘黏有靶材和雜質，通常需要裝卸內部的轉動架，用人工的方式對腔體內壁進行定時維護，手動清理擦拭，費時費力，清理效率低，為了解決上述問題，我們提出一種磁控...

多弧離子鍍膜設備是一種常用的薄膜鍍膜設備，具有以下優點和寶來利的市場應用：優點：1.高質量膜層：多弧離子鍍膜設備可以在物體表面形成均勻、致密、硬度高、抗腐蝕的膜層，提供優異的物理和化學性能。2.高鍍膜效率：該設備采用多個電弧源，可同時進行多個材料的鍍膜，提高了鍍膜效率和生產能力。3.多種材料可鍍：多弧離子鍍膜設備可用于鍍膜各類材料，如金屬、合金、陶瓷、塑料等，具有很強的適應性和靈活性。4.環保節能：采用真空技術，減少了材料的浪費和對環境的污染，具有較高的資源利用率和節能效果。市場應用：1.光學膜層：多弧離子鍍膜設備被廣泛應用于光學領域，如鏡片、濾光片、反射鏡、透鏡等的鍍膜，提高了光學元件的透光...

真空鍍膜設備在操作過程中，膜層不均勻的可能原因主要包括靶材與基片的距離不當、磁場設計不均勻以及乙炔引入不均勻等。具體內容如下：距離問題：靶材與待鍍基片之間的距離若未優化，會影響濺射的均勻性。磁場設計問題：磁控濺射的均勻性在很大程度上依賴于磁場的設計，如果磁場分布和強度不均，則會導致膜層均勻度不佳。氣體引入問題：如乙炔在反應濺射過程中引入不均，也會導致沉積膜層的質量在基片上存在差異。為了解決這些問題，可以考慮以下方案：調整靶材與基片間的距離：確保兩者間距離適宜，以便改善濺射的均勻性。優化磁場設計：通過改善和優化磁場的分布及強度，提高靶材表面離子轟擊的均勻性，進而提升膜層均勻度。旋轉基片或靶材：在...

以下是10條關于磁控濺射鍍膜機的產品特點介紹新聞標題： 1.高效能磁控濺射鍍膜機助力新能源汽車產業升級 2.磁控濺射鍍膜機：打造新能源汽車外觀光彩奪目 3.磁控濺射鍍膜機技術：提升新能源汽車耐候性能 4.先進磁控濺射鍍膜機：新能源汽車外觀持久美麗 5.磁控濺射鍍膜技術助推新能源汽車產業綠色發展 6.磁控濺射鍍膜機：為新能源汽車外觀增添**質感 7.創新磁控濺射鍍膜機技術實現新能源汽車外觀節能環保 8.磁控濺射鍍膜機：為新能源汽車外觀提供***保護 9.高效磁控濺射鍍膜機助力新能源汽車外觀質量提升 10.磁控濺射鍍膜機：打造新能源汽車外觀絢麗多彩 這些標題突出了磁控濺射鍍膜機在新能源汽車產業中的...

膜材料質量問題：膜材料的質量也會影響膜層的均勻性。使用質量不佳的膜材料可能導致膜層出現缺陷或不均勻。因此，應選用經過質量檢驗的膜材料，確保膜層的均勻性和穩定性。針對上述問題，可以采取以下措施解決：定期清洗設備：定期對真空鍍膜機內部進行清洗，去除雜質和殘留物，確保設備內部的清潔度。優化材料分布：確保目標材料在真空鍍膜機內均勻分布，避免局部堆積或缺失。調整工藝參數：根據實際需求調整真空鍍膜機的真空度、沉積速度、溫度等參數，以獲得比較好的膜層均勻性。選用質量膜材料：選擇質量可靠的膜材料供應商，確保膜材料的質量符合要求。此外，定期進行設備的校準和維護也是確保真空鍍膜機性能和膜層均勻性的重要措施。通過定...

通過上述說明可知，溫控管40的設置形式多種多樣，本實用新型并不限制溫控管40的具體設置形式，例如可以按照上述溫控管40纏繞并固定的形式，也可以按照在第二側壁22或第二底板21上安裝水套或設通道的形式，只要求保證使用時溫控管40可耐壓耐溫不出現滲漏或漏電現象即可。另一方面，本實用新型一種實施方式的真空鍍膜設備，包括機械模塊部件、工藝模塊部件和實施例一的真空反應腔室，所述工藝模塊部件位于所述內反應腔20內，部分所述機械模塊部件位于所述外腔體10內。該真空鍍膜設備包括本實用新型的真空反應腔室，因此，該真空鍍膜設備具有上述真空反應腔室的全部***，在此不再贅述。其中，設置于外腔體10內的部分機械模塊部...

對膜層質量及均勻性的改善均有很大的幫助。需要說明的是，在本文中，諸如“寶來利真空”和“第二”等之類的關系術語真空鍍膜設備真空鍍膜設備用來將一個實體或者操作與另一個實體或操作區分開來，而不一定要求或者暗示這些實體或操作之間存在任何這種實際的關系或者順序。而且，術語“包括”、“包含”或者其任何其他變體意在涵蓋非排他性的包含，從而使得包括一系列要素的過程、方法、物品或者設備不真空鍍膜設備包括那些要素，而且還包括沒有明確列出的其他要素，或者是還包括為這種過程、方法、物品或者設備所固有的要素。在沒有更多限制的情況下，由語句“包括一個……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的過程、方法、物品或者設備中還存...

BLL系列真空離子鍍膜機是當今世界上用于表面涂裝PVD膜層的**寶來利設備，運用PLC及觸摸屏實現自動化邏輯程序控制操作，設備結構合理、外觀優雅、性能穩定、操作達到人機對話，簡便，鍍出的膜層牢固且細密，是工業化生產的理想設備，其比較大特點是它的**性，真空鍍膜設備屬于無三廢、無污染的清潔生產設備，無須**部門審批。由于配有**的電器控制系統及穩定的工藝界面,針對各種金屬進行表面鍍膜.例如:鐘表行業(表帶、表殼、表盤等)、五金行業（衛生潔具、門把手、拉手、門鎖等）、建筑行業（不銹鋼板、樓梯扶手、立柱等）、精密模具業（沖棒標準件模具、成型模具等）、工具行業（鉆頭、硬質合金、銑刀、拉刀、刀頭）、汽車...

優化鍍膜過程的溫度、壓力和時間控制：溫度對于材料的蒸發率和沉積速率有明顯影響，精確的溫度控制可以優化膜層的均勻性和附著力。在真空環境中，控制適當的壓力是確保蒸發材料以適當速率沉積的關鍵。改進真空真空鍍膜機的鍍膜速度：可以通過提高真空度、使用高功率蒸發源、優化蒸發工藝、采用多個蒸發源、使用新型材料和增加基底加熱等方式來提升鍍膜速度。優化設備結構和自動化控制：對真空鍍膜機的結構進行優化設計，解決影響光學薄膜質量和超多層精密光學薄膜鍍制的問題，提高薄膜的監控精度，實現系統的自動控制，提高生產效率，降低生產成本。寶來利真空鍍膜機性能穩定，膜層均勻耐磨，化合物膜層，有需要可以咨詢！太陽鏡真空鍍膜機生產企...

在操作真空鍍膜機時，確保安全是至關重要的。以下是一些在操作真空鍍膜機過程中需要注意的關鍵安全事項：設備啟動與關閉：在開啟真空鍍膜機之前，應確保所有安全防護裝置完好無損且處于正常工作狀態。啟動后，應密切關注設備運行狀態，如有異常應立即停機處理。操作結束后，務必按照規定的程序關閉真空鍍膜機，包括切斷電源、水源等。真空環境操作：真空鍍膜機通常在真空環境下工作，因此操作時應避免在設備運行時打開或拆卸設備部件，以防止真空環境被破壞或有毒有害氣體泄漏。同時，要確保真空室的密封性良好，防止外界雜質進入。高溫與高壓：鍍膜過程中可能會涉及高溫和高壓操作，因此操作人員必須嚴格遵守操作規程，不得隨意調整溫度和壓力。...

如圖3所示，所述溫控裝置包括溫控管40，所述溫控管40連接位于外腔體10外的恒溫控制器41。溫控管40的引入口及引出口與外部的恒溫控制器41連接，恒溫控制器41可用于恒溫制冷也可用于恒溫加熱，保證內反應腔20中的溫度可以持續恒定，從而使工藝反應區域內的工藝環境溫度更穩定。經過在真空鍍膜設備上的實際應用驗證，該真空腔體對于工藝成膜質量及鍍膜均勻性均有十分有效的改善和提升。其中，溫控管40包括加熱管和/或冷卻管。一般情況下，在工藝反應過程中，通常需要升溫以完成相關的工藝反應，因此，溫控管40包括必要的加熱管，而冷卻管可以根據實際的工藝需要選選擇性地添加即可。例如，若在工藝反應過程中，需要進行快速降...

以及位于所述外腔體內的用于進行工藝反應的內反應腔；所述內反應腔的側壁上設有自動門，所述自動門連接自動門控制器，工件自所述外腔體經所述自動門進入所述內反應腔中。進一步地，所述外腔體包括寶來利真空底板和沿所述寶來利真空底板周向設置的寶來利真空側壁；所述內反應腔包括第二底板和沿所述第二底板周向設置的第二側壁；所述寶來利真空底板與所述第二底板相互分離設置，所述寶來利真空側壁與所述第二側壁相互分離設置；所述寶來利真空側壁與蓋設于所述寶來利真空側壁上的密封蓋板密閉連接，所述第二側壁與所述密封蓋板相互分離設置。進一步地，所述自動門設置于所述第二側壁上，所述外腔體內設有傳送裝置，所述工件自所述傳送裝置經所述自...

BLL系列真空離子鍍膜機是當今世界上用于表面涂裝PVD膜層的**寶來利設備，運用PLC及觸摸屏實現自動化邏輯程序控制操作，設備結構合理、外觀優雅、性能穩定、操作達到人機對話，簡便，鍍出的膜層牢固且細密，是工業化生產的理想設備，其比較大特點是它的**性，真空鍍膜設備屬于無三廢、無污染的清潔生產設備，無須**部門審批。由于配有**的電器控制系統及穩定的工藝界面,針對各種金屬進行表面鍍膜.例如:鐘表行業(表帶、表殼、表盤等)、五金行業（衛生潔具、門把手、拉手、門鎖等）、建筑行業（不銹鋼板、樓梯扶手、立柱等）、精密模具業（沖棒標準件模具、成型模具等）、工具行業（鉆頭、硬質合金、銑刀、拉刀、刀頭）、汽車...

解決真空鍍膜設備膜層不均勻的問題可以采取以下措施：調整鍍液配方：確保鍍液中各種成分的濃度均勻，并根據需要調整適當的參數，如溫度、PH值等，以提高沉積速率的均勻性。優化電解槽結構：通過合理設計電解槽結構，改善電場分布的均勻性，避免在基材上出現局部沉積速率過快或過慢的情況。提前處理基材表面：在鍍膜之前對基材進行表面清潔、拋丸處理、磨削等，確保基材表面平整、清潔，以減少不均勻因素的影響。定期維護設備：定期清洗、更換鍍液，保持電解槽、電極等設備的清潔和良好狀態，以確保電解液濃度的穩定和均勻。通過以上措施能夠有效地解決真空鍍膜設備在操作過程中出現的膜層不均勻問題，提高鍍膜的質量和效率。寶來利真空鍍膜機性...

了解寶來利真空集設計、研發、生產、銷售為一體企業風采榮譽資質企業文化客戶服務關于寶來利真空大約丹陽市寶來利真空機電有限公司服務于**真空制造業各領域,我公司是一家真空應用及設備研發制造的高科技企業。經營有：離子鍍膜機、磁控濺射鍍膜設備、真空鍍膜機、PVD中頻離子鍍膜機、鍍金真空電鍍機、AF鍍膜設備。丹陽市寶來利真空機電有限公司擁有一批真空行業***寶來利真空、工程師及售后服務人員。致力于真空設備的研發設計和提供完善的真空設備解決方案及售后服務。嚴格要求生產及管理，確保研發制造的產品安全、質優、可靠！務求**的技術、質量的品質、周到的服務。以人為本！誠實守信！開拓創新！用戶至上是寶來利真空科技的...

高真空多層精密光學真空鍍膜設備使用時的注意事項還包括如下：溫度控制：鍍膜過程中的溫度控制對于薄膜的結構和性能有影響。需要精確控制基片的溫度，避免因溫度過高而導致薄膜晶粒過大，或因溫度過低而影響薄膜的附著力。后處理和測試：鍍膜完成后，需對薄膜進行退火處理以穩定其性質，并進行光學性能測試，如透過率、反射率及耐久性測試，確保鍍膜質量滿足標準。安全操作：操作人員應穿戴適當的防護裝備，如防靜電服裝、手套和護目鏡，以防止意外傷害。同時，要熟悉緊急停機程序，以便在出現異常情況時迅速響應。總之，高真空多層精密光學真空鍍膜設備是現代光學加工不可或缺的設備，其正確的操作和維護對保障光學產品的性能至關重要。通過嚴格...

因此，即使外腔體10與內反應腔20在氣路上相互連通，但外腔體10中的污染物也很難進入到內反應腔20中，從而可以保證內反應腔20始終保持清潔的工藝環境。由此，外腔體10與所述內反應腔20可共用一套抽真空系統。由于外腔體10與內反應腔20之間應屬于相互連通的氣路環境，因此，當對外腔體10進行抽真空處理時，內反應腔20也同時進行抽真空處理。本實施方式中，自動門設置于所述第二側壁22上，所述外腔體10內設有傳送裝置13，所述工件自所述傳送裝置13經所述自動門23傳遞至所述內反應腔20中。自動門控制器控制自動門的啟閉。抽真空完成后，自動門控制器檢測傳送裝置上是否有工件存在，經檢測若有工件存在，則控制自動...

所述抽氣管遠離所述鍍膜機一側設有沉降組件。進一步地，所述寶來利真空連接套遠離所述鍍膜機一側設有寶來利真空安裝位；所述寶來利真空安裝位位于所述出氣管兩側；所述寶來利真空安裝位內固定有電磁鐵；所述頂蓋靠近所述鍍膜機一側設有第二安裝位；所述第二安裝位與所述寶來利真空安裝位位置相對應；所述第二安裝位內固定有磁片。進一步地，所述沉降組件包括沉降管、擠壓管、氣缸及水箱；所述沉降管安裝在所述抽氣管上；所述擠壓管安裝在所述沉降管遠離所述真空泵的側壁上、且所述擠壓管與所述沉降管之間連通；所述水箱安裝在所述真空泵與所述擠壓管中間、且所述水箱與所述擠壓管之間連通；所述氣缸安裝在所述擠壓管遠離所述沉降管一側；所述擠壓...

影響工作效率的問題。為實現以上目的，本實用新型通過以下技術方案予以實現：一種高分子等離子表面真空鍍膜設備，包括腔體、基板和坩堝，所述腔體底部的四角均固定連接有支撐腿，并且腔體的正面轉動連接有密封門，所述腔體內壁兩側之間的底部固定連接有支撐板，并且支撐板的頂部固定連接有防護框，所述防護框內壁的兩側均固定連接有寶來利真空滑軌，并且兩個寶來利真空滑軌相對的一側之間滑動連接有活動板，所述腔體內壁的底部固定連接有寶來利真空伸縮桿，所述寶來利真空伸縮桿的頂端貫穿支撐板和防護框并延伸至防護框的內部，所述寶來利真空伸縮桿輸出軸的一端且位于防護框的內部與活動板的底部固定連接，所述腔體內壁的兩側均固定連接有第二伸...

泵6通過軟管與噴頭42固定裝配。泵6能夠將清洗箱8中的清洗液通過軟管、噴頭42均勻噴灑到后罐體3和前罐體2的內壁上。控制箱1、減速電機54、泵6通過導線電連接，且控制箱1與外部電源連接。通過控制箱1控制減速電機54、泵6的工作狀態。工作原理：需要對后罐體3、前罐體2的內表面進行清理時，通過控制箱1控制泵6，將清洗箱8中的清洗液通過軟管、傾斜的噴頭42均勻噴灑到后罐體3和前罐體2的內壁上；同時驅動裝置5中減速電機54能夠帶動u形架44、刮板43在后罐體3和前罐體2的內部轉動，將清洗液及內壁上的物質剮蹭下來，并通過集料盒7中出料口71、外螺管72、收集盒73的配合，方便收集、清理，完成后泵6、減速...

高真空多層精密光學真空鍍膜設備一般應用在哪些方面呢？高真空多層精密光學真空鍍膜設備是一種在高真空環境下，利用物理或化學方法將薄膜材料沉積到光學元件表面的設備。這種技術應用于制造各類光學薄膜，如抗反射膜、偏振膜、分光膜等，對提高光學系統的性能至關重要。應用范圍，包括數碼相機鏡頭、眼鏡鏡片、精密測量儀器、激光設備、太陽能電池以及航空航天領域的光學傳感器等。通過精確控制鍍膜的厚度和折射率，可以設計出具有特定光學性質的薄膜，以滿足不同場合的需求。高真空多層精密光學真空鍍膜機一般應用在哪些方面呢？高真空多層精密光學真空鍍膜機是一種在高真空環境下，利用物理或化學方法將薄膜材料沉積到光學元件表面的設備。這種...

對膜層質量及均勻性的改善均有很大的幫助。需要說明的是，在本文中，諸如“寶來利真空”和“第二”等之類的關系術語真空鍍膜設備真空鍍膜設備用來將一個實體或者操作與另一個實體或操作區分開來，而不一定要求或者暗示這些實體或操作之間存在任何這種實際的關系或者順序。而且，術語“包括”、“包含”或者其任何其他變體意在涵蓋非排他性的包含，從而使得包括一系列要素的過程、方法、物品或者設備不真空鍍膜設備包括那些要素，而且還包括沒有明確列出的其他要素，或者是還包括為這種過程、方法、物品或者設備所固有的要素。在沒有更多限制的情況下，由語句“包括一個……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的過程、方法、物品或者設備中還存...

因此可以有效減少工藝原料的浪費，降低原料的使用成本，提高原料的利用率。同時，由于工藝反應區的減少，可以有效控制該區域內的溫度，使該區域內的工藝溫度更易于均勻化，進而提高工藝質量。附圖說明此處的附圖被并入說明書中并構成本說明書的一部分，示出了符合本實用新型的實施例，并與說明書一起用于解釋本實用新型的原理。為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，對于本領域普通技術人員而言，在不付出創造性勞動性的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。圖1為本實用新型一種實施方式的真空反應腔室的結構示意圖；圖2為圖1所示結構中...

對膜層質量及均勻性的改善均有很大的幫助。需要說明的是，在本文中，諸如“寶來利真空”和“第二”等之類的關系術語真空鍍膜設備真空鍍膜設備用來將一個實體或者操作與另一個實體或操作區分開來，而不一定要求或者暗示這些實體或操作之間存在任何這種實際的關系或者順序。而且，術語“包括”、“包含”或者其任何其他變體意在涵蓋非排他性的包含，從而使得包括一系列要素的過程、方法、物品或者設備不真空鍍膜設備包括那些要素，而且還包括沒有明確列出的其他要素，或者是還包括為這種過程、方法、物品或者設備所固有的要素。在沒有更多限制的情況下，由語句“包括一個……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的過程、方法、物品或者設備中還存...

本實用新型涉及真空設備領域，尤其涉及一種真空反應腔室和真空鍍膜設備。背景技術：目前，真空設備，例如，pecvd（plasmaenhancedchemicalvaporde****ition，等離子體增強化學氣相沉積）和pvd（physicalvaporde****ition，物寶來利相沉積）設備已被廣泛應用于各種產品的生產過程中，如光伏電池、半導體器件等等。真空設備中(如pecvd設備、pvd設備)的寶來利真空反應室通常為單個反應腔室，傳動部件和升降部件等機械模塊部件以及濺射靶材等工藝模塊部件均設置于該單個反應腔室內，這就造成反應腔室內的工藝環境不夠封閉，容易造成工藝環境污染。另外，設置單個反...