正性光刻膠

• 半導(dǎo)體分立器件制造：對(duì)于二極管、三極管等半導(dǎo)體分立器件，正性光刻膠可實(shí)現(xiàn)精細(xì)的圖形化加工，滿(mǎn)足不同功能需求。比如在制作高精度的小尺寸分立器件時(shí)，正性光刻膠憑借其高分辨率和良好對(duì)比度，能精確刻畫(huà)器件的結(jié)構(gòu)，提高器件性能。
• 微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）制造：MEMS 器件如加速度計(jì)、陀螺儀等，結(jié)構(gòu)復(fù)雜且尺寸微小。正性光刻膠用于 MEMS 制造過(guò)程中的光刻步驟，可在硅片等材料上制作出高精度的微結(jié)構(gòu)，確保 MEMS 器件的功能實(shí)現(xiàn)。

負(fù)性光刻膠半導(dǎo)體材料選吉田，歐盟認(rèn)證，支持定制化解決方案！

厚板光刻膠

• 電路板制造：在制作對(duì)線(xiàn)路精度和抗蝕刻性能要求高的電路板時(shí)，厚板光刻膠可確保線(xiàn)路的精細(xì)度和穩(wěn)定性，比如汽車(chē)電子、工業(yè)控制等領(lǐng)域的電路板，能承受復(fù)雜環(huán)境和大電流、高電壓等工況。
• 功率器件制造：像絕緣柵雙極晶體管（IGBT）這類(lèi)功率器件，需要承受高電壓和大電流，厚板光刻膠可用于其芯片制造過(guò)程中的光刻環(huán)節(jié)，保障芯片內(nèi)部電路的精細(xì)布局，提高器件的性能和可靠性。

負(fù)性光刻膠

• 半導(dǎo)體制造：在芯片制造過(guò)程中，用于制作一些對(duì)精度要求高、圖形面積較大的結(jié)構(gòu)，如芯片的金屬互連層、接觸孔等。通過(guò)負(fù)性光刻膠的曝光和顯影工藝，能實(shí)現(xiàn)精確的圖形轉(zhuǎn)移，確保芯片各部分之間的電氣連接正常。
• 平板顯示制造：在液晶顯示器（LCD）和有機(jī)發(fā)光二極管顯示器（OLED）的制造中，用于制作電極、像素等大面積圖案。以 LCD 為例，負(fù)性光刻膠可幫助形成液晶層與玻璃基板之間的電極圖案，控制液晶分子的排列，從而實(shí)現(xiàn)圖像顯示。

光刻膠廠家推薦吉田半導(dǎo)體，23 年研發(fā)經(jīng)驗(yàn)，全自動(dòng)化生產(chǎn)保障品質(zhì)！青島3微米光刻膠國(guó)產(chǎn)廠家

1. 產(chǎn)品特點(diǎn)：耐溶劑型優(yōu)良，抗潮耐水性好，耐印率高；固含量高，流平性好，涂布性能優(yōu)良；經(jīng)特殊乳化聚合技術(shù)處理，網(wǎng)版平滑、無(wú)白點(diǎn)、無(wú)沙眼、亮度高；剝膜性好，網(wǎng)版可再生使用；解像性、高架橋性好，易做精細(xì)網(wǎng)點(diǎn)和線(xiàn)條；感光度高，曝光時(shí)間短，曝光寬容度大，節(jié)省網(wǎng)版作業(yè)時(shí)間，提高工作效率 。
2. 應(yīng)用范圍：適用于塑料、皮革、標(biāo)牌、印刷電路板（PCB）、廣告宣傳、玻璃、陶瓷、紡織品等產(chǎn)品的印刷。例如在塑料表面形成牢固圖案，滿(mǎn)足皮革制品精細(xì)印刷需求，制作各類(lèi)標(biāo)牌保證圖案清晰，用于 PCB 制造滿(mǎn)足高精度要求等。