“納米制造”路線圖強調了未來納米表面制造的發展。問卷調查探尋了納米表面制備所面臨的機遇。調查中提出的問題旨在獲取納米表面特征的相關信息：這種納米表面結構可以是形貌化、薄膜化的改良表面區域，也可以是具有相位調制或一定晶粒尺寸的涂層。這類結構構建于眾多固體材料表面，如金屬、陶瓷、玻璃、半導體和聚合物等。總結了調查結果與發現，并闡明了未來納米表面制造的前景。納米表面可產生自材料的消解、沉積、改性或形成過程。這導致制備出的納米表面帶有納米尺度所特有的新的化學、物理和生物特性（比如催化作用、磁性質、電性質、光學性質或抗細菌性）。在納米科學許多已有的和新興的子領域中，表面工程已經實現了從基礎科學向現實應用的轉變，比如材料科學、光學、微電子學、動力工程學、傳感系統和生物工程學等。在我國，微納制造技術同樣是重點發展方向之一。南充激光微納加工

微納加工技術指尺度為亞毫米、微米和納米量級元件以及由這些元件構成的部件或系統的優化設計、加工、組裝、系統集成與應用技術，涉及領域廣、多學科交叉融合，其較主要的發展方向是微納器件與系統。微納器件與系統是在集成電路制作上發展的系列專門用技術，研制微型傳感器、微型執行器等器件和系統，具有微型化、批量化、成本低的鮮明特點，微納加工技術對現代的生活、生產產生了巨大的促進作用，并催生了一批新興產業。在Si片上形成具有垂直側壁的高深寬比溝槽結構是制備先進MEMS器件的關鍵工藝，其各向異性刻蝕要求非常嚴格。高深寬比的干法刻蝕技術以其刻蝕速率快、各向異性較強、污染少等優點脫穎而出，成為MEMS器件加工的關鍵技術之一。運城微納加工應用微納加工可以實現對微納尺度的能量轉換和傳輸。

ICP刻蝕GaN是物料濺射和化學反應相結合的復雜過程。刻蝕GaN主要使用到氯氣和三氯化硼，刻蝕過程中材料表面表面的Ga-N鍵在離子轟擊下破裂，此為物理濺射，產生活性的Ga和N原子，氮原子相互結合容易析出氮氣，Ga原子和Cl離子生成容易揮發的GaCl2或者GaCl3。光刻（Photolithography)是一種圖形轉移的方法，在微納加工當中不可或缺的技術。光刻是一個比較大的概念，其實它是有多步工序所組成的。1.清洗：清洗襯底表面的有機物。2.旋涂：將光刻膠旋涂在襯底表面。3.曝光。將光刻版與襯底對準，在紫外光下曝光一定的時間。4.顯影：將曝光后的襯底在顯影液下顯影一定的時間，受過紫外線曝光的地方會溶解在顯影液當中。5.后烘。將顯影后的襯底放置熱板上后烘，以增強光刻膠與襯底之前的粘附力。

微納加工的應用領域：微納加工在各個領域都有廣泛的應用，下面將分別介紹其在微電子、光電子、生物醫學和納米材料等領域的應用情況。生物醫學領域：微納加工在生物醫學領域的應用也越來越多，主要用于生物芯片制造、生物傳感器制造、生物成像等方面。通過微納加工技術，可以實現對生物樣品的高通量分析、高靈敏度檢測和高分辨率成像，為生物醫學研究和臨床診斷提供了重要工具。納米材料領域：微納加工在納米材料領域的應用也非常重要，主要用于納米材料的制備、納米器件的制造等方面。通過微納加工技術，可以制造出納米顆粒、納米線、納米薄膜等納米材料，實現對納米材料的精確控制和調控。微納加工包括光刻、磁控濺射、電子束蒸鍍、濕法腐蝕、干法腐蝕、表面形貌測量等!

真空鍍膜技術一般分為兩大類，即物理的氣相沉積技術和化學氣相沉積技術。物理的氣相沉積技術是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，直接沉積到基體表面上的方法。制備硬質反應膜大多以物理的氣相沉積方法制得，它利用某種物理過程，如物質的熱蒸發，或受到離子轟擊時物質表面原子的濺射等現象，實現物質原子從源物質到薄膜的可控轉移過程。物理的氣相沉積技術具有膜/基結合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應用的靶材普遍、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩定的合金膜和重復性好等優點。微納加工中的每一個步驟都需要精細的測量和精確的操作，以確保后期產品的質量和精度。六安微納加工技術

微納加工可以制造出非常節能和環保的器件和結構，這使得電子產品可以具有更高的節能性和環保性。南充激光微納加工

微納加工是一種利用微納技術對材料進行加工和制造的方法，其發展趨勢主要包括以下幾個方面：自動化生產：微納加工技術可以實現自動化的生產，例如利用機器人和自動化設備可以實現微納器件的自動化加工和制造。未來的發展趨勢是進一步提高微納加工技術的自動化水平，以提高生產的效率和質量。應用拓展：微納加工技術可以應用于多個領域，例如電子、光電、生物醫學、能源等領域。未來的發展趨勢是進一步拓展微納加工技術的應用領域，以滿足不同領域的需求。南充激光微納加工