甩干機的工作原理主要基于物理學中的離心力原理。當晶圓被置于甩干機的旋轉軸上，并以高速旋轉時，晶圓及其表面附著的水分、化學溶液等會受到向外的離心力作用。這個離心力的大小與旋轉速度的平方成正比，與旋轉半徑成正比。因此，隨著旋轉速度的增加，離心力也會急劇增大。具體來說，晶圓甩干機的工作原理可以分為以下幾個步驟：裝載晶圓：將待處理的晶圓放入甩干機的夾具中，確保晶圓固定穩定。這一步驟至關重要，因為晶圓的穩定性和固定性直接影響到甩干效果。加速旋轉：啟動甩干機，晶圓開始高速旋轉。通常，旋轉速度可以達到數千轉每分鐘（RPM），甚至更高。旋轉速度的選擇取決于晶圓的尺寸、材料以及所需的干燥效果。甩干過程：在高速旋轉下，晶圓表面的液體由于離心力的作用被甩離晶圓表面，飛向甩干機的內壁。同時，排水系統會將被甩離的水分和化學溶液等迅速排出設備外部。這一步驟是晶圓甩干機的Core  function 功能所在，通過離心力實現晶圓表面的快速干燥。減速停止：甩干過程完成后，甩干機逐漸減速直至停止。然后取出干燥的晶圓，進行后續的工藝流程。在晶圓清洗工藝后，甩干機能夠快速將晶圓表面的清洗液甩干，為后續加工做好準備。安徽SRD甩干機源頭廠家

晶圓甩干機性能特點：

高潔凈度：采用高純度的去離子水和惰性氣體氮氣，以及高效的過濾系統，能夠有效去除晶圓表面的顆粒、有機物和金屬離子等雜質，確保晶圓的高潔凈度。

高精度控制：可以精確控制旋轉速度、沖洗時間、干燥時間、氮氣流量和溫度等參數，滿足不同工藝要求，保證晶圓干燥的一致性和重復性。

高效節能：通過優化設計和先進的控制技術，實現了快速干燥，縮短了加工時間，提高了生產效率，同時降低了能源消耗。

自動化程度高：具備自動化操作功能，能夠實現晶圓的自動上下料、清洗、干燥等工序，減少了人工干預，提高了生產效率和產品質量，降低了勞動強度和人為因素造成的誤差。

兼容性強：可通過更換不同的轉子或夾具，適應2英寸-8英寸等不同尺寸的晶圓加工，還能兼容硅晶圓、砷化鎵、碳化硅、掩膜版、太陽能電池基片等多種材料的片子。 上海碳化硅甩干機實驗室場景：生物樣本、化學試劑脫水，滿足科研實驗的高精度需求。

甩干機干燥方式及配套系統離心式為主的甩干機：大多數晶圓甩干機采用離心式干燥原理，通過高速旋轉產生離心力去除晶圓表面水分。一些先進的離心式甩干機還配備了良好的通風系統、加熱系統等輔助干燥裝置。如在甩干過程中通入加熱的氮氣，不僅可以加速水分蒸發，還能防止晶圓表面氧化和污染，使晶圓干燥得更徹底、更均勻，進一步提高了工作效率和產品質量.其他干燥方式：除離心式外，還有氣流式、真空式等干燥方式的晶圓甩干機。氣流式甩干機通過強制氣流將水分吹離晶圓表面，其優點是對晶圓表面損傷較小，但甩干效果相對離心式稍弱，工作效率也略低；真空式甩干機則通過真空吸附將水分甩出，在甩干效果和損傷程度上較為均衡，不過其設備結構相對復雜，成本較高，且工作效率受真空系統性能影響較大.

甩干機兼容性guang 泛，適應不同尺寸的晶圓。能夠兼容不同尺寸的晶圓，從較小的研發用晶圓尺寸到主流的大規模生產用晶圓尺寸都能處理。例如，對于150mm、200mm和300mm等常見尺寸的晶圓，設備可以通過調整一些參數或更換部分配件來實現兼容。適配多種工藝要求：可以滿足各種芯片制造工藝對晶圓干燥的需求，無論是傳統的集成電路制造工藝，還是新興的微機電系統（MEMS）、化合物半導體等工藝，都能通過適當的參數調整提供合適的干燥解決方案。雙腔甩干機配備智能感應系統，自動平衡衣物分布，減少震動噪音。

晶圓甩干機應用領域：

半導體制造：在半導體芯片制造過程中，晶圓經過光刻、蝕刻、清洗等工藝后，需要使用晶圓甩干機進行快速干燥，以避免晶圓表面的水分和雜質對后續工藝造成影響，提高芯片的成品率和性能。

光電器件制造：如發光二極管（LED）、激光二極管（LD）、光電探測器等光電器件的生產中，晶圓甩干機用于清洗和干燥晶圓，確保光電器件的光學性能和穩定性。

傳感器制造：在壓力傳感器、溫度傳感器、加速度傳感器等傳感器的制造過程中，晶圓甩干機可對晶圓進行清洗和干燥處理，保證傳感器的精度和可靠性。 設備內部設有專門的防液濺裝置，防止甩出的液體對周圍環境造成污染。芯片甩干機批發

雙腔甩干機高速旋轉時保持穩定，避免因不平衡導致的停機。安徽SRD甩干機源頭廠家

作為半導體制造重要設備，晶圓甩干機利用離心力快速干燥晶圓。當晶圓置于旋轉組件，電機啟動產生強大離心力，液體克服附著力從晶圓表面甩出。其結構設計精良，旋轉平臺平整度高，承載晶圓并保證其在高速旋轉時不偏移。驅動電機動力足且調速范圍廣，滿足不同工藝需求。控制系統操作簡便，可設定多種參數。在實際生產中，清洗后的晶圓經甩干機處理，有效避免因液體殘留引發的各種問題，如腐蝕、圖案變形等，確保后續工藝順利，提高生產效率與芯片良品率。安徽SRD甩干機源頭廠家