在失效分析的有損分析中，打開封裝是常見操作，通常有三種方法。全剝離法會將集成電路完全損壞，留下完整的芯片內部電路。但這種方法會破壞內部電路和引線，導致無法進行電動態分析，適用于需觀察內部電路靜態結構的場景。局部去除法通過特定手段去除部分封裝，優點是開封過程不會損壞內部電路和引線，開封后仍可進行電動態分析，能為失效分析提供更豐富的動態數據。自動法則是利用硫酸噴射實現局部去除，自動化操作可提高效率和精度，不過同樣屬于破壞性處理，會對樣品造成一定程度的損傷。

熱紅外顯微鏡在 SiC/GaN 功率器件檢測中，量化評估襯底界面熱阻分布。顯微熱紅外顯微鏡售價

在電子領域，所有器件都會在不同程度上產生熱量。器件散發一定熱量屬于正常現象，但某些類型的缺陷會增加功耗，進而導致發熱量上升。

在失效分析中，這種額外的熱量能夠為定位缺陷本身提供有用線索。熱紅外顯微鏡可以借助內置攝像系統來測量可見光或近紅外光的實用技術。該相機對波長在3至10微米范圍內的光子十分敏感，而這些波長與熱量相對應，因此相機獲取的圖像可轉化為被測器件的熱分布圖。通常，會先對斷電狀態下的樣品器件進行熱成像，以此建立基準線；隨后通電再次成像。得到的圖像直觀呈現了器件的功耗情況，可用于隔離失效問題。許多不同的缺陷在通電時會因消耗額外電流而產生過多熱量。例如短路、性能不良的晶體管、損壞的靜電放電保護二極管等，通過熱紅外顯微鏡觀察時會顯現出來，從而使我們能夠精細定位存在缺陷的損壞部位。 實時成像熱紅外顯微鏡成像儀熱紅外顯微鏡可捕捉物體熱輻射，助力電子元件熱分布與散熱性分析。

近年來，非制冷熱紅外顯微鏡價格呈下行趨勢。在技術進步層面，國內紅外焦平面陣列芯片技術不斷突破，像元間距縮小、陣列規模擴大，從早期的 17μm、384×288 發展到如今主流的 12μm 像元，1280 ×1 024、1920 × 1080 陣列規模實現量產，如大立科技等企業推動技術升級，提升生產效率，降低單臺設備成本。同時，國產化進程加速，多家本土廠商崛起，如我司推出非制冷型鎖相紅外顯微鏡，打破進口壟斷格局，市場競爭加劇，促使產品價格更加親民。

熱紅外顯微鏡與光學顯微鏡雖同屬微觀觀測工具，但在原理、功能與應用場景上存在明顯差異，尤其在失效分析等專業領域各有側重。

從工作原理看，光學顯微鏡利用可見光（400-760nm 波長）的反射或透射成像，通過放大樣品的物理形態（如結構、顏色、紋理）呈現細節，其主要是捕捉 “可見形態特征”；而熱紅外顯微鏡則聚焦 3-10μm 波長的紅外熱輻射，通過檢測樣品自身發射的熱量差異生成熱分布圖，本質是捕捉 “不可見的熱信號”。

在主要功能上，光學顯微鏡擅長觀察樣品的表面形貌、結構缺陷（如裂紋、變形），適合材料微觀結構分析、生物樣本觀察等；熱紅外顯微鏡則專注于微觀熱行為解析，能識別因電路缺陷、材料熱導差異等產生的溫度異常，即使是納米級的微小熱點（如半導體芯片的漏電區域）也能精確捕捉，這是光學顯微鏡無法實現的。

從適用場景來看，光學顯微鏡是通用型觀測工具，廣泛應用于基礎科研、教學等領域；而熱紅外顯微鏡更偏向專業細分場景，尤其在半導體失效分析中，可定位短路、虛焊等隱性缺陷引發的熱異常，在新材料研發中能分析不同組分的熱傳導特性，為解決 “熱相關問題” 提供關鍵依據。 熱紅外顯微鏡支持芯片、電路板等多類電子元件熱檢測。

紅外顯微鏡（非熱紅外）與熱紅外顯微鏡應用領域各有側重。前者側重成分分析，在材料科學中用于檢測復合材料界面成分、涂層均勻性及表面污染物；生物醫藥領域可識別生物組織中蛋白質等分子分布，輔助診斷；地質學和考古學中能鑒定礦物組成與文物顏料成分；食品農業領域則用于檢測添加劑、農藥殘留及農作物成分。熱紅外顯微鏡聚焦溫度與熱特性研究，電子半導體領域可定位芯片熱點、評估散熱性能；材料研究中測試熱分布均勻性與熱擴散系數；生物醫藥領域監測細胞代謝熱分布及組織熱傳導；工業質檢能檢測機械零件隱形缺陷，評估電池充放電溫度變化。二者應用有交叉，但分別為成分分析與熱特性研究。熱紅外顯微鏡對集成電路進行熱檢測，排查內部隱藏故障 。制冷熱紅外顯微鏡探測器

評估 PCB 走線布局、過孔設計對熱分布的影響，指導散熱片、導熱膠的選型與 placement。顯微熱紅外顯微鏡售價

熱紅外顯微鏡（Thermal EMMI) 圖像分析是通過探測物體自身發出的紅外輻射，將其轉化為可視化圖像，進而分析物體表面溫度分布等信息的技術。其原理是溫度高于零度的物體都會向外發射紅外光，熱紅外顯微鏡通過吸收這些紅外光，利用光電轉換將其變為溫度圖像。物體內電荷擾動會產生遠場輻射和近場輻射，近場輻射以倏逝波形式存在，強度隨遠離物體表面急劇衰退，通過掃描探針技術可散射近場倏逝波，從而獲取物體近場信息，實現超分辨紅外成像。顯微熱紅外顯微鏡售價

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