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IC熱紅外顯微鏡設備

來源: 發布時間:2025-07-13

致晟光電的熱紅外顯微鏡(Thermal EMMI)系列 ——RTTLIT P10 實時瞬態鎖相熱分析系統,搭載非制冷型熱紅外成像探測器,采用鎖相熱成像(Lock-In Thermography)技術,通過調制電信號大幅提升特征分辨率與檢測靈敏度,具備高靈敏度、高性價比的突出優勢。該系統鎖相靈敏度可達 0.001℃,顯微分辨率可達 5μm,分析速度快且檢測精度高,重點應用于電路板失效分析領域,可多用于適配 PCB、PCBA、大尺寸主板、分立元器件、MLCC 等產品的維修檢測場景。 熱紅外顯微鏡的 AI 智能分析模塊,自動標記異常熱斑并匹配歷史失效數據庫。IC熱紅外顯微鏡設備

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ThermalEMMI(熱紅外顯微鏡)是一種先進的非破壞性檢測技術,主要用于精細定位電子設備中的熱點區域,這些區域通常與潛在的故障、缺陷或性能問題密切相關。該技術可在不破壞被測對象的前提下,捕捉電子元件在工作狀態下釋放的熱輻射與光信號,為工程師提供關鍵的故障診斷線索和性能分析依據。在諸如復雜集成電路、高性能半導體器件以及精密印制電路板(PCB)等電子組件中,ThermalEMMI能夠快速識別出異常發熱或發光的區域,幫助工程師迅速定位問題根源,從而及時采取有效的維修或優化措施。高分辨率熱紅外顯微鏡方案國產熱紅外顯微鏡憑借自主研發軟件,具備時域重構等功能,提升檢測效率。

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RTTLITP20 熱紅外顯微鏡憑借多元光學物鏡配置,構建從宏觀到納米級的全尺度熱分析能力,靈活適配多樣檢測需求。Micro廣角鏡頭可快速覆蓋大尺寸樣品整體熱分布,如整塊電路板、大型模組的散熱趨勢,高效完成初步篩查;0.13~0.3x變焦鏡頭通過連續倍率調節,適配芯片封裝體、傳感器陣列等中等尺度器件熱分析,兼顧整體熱場與局部細節;0.65X~0.75X變焦鏡頭提升分辨率,解析芯片內部功能單元熱交互,助力定位封裝散熱瓶頸;3x~4x變焦鏡頭深入微米級結構,呈現晶體管陣列、引線鍵合點等細微部位熱分布;8X~13X變焦鏡頭聚焦納米尺度,捕捉微小短路點、漏電流區域等納米級熱點的微弱熱信號,滿足先進制程半導體高精度分析需求。

多段變焦與固定倍率結合的設計,實現宏觀到微觀熱分析平滑切換,無需頻繁更換配件,大幅提升半導體失效分析、新材料熱特性研究等領域的檢測效率與精細度。

致晟光電自主研發的熱紅外顯微鏡 Thermal EMMI P系列,是電子工業中不可或缺的精密檢測工具,在半導體芯片、先進封裝技術、功率電子器件以及印刷電路板(PCB)等領域的失效分析中發揮著舉足輕重的作用。

該設備搭載——實時瞬態鎖相紅外熱分析(RTTLIT)系統,并集成高靈敏度紅外相機、多倍率可選顯微鏡鏡頭、精確高低壓源表等技術組件,賦予其三大特性:超凡靈敏度與亞微米級檢測精度,可捕捉微弱熱信號與光子發射;高精度溫度測量能力(鎖相靈敏度達0.001℃),支持動態功耗分析;無損故障定位特性,無需破壞器件即可鎖定短路、開路等缺陷。憑借技術集成優勢,ThermaEMMIP系列不僅能快速定位故障點,更能通過失效分析優化產品質量與可靠性,為半導體制造、先進封裝及電子器件研發提供關鍵技術支撐。 熱紅外顯微鏡可對不同材質的電子元件進行熱特性對比分析 。

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熱紅外顯微鏡(Thermal EMMI)的突出優勢一:

熱紅外顯微鏡(Thermal emmi )能夠檢測到極其微弱的熱輻射和光發射信號,其靈敏度通常可以達到微瓦甚至納瓦級別。同時,它還具有高分辨率的特點,能夠分辨出微小的熱點區域,分辨率可以達到微米甚至納米級別。具備極高的探測靈敏度,能夠捕捉微瓦級甚至納瓦級的熱輻射與光發射信號,適用于識別早期故障及微小異常。同時,該技術具有優異的空間分辨能力,能夠準確定位尺寸微小的熱點區域,其分辨率可達微米級,部分系統也已經可實現納米級識別。通過結合熱圖像與光發射信號分析,熱紅外顯微鏡為工程師提供了精細、直觀的診斷工具,大幅提升了故障排查與性能評估的效率和準確性。 熱紅外顯微鏡可模擬器件實際工作溫度測試,為產品性能評估提供真實有效數據。自銷熱紅外顯微鏡市場價

熱紅外顯微鏡在電子產品研發階段,輔助優化熱管理方案 。IC熱紅外顯微鏡設備

非制冷熱紅外顯微鏡基于微測輻射熱計,無需低溫制冷裝置,具有功耗低、維護成本低等特點,適合長時間動態監測。其通過鎖相熱成像等技術優化后,雖靈敏度(通常 0.01-0.1℃)和分辨率(普遍 5-20μm)略遜于制冷型,但性價比更高,。與制冷型對比,非制冷型無需制冷耗材,適合 PCB、PCBA 等常規電子元件失效分析;而制冷型(如 RTTLIT P20)靈敏度達 0.1mK、分辨率低至 2μm,價格高,多用于半導體晶圓等檢測。非制冷熱紅外顯微鏡在中低端工業檢測領域應用較多。IC熱紅外顯微鏡設備

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