適用場景的分野,進一步凸顯了二者(微光顯微鏡&熱紅外顯微鏡)的互補價值。在邏輯芯片、存儲芯片的量產檢測中,微光顯微鏡通過對細微電缺陷的篩查,助力提升產品良率,降低批量報廢風險;而在功率器件、車規芯片的可靠性測試中,熱紅外顯微鏡對熱分布的監測,成為驗證產品穩定性的關鍵環節。實際檢測中,二者常組合使用:微光顯微鏡定位電缺陷后,熱紅外顯微鏡可進一步分析該缺陷是否引發異常發熱,形成 “光 - 熱” 聯動的全維度分析,為企業提供更佳的故障診斷依據。氧化層漏電及多晶硅晶須引發電流異常時,會產生光子,使微光顯微鏡下出現亮點。制造微光顯微鏡品牌排行在故障分析領域,微光顯微鏡(EmissionMicroscop...
在半導體芯片的精密檢測領域,微光顯微鏡與熱紅外顯微鏡如同兩把功能各異的 “利劍”,各自憑借獨特的技術原理與應用優勢,在芯片質量管控與失效分析中發揮著不可替代的作用。二者雖同服務于芯片檢測,但在邏輯與適用場景上的差異,使其成為互補而非替代的檢測組合。從技術原理來看,兩者的 “探測語言” 截然不同。 微光顯微鏡是 “光子的捕捉者”,其重心在于高靈敏度的光子傳感器,能夠捕捉芯片內部因電性能異常釋放的微弱光信號 —— 這些信號可能來自 PN 結漏電時的電子躍遷,或是柵氧擊穿瞬間的能量釋放,波長多集中在可見光至近紅外范圍。 通過與光譜儀聯用,可分析光子的光譜信息,為判斷缺陷類型提供更多...
在故障分析領域,微光顯微鏡(EmissionMicroscope,EMMI)是一種極具實用價值且效率出眾的分析工具。其功能是探測集成電路(IC)內部釋放的光子。在IC元件中,電子-空穴對(ElectronHolePairs,EHP)的復合過程會伴隨光子(Photon)的釋放。具體可舉例說明:當P-N結施加偏壓時,N區的電子會向P區擴散,同時P區的空穴也會向N區擴散,隨后這些擴散的載流子會與對應區域的載流子(即擴散至P區的電子與P區的空穴、擴散至N區的空穴與N區的電子)發生EHP復合,并在此過程中釋放光子。但歐姆接觸和部分金屬互聯短路時,產生的光子十分微弱,難以被微光顯微鏡偵測到,借助近紅外光進...
隨著器件尺寸的逐漸變小,MOS器件的溝道長度也逐漸變短。短溝道效應也愈發嚴重。短溝道效應會使得MOS管的漏結存在一個強電場,該電場會對載流子進行加速,同時賦予載流子一個動能,該載流子會造成中性的Si原子被極化,產生同樣帶有能量的電子與空穴對,這種電子與空穴被稱為熱載流子,反映在能帶圖中就是電位更高的電子和電位更低的空穴。一部分熱載流子會在生成后立馬復合,產生波長更短的熒光,另一部分在電場的作用下分離。電子進入柵氧層,影響閾值電壓,空穴進入襯底,產生襯底電流。歸因于短溝道效應能在MOS管的漏端能看到亮點,同樣在反偏PN結處也能產生強場,也能觀察到亮點。其搭載的圖像增強算法,能強化微弱光子信號,減...
半導體企業購入微光顯微鏡設備,是提升自身競爭力的關鍵舉措,原因在于芯片測試需要找到問題點 —— 失效分析。失效分析能定位芯片設計缺陷、制造瑕疵或可靠性問題,直接決定產品良率與市場口碑。微光顯微鏡憑借高靈敏度的光子探測能力,可捕捉芯片內部微弱發光信號,高效識別漏電、熱失控等隱性故障,為優化生產工藝、提升芯片性能提供關鍵數據支撐。在激烈的市場競爭中,快速完成失效分析意味著縮短研發周期、降低返工成本,同時通過提升產品可靠性鞏固客戶信任,這正是半導體企業在技術迭代與市場爭奪中保持優勢的邏輯。支持離線數據分析,可將檢測圖像導出后進行深入處理,不占用設備的實時檢測時間。國產微光顯微鏡設備制造 當芯片內部...
失效分析是指通過系統的檢測、實驗和分析手段,探究產品或器件在設計、生產、使用過程中出現故障、性能異?;蚴У母驹?,進而提出改進措施以預防同類問題再次發生的技術過程。它是連接產品問題與解決方案的關鍵環節,**在于精細定位失效根源,而非*關注表面現象。在半導體行業,失效分析具有不可替代的應用價值,貫穿于芯片從研發到量產的全生命周期。 在研發階段,針對原型芯片的失效問題(如邏輯錯誤、漏電、功耗過高等),通過微光顯微鏡、探針臺等設備進行失效點定位,結合電路仿真、材料分析等手段,可追溯至設計缺陷(如布局不合理、時序錯誤)或工藝參數偏差,為芯片設計優化提供直接依據;在量產環節,當出現批量性失...
同時,微光顯微鏡(EMMI)帶來的高效失效分析能力,能大幅縮短研發周期。在新產品研發階段,快速發現并解決失效問題,可避免研發過程中的反復試錯,加快產品從實驗室走向市場的速度。當市場需求瞬息萬變時,更快的研發響應速度意味著企業能搶先推出符合市場需求的產品,搶占市場先機。例如,在當下市場 5G 芯片、AI 芯片等領域,技術迭代速度極快,誰能更早解決研發中的失效難題,誰就能在技術競爭中爭先一步,建立起差異化的競爭優勢。氧化層漏電及多晶硅晶須引發電流異常時,會產生光子,使微光顯微鏡下出現亮點。檢測用微光顯微鏡聯系人 致晟光電作為專注于微光顯微鏡與熱紅外顯微鏡應用的技術團隊,設備在微小目標定位、熱分布...
這一技術不僅有助于快速定位漏電根源(如特定晶體管的柵氧擊穿、PN結邊緣缺陷等),更能在芯片量產階段實現潛在漏電問題的早期篩查,為采取針對性修復措施(如優化工藝參數、改進封裝設計)提供依據,從而提升芯片的長期可靠性。例如,某批次即將交付的電源管理芯片在出廠前的EMMI抽檢中,發現部分芯片的邊角區域存在持續穩定的微弱光信號。結合芯片的版圖設計與工藝參數分析,確認該區域的NMOS晶體管因柵氧層局部厚度不足導致漏電。技術團隊據此對這批次芯片進行篩選,剔除了存在漏電隱患的產品,有效避免了缺陷芯片流入市場后可能引發的設備功耗異常、發熱甚至燒毀等風險。介電層漏電時,微光顯微鏡可檢測其光子定位位置,保障電子器...
隨著器件尺寸的逐漸變小,MOS器件的溝道長度也逐漸變短。短溝道效應也愈發嚴重。短溝道效應會使得MOS管的漏結存在一個強電場,該電場會對載流子進行加速,同時賦予載流子一個動能,該載流子會造成中性的Si原子被極化,產生同樣帶有能量的電子與空穴對,這種電子與空穴被稱為熱載流子,反映在能帶圖中就是電位更高的電子和電位更低的空穴。一部分熱載流子會在生成后立馬復合,產生波長更短的熒光,另一部分在電場的作用下分離。電子進入柵氧層,影響閾值電壓,空穴進入襯底,產生襯底電流。歸因于短溝道效應能在MOS管的漏端能看到亮點,同樣在反偏PN結處也能產生強場,也能觀察到亮點。靜電放電破壞半導體器件時,微光顯微鏡偵測其光...
漏電是芯片另一種常見的失效模式,其誘因復雜多樣,既可能源于晶體管長期工作后的老化衰減,也可能由氧化層存在裂紋等缺陷引發。 與短路類似,芯片內部發生漏電時,漏電路徑中會伴隨微弱的光發射現象——這種光信號的強度往往遠低于短路產生的光輻射,對檢測設備的靈敏度提出了極高要求。EMMI憑借其的微光探測能力,能夠捕捉到漏電產生的極微弱光信號。通過對芯片進行全域掃描,可將漏電區域以可視化圖像的形式清晰呈現,使工程師能直觀識別漏電位置與分布特征。 針對氮化鎵等寬禁帶半導體,它能適應其寬波長探測需求,助力寬禁帶器件的研發與應用。顯微微光顯微鏡成像在半導體 MEMS 器件檢測領域,微光顯微鏡憑借...
需要失效分析檢測樣品,我們一般會在提前做好前期的失效背景調查和電性能驗證工作,能夠為整個失效分析過程找準方向、提供依據,從而更高效、準確地找出芯片失效的原因。 1.失效背景調查收集芯片型號、應用場景、失效模式(如短路、漏電、功能異常等)、失效比例、使用環境(溫度、濕度、電壓)等。確認失效是否可復現,區分設計缺陷、制程問題或應用不當(如過壓、ESD)。 2.電性能驗證使用自動測試設備(ATE)或探針臺(ProbeStation)復現失效,記錄關鍵參數(如I-V曲線、漏電流、閾值電壓偏移)。對比良品與失效芯片的電特性差異,縮小失效區域(如特定功能模塊)。 我司自主研發的桌面級設備其...
企業用戶何如去采購適合自己的設備? 功能側重的差異,讓它們在芯片檢測中各司其職。微光顯微鏡的 “專長” 是識別電致發光缺陷,對于邏輯芯片、存儲芯片等高密度集成電路中常見的 PN 結漏電、柵氧擊穿、互連缺陷等細微電性能問題,它能提供的位置信息,是芯片失效分析中定位 “電故障” 的工具。 例如,在 7nm 以下先進制程芯片的檢測中,其高靈敏度可捕捉到單個晶體管異常產生的微弱信號,為工藝優化提供關鍵依據。 熱紅外顯微鏡則更關注 “熱失控” 風險,在功率半導體、IGBT 等大功率器件的檢測中表現突出。這類芯片工作時功耗較高,散熱性能直接影響可靠性,短路、散熱通道堵塞等問題會導致局...
在半導體芯片的精密檢測領域,微光顯微鏡與熱紅外顯微鏡如同兩把功能各異的 “利劍”,各自憑借獨特的技術原理與應用優勢,在芯片質量管控與失效分析中發揮著不可替代的作用。二者雖同服務于芯片檢測,但在邏輯與適用場景上的差異,使其成為互補而非替代的檢測組合。從技術原理來看,兩者的 “探測語言” 截然不同。 微光顯微鏡是 “光子的捕捉者”,其重心在于高靈敏度的光子傳感器,能夠捕捉芯片內部因電性能異常釋放的微弱光信號 —— 這些信號可能來自 PN 結漏電時的電子躍遷,或是柵氧擊穿瞬間的能量釋放,波長多集中在可見光至近紅外范圍。 我司微光顯微鏡可檢測 TFT LCD 面板及 PCB/PCBA...
同時,我們誠摯歡迎各位客戶蒞臨蘇州實驗室進行深入交流。在這里,我們的專業技術團隊將為您詳細演示微光顯微鏡、熱紅外顯微鏡的全套操作流程,從基礎功能到高級應用,一一講解其中的技術原理與操作技巧。針對您在設備選型、使用場景、技術參數等方面的疑問,我們也會給予細致入微的解答,讓您對失效分析領域掌握設備優勢與適用范圍。 這種面對面的深度溝通,旨在讓合作過程更加透明,讓您對我們的產品與服務更有信心,合作也更顯安心。 我司設備面對閘極氧化層缺陷,微光顯微鏡可檢測其漏電,助力及時解決相關問題,避免器件性能下降或失效。低溫熱微光顯微鏡貨源充足 需要失效分析檢測樣品,我們一般會在提前做好前期的失效背景...
失效背景調查就像是為芯片失效分析開啟 “導航系統”,能幫助分析人員快速了解芯片的基本情況,為后續工作奠定基礎。收集芯片型號是首要任務,不同型號的芯片在結構、功能和特性上存在差異,這是開展分析的基礎信息。同時,了解芯片的應用場景也不可或缺,是用于消費電子、工業控制還是航空航天等領域,不同的應用場景對芯片的性能要求不同,失效原因也可能大相徑庭。 失效模式的收集同樣關鍵,短路、漏電、功能異常等不同的失效模式,指向的潛在問題各不相同。比如短路可能是由于內部線路故障,而漏電則可能與芯片的絕緣性能有關。失效比例的統計也有重要意義,如果同一批次芯片失效比例較高,可能暗示著設計缺陷或制程問題;如果只...
當芯片內部存在漏電缺陷,如結漏電、氧化層漏電時,電子-空穴對復合會釋放光子,微光顯微鏡(EMMI)能捕捉并定位。對于載流子復合異常情況,像閂鎖效應、熱電子效應引發的失效,以及器件在飽和態晶體管、正向偏置二極管等工作狀態下的固有發光,它也能有效探測,為這類與光子釋放相關的失效提供關鍵分析依據。 而熱紅外顯微鏡則主要用于排查與熱量異常相關的芯片問題。金屬互聯短路、電源與地短接會導致局部過熱,其可通過檢測紅外輻射差異定位。對于高功耗區域因設計缺陷引發的電流集中導致的熱分布異常,以及封裝或散熱結構失效造成的整體溫度異常等情況,它能生成溫度分布圖像,助力找出熱量異常根源。 半導體失效分析中,微...
失效分析是指通過系統的檢測、實驗和分析手段,探究產品或器件在設計、生產、使用過程中出現故障、性能異常或失效的根本原因,進而提出改進措施以預防同類問題再次發生的技術過程。它是連接產品問題與解決方案的關鍵環節,**在于精細定位失效根源,而非*關注表面現象。在半導體行業,失效分析具有不可替代的應用價值,貫穿于芯片從研發到量產的全生命周期。 在研發階段,針對原型芯片的失效問題(如邏輯錯誤、漏電、功耗過高等),通過微光顯微鏡、探針臺等設備進行失效點定位,結合電路仿真、材料分析等手段,可追溯至設計缺陷(如布局不合理、時序錯誤)或工藝參數偏差,為芯片設計優化提供直接依據;在量產環節,當出現批量性失...
致晟光電將熱紅外顯微鏡(Thermal EMMI)與微光顯微鏡 (EMMI) 集成的設備,在維護成本控制上展現出優勢。對于分開的兩臺設備,企業需配備專門人員分別學習兩套系統的維護知識,培訓內容涵蓋不同的機械結構、光學原理、軟件操作,還包括各自的故障診斷邏輯與校準流程,往往需要數月的系統培訓才能確保人員熟練操作,期間產生的培訓費用、時間成本居高不下。而使用一套集成設備只需一套維護體系,維護人員只需掌握一套系統的維護邏輯與操作規范,無需在兩套差異化的設備間切換學習,培訓周期可縮短近一半,大幅降低了培訓方面的人力與資金投入。微光顯微鏡在 LED 故障分析中作用關鍵,可檢測漏電倒裝、短路倒裝及漏電垂直...
在故障分析領域,微光顯微鏡(EmissionMicroscope,EMMI)是一種極具實用價值且效率出眾的分析工具。其功能是探測集成電路(IC)內部釋放的光子。在IC元件中,電子-空穴對(ElectronHolePairs,EHP)的復合過程會伴隨光子(Photon)的釋放。具體可舉例說明:當P-N結施加偏壓時,N區的電子會向P區擴散,同時P區的空穴也會向N區擴散,隨后這些擴散的載流子會與對應區域的載流子(即擴散至P區的電子與P區的空穴、擴散至N區的空穴與N區的電子)發生EHP復合,并在此過程中釋放光子。我司自主研發的桌面級設備其緊湊的機身設計,可節省實驗室空間,適合在小型研發機構或生產線上靈...
致晟光電作為蘇州本土的光電檢測設備研發制造企業,其本地化服務目前以國內市場為主要覆蓋區域 。尤其在華東地區,依托總部蘇州的地理優勢,對上海、江蘇、浙江等周邊省市實現高效服務。無論是設備的安裝調試,還是售后的故障維修、技術咨詢,都能在短時間內響應,例如在蘇州本地,接到客戶需求后,普遍可在數小時內安排技術人員上門服務。在全國范圍內,致晟光電已通過建立銷售服務網點、與當地經銷商合作等方式,保障本地化服務的覆蓋。在超導芯片檢測中,可捕捉超導態向正常態轉變時的異常發光,助力超導器件的性能優化。半導體微光顯微鏡哪家好致晟光電將熱紅外顯微鏡(Thermal EMMI)與微光顯微鏡 (EMMI) 集成的設備,...
EMMI的本質只是一臺光譜范圍廣,光子靈敏度高的顯微鏡。 但是為什么EMMI能夠應用于IC的失效分析呢? 原因就在于集成電路在通電后會出現三種情況:1.載流子復合;2.熱載流子;3.絕緣層漏電。當這三種情況發生時集成電路上就會產生微弱的熒光,這時EMMI就能捕獲這些微弱熒光,這就給了EMMI一個應用的機會而在IC的失效分析中,我們給予失效點一個偏壓產生熒光,然后EMMI捕獲電流中產生的微弱熒光。原理上,不管IC是否存在缺陷,只要滿足其機理在EMMI下都能觀測到熒光 微光顯微鏡支持寬光譜探測模式,探測范圍從紫外延伸至近紅外,能滿足不同材料的光子檢測,適用范圍更廣。實時成像微光顯微...
致晟光電在推動產學研一體化進程中,積極開展校企合作。公司依托南京理工大學光電技術學院,專注開發基于微弱光電信號分析的產品及應用。雙方聯合攻克技術難題,不斷優化實時瞬態鎖相紅外熱分析系統(RTTLIT),使該系統溫度靈敏度可達0.0001℃,功率檢測限低至1uW,部分功能及參數優于進口設備。此外,致晟光電還與其他高校建立合作關系,搭建起學業-就業貫通式人才孵化平臺。為學生提供涵蓋研發設計、生產實踐、項目管理全鏈條的育人平臺,輸送了大量實踐能力強的專業人才,為企業持續創新注入活力。通過建立科研成果產業孵化綠色通道,高校的前沿科研成果得以快速轉化為實際生產力,實現了高校科研資源與企業市場轉化能力的優...
微光顯微鏡(EMMI)無法探測到亮點的情況: 一、不會產生亮點的故障有歐姆接觸(OhmicContact)金屬互聯短路(MetalInterconnectShort)表面反型層(SurfaceInversionLayer)硅導電通路(SiliconConductingPath)等。 二、亮點被遮蔽的情況有掩埋結(BuriedJunctions)及金屬下方的漏電點(LeakageSitesunderMetal)。此類情況可采用背面觀測模式(backsidemode),但該模式*能探測近紅外波段的發光,且需對樣品進行減薄及拋光處理等。 氧化層漏電及多晶硅晶須引發電流異常時,...
例如,當某批芯片在測試中發現漏電失效時,我們的微光顯微鏡能定位到具體的失效位置,為后續通過聚焦離子束(FIB)切割進行截面分析、追溯至柵氧層缺陷及氧化工藝異常等環節提供關鍵前提。可以說,我們的設備是半導體行業失效分析中定位失效點的工具,其的探測能力和高效的分析效率,為后續問題的解決奠定了不可或缺的基礎。 在芯片研發階段,它能幫助研發人員快速鎖定設計或工藝中的隱患,避免資源的無效投入;在量產過程中,它能及時發現批量性失效的源頭,為生產線調整爭取寶貴時間,降低損失;在產品應用端,它能為可靠性問題的排查提供方向,助力企業提升產品質量和市場口碑。無論是先進制程的芯片研發,還是成熟工藝的量產檢...
對半導體研發工程師而言,排查的過程層層受阻。在逐一排除外圍電路異常、生產工藝制程損傷等潛在因素后,若仍未找到癥結,往往需要芯片原廠介入,通過剖片分析深入探究內核。 然而,受限于專業分析設備的缺乏,再加上芯片內部設計涉及機密,工程師難以深入了解其底層構造,這就導致他們在面對原廠出具的分析報告時,常常陷入 “被動接受” 的局面 —— 既無法完全驗證報告的細節,也難以基于自身判斷提出更具針對性的疑問或補充分析方向。 熱電子與晶格相互作用及閂鎖效應發生時也會產生光子,在顯微鏡下呈現亮點。無損微光顯微鏡哪家好 微光顯微鏡技術特性差異 探測靈敏度方向:EMMI 追求對微弱光子...
對半導體研發工程師而言,排查的過程層層受阻。在逐一排除外圍電路異常、生產工藝制程損傷等潛在因素后,若仍未找到癥結,往往需要芯片原廠介入,通過剖片分析深入探究內核。 然而,受限于專業分析設備的缺乏,再加上芯片內部設計涉及機密,工程師難以深入了解其底層構造,這就導致他們在面對原廠出具的分析報告時,常常陷入 “被動接受” 的局面 —— 既無法完全驗證報告的細節,也難以基于自身判斷提出更具針對性的疑問或補充分析方向。 處理 ESD 閉鎖效應時,微光顯微鏡檢測光子可判斷其位置和程度,為研究機制、制定防護措施提供支持。直銷微光顯微鏡新款 致晟光電始終以客戶需求為重心,兼顧貨源保障方...
此外,可靠的產品質量是企業贏得客戶信任、鞏固市場份額的基礎。通過微光顯微鏡(EMMI)的嚴格檢測,企業能確保交付給客戶的芯片具備穩定的性能和較高的可靠性,減少因產品故障導致的客戶投訴和返工或者退貨風險。這種對質量的堅守,會逐漸積累成企業的品牌口碑,使客戶在選擇供應商時更傾向于信賴具備完善檢測能力的企業,從而增強企業的市場競爭力。 微光顯微鏡不僅是一種檢測工具,更是半導體企業提升產品質量、加快研發進度、筑牢品牌根基的戰略資產。在全球半導體產業競爭日趨白熱化的當今,配備先進的微光顯微鏡設備,將幫助企業在技術創新與市場爭奪中持續領跑,構筑起難以復制的核心競爭力。 我司微光顯微鏡探測芯片封裝...
挑選適配自身的微光顯微鏡 EMMI,關鍵在于明確需求、考量性能與評估預算。先梳理應用場景,若聚焦半導體失效分析,需關注能否定位漏電結、閂鎖效應等缺陷產生的光子;性能層面,探測器是主要考察對象,像 -80℃制冷型 InGaAs 探測器,靈敏度高、波長檢測范圍廣(900 - 1700nm),能捕捉更微弱信號;物鏡分辨率也重要,高分辨率物鏡可清晰呈現微小失效點。操作便捷性也不容忽視,軟件界面友好、具備自動聚焦等功能,能提升工作效率。預算方面,進口設備價格高昂,國產設備性價比優勢凸顯,如部分國產品牌雖價格低 30% 以上,但性能與進口相當,還能提供及時售后??傊?,綜合這些因素,多對比不同品牌、型號設備...
EMMI的本質只是一臺光譜范圍廣,光子靈敏度高的顯微鏡。 但是為什么EMMI能夠應用于IC的失效分析呢? 原因就在于集成電路在通電后會出現三種情況:1.載流子復合;2.熱載流子;3.絕緣層漏電。當這三種情況發生時集成電路上就會產生微弱的熒光,這時EMMI就能捕獲這些微弱熒光,這就給了EMMI一個應用的機會而在IC的失效分析中,我們給予失效點一個偏壓產生熒光,然后EMMI捕獲電流中產生的微弱熒光。原理上,不管IC是否存在缺陷,只要滿足其機理在EMMI下都能觀測到熒光 我司自主研發的桌面級設備其緊湊的機身設計,可節省實驗室空間,適合在小型研發機構或生產線上靈活部署。高分辨率微光顯微...